防眩光玻璃及其制备方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN114262160A(43)申请公布日2022.04.01(21)申请号202111086944.1(22)申请日2021.09.16(71)申请人西实显示高新材料（沈阳）有限公司地址110179辽宁省沈阳市浑南区金仓路12甲-1号(72)发明人邬文波赵成伟(74)专利代理机构深圳市君之泉知识产权代理有限公司44366代理人黄燕霞(51)Int.Cl.C03C15/00(2006.01)B08B11/04(2006.01)权利要求书2页说明书8页附图3页(54)发明名称防眩光玻璃及其制备方法(57)摘要本发明涉及防眩光玻璃及其制备方法，制备防眩光玻璃时，先以不含氟的气体作为清洗气体对玻璃基板进行等离子清洗，通过物理溅射的方式去除玻璃基板表面的薄层材料，既实现了清洗目的，又进行了初步蚀刻，在此基础上，进一步以惰性气体和含氟气体为蚀刻气体对玻璃基板进行等离子蚀刻，通过物理溅射叠加化学反应蚀刻的方式对玻璃基板的表层材料进行去除，由此，在玻璃基板上形成防眩光绒面，得到AG玻璃。相比于传统的湿法刻蚀等工艺，本发明的工艺流程简单，无需制作掩膜，无有害污染物残留，并且，蚀刻效果可控性高，可以制备更为细腻的绒面，使得AG玻璃的粗糙度可以满足不同的需求，光学性能更好。CN114262160ACN114262160A权利要求书1/2页1.一种防眩光玻璃制备方法，所述方法包括步骤：S100，利用第一清洗液对玻璃基板表面进行预清洗以清洗表面污染物；S200，将预清洗后的所述玻璃基板置于真空腔内，开启等离子产生装置，并向真空腔内通入不含氟的气体作为清洗气体，对所述玻璃基板表面进行物理溅射方式的等离子清洗，去除玻璃基板表面的薄层材料获得光滑表面，其中，等离子清洗的工艺参数包括：本底真空度：小于或者等于8×10‑4Pa；工作气压：1.0*10‑1～3Pa；等离子产生装置的电源功率及频率：1.5～5kW，13.56MHz；S300，将等离子清洗后的玻璃基板置于真空腔内，开启等离子产生装置，并开启与所述玻璃基板相连的偏压电源，向所述真空腔内通入包含惰性气体和含氟气体的蚀刻气体，对所述玻璃基板表面进行物理溅射叠加化学反应蚀刻方式的等离子蚀刻，在所述玻璃基板上形成防眩光绒面，其中，等离子刻蚀的工艺参数包括：本底真空度：小于或者等于8×10‑4Pa；工作气压：1～60Pa；等离子产生装置的电源功率及频率：1.5～5kW，13.56MHz；偏压：400～1800V；偏压电源功率以及频率：1.5～4.5kW，13.56MHz；S400，利用第二清洗液对形成防眩光绒面的所述玻璃基板进行清洗，去除蚀刻残留物。2.根据权利要求1所述的防眩光玻璃制备方法，其特征在于，步骤S200中，所述清洗气体为Ar2，流量为150～500sccm。3.根据权利要求1所述的防眩光玻璃制备方法，其特征在于，步骤S200中，所述清洗气体为Ar2和O2的混合气体，二者的配比为10：1～0.75：1；其中，Ar2流量为150～500sccm，O2流量为50～200sccm。4.根据权利要求1所述的防眩光玻璃制备方法，其特征在于，所述步骤S300中，所述蚀刻气体中，所述惰性气体为Ar2，所述含氟气体为CF4，二者的配比为2.5:1～9:1；其中，Ar2流量为90～900sccm，CF4流量为50～300sccm。5.根据权利要求4所述的防眩光玻璃制备方法，其特征在于，步骤S300中，所述蚀刻气体还包括O2，Ar2流量为90～900sccm，CF4流量为50～300sccm，O2流量为0～200sccm。6.根据权利要求1所述的防眩光玻璃制备方法，其特征在于，步骤S200和S300中，所述玻璃基板以预定速度相对于所述等离子产生装置运动；并且，步骤S300中，所述等离子产生装置包括沿所述玻璃基板的运动方向排列的多个。7.根据权利要求1‑6任一项所述的防眩光玻璃制备方法，其特征在于，步骤S100中，所述预清洗方式为采用平板玻璃清洗机或超声波清洗机进行清洗，所述第一清洗液为弱碱性液体。8.根据权利要求1‑6任一项所述的防眩光玻璃制备方法，其特征在于，步骤S400中，所述清洗方式为采用平板玻璃清洗机或超声波清洗机进行清洗，所述第二清洗液为中性液体。9.根据权利要求1‑6任一项所述的防眩光玻璃制备方法，其特征在于，步骤S200和S300中，蚀刻时所述玻璃基板进行直线运动。2CN114262160A权利要求书2/2页10.根据权利要求1‑6任一项所述的防眩光玻璃制备方法，其特征在于，步骤S200和S300中，蚀刻时所述玻璃基板进行圆周转动。11.根据权利要求1‑6任一项所述的防眩光玻璃制备方法，其特征在于，所述玻璃基板的最大尺寸为1200m