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(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN103068186A*(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN103068186103068186A(43)申请公布日2013.04.24(21)申请号201210558289.X(22)申请日2012.12.20(71)申请人深圳市中兴新宇软电路有限公司地址518105广东省深圳市宝安区松岗镇潭头西部工业区A28栋(72)发明人陈小龙郑意(74)专利代理机构深圳市中知专利商标代理有限公司44101代理人孙皓林虹(51)Int.Cl.H05K3/40(2006.01)权权利要求书1页利要求书1页说明书3页说明书3页附图2页附图2页(54)发明名称柔性印制电路板盲孔的制作方法(57)摘要本发明公开了一种柔性印制电路板盲孔的制作方法,要解决的技术问题提高加工盲孔效率,降低成本。本发明的制作方法,包括以下步骤:在基材的覆铜面上贴干膜,曝光显影,使圆孔的覆铜层被裸露,将裸露出来的覆铜层放在蚀刻液中去除掉,使聚酰亚胺层被裸露,采用激光器打孔,第一次在聚酰亚胺层上打孔,频率100-150Hz,能量8-14mj,脉宽10-11ms,第二次在聚酰亚胺层原孔位上打孔,采用频率90-100Hz,能量3-4mj,脉宽4-5ms,得到柔性印制电路板盲孔。本发明与现有技术相比,在柔性印制电路板基材上蚀刻覆铜层开窗,运用激光对中间层聚酰亚胺打孔,露出底面的覆铜层,形成形状规范的盲孔,效率高,成本低。CN103068186ACN10368ACN103068186A权利要求书1/1页1.一种柔性印制电路板盲孔的制作方法,包括以下步骤:一、贴干膜,在基材的覆铜面上贴干膜,热压压力3-5Kg/cm2,速度0.8-1.4m/min,辊轮温度110±10℃;所述基材为双面无胶电解铜,中间的聚酰亚胺层厚20-35μm;二、曝光显影,按盲孔孔径为50~150um对盲孔以外区域曝光,再将圆点干膜在显影溶液中去除并按现有技术清洗干净板面,形成孔径为50~150μm的圆孔,使圆孔位置的覆铜2层被裸露;所述曝光能量40-70j/cm,显影液为NaCO3溶液,体积浓度0.8-1.3%,显影速度0.8-3.0m/min;三、蚀刻,将裸露出来的覆铜层放在蚀刻液中去除掉,使聚酰亚胺层被裸露,蚀刻过程中控制蚀刻溶液的Cu2+含量120~190g/L,酸度1.0~3.0N,温度50±5℃,速度在2.5~3.0m/min;所述蚀刻液体积浓度为含有28-35%的HCl,15~25%的NaClO3,其余为水;四、采用激光器打孔,第一次在聚酰亚胺层上打孔,频率100-150Hz,能量8-14mj,脉宽10-11ms,第二次在聚酰亚胺层原孔位上打孔,采用频率90-100Hz,能量3-4mj,脉宽4-5ms,得到柔性印制电路板盲孔。2.根据权利要求1所述的柔性印制电路板盲孔的制作方法,其特征在于:所述蚀刻后在NaOH溶液中将干膜从覆铜基材表面去除并按现有技术清洗干净,NaOH溶液体积浓度为4~7%,温度50±5℃,速度1.6~2.2m/min。3.根据权利要求1所述的柔性印制电路板盲孔的制作方法,其特征在于:所述干膜由聚乙烯保护膜、光致抗蚀刻膜和载体聚酯薄膜三层膜顺序组合而成。4.根据权利要求1所述的柔性印制电路板盲孔的制作方法,其特征在于:所述双面无胶电解铜,覆铜层厚为12μm。5.根据权利要求1所述的柔性印制电路板盲孔的制作方法,其特征在于:所述蚀刻过程中控制蚀刻溶液的Cu2+含量130g/L,酸度2.0N,温度50℃。6.根据权利要求1所述的柔性印制电路板盲孔的制作方法,其特征在于:所述聚酰亚胺层厚度为20μm时,第一次打孔频率100Hz,能量8mj,脉宽11ms,第二次打孔频率100Hz,能量3mj,脉宽4ms。7.根据权利要求1所述的柔性印制电路板盲孔的制作方法,其特征在于:所述聚酰亚胺层厚度为25μm时,第一次打孔频率100Hz,能量9mj,脉宽11ms,第二次打孔频率90Hz,能量4mj,脉宽5ms。8.根据权利要求1所述的柔性印制电路板盲孔的制作方法,其特征在于:所述聚酰亚胺层厚度为35μm时,第一次打孔频率150Hz,能量14mj,脉宽10ms,第二次打孔频率100Hz,能量4mj,脉宽5ms。9.根据权利要求1所述的柔性印制电路板盲孔的制作方法,其特征在于:所述第一次打孔频率100Hz,能量9mj,脉宽11ms,第二次打孔频率100Hz,能量3mj,脉宽4ms。10.根据权利要求1所述的柔性印制电路板盲孔的制作方法,其特征在于:所述激光2器采用CO2激光器;所述曝光能量60-70j/cm,显影液NaCO3体积浓度0.8-1.1%,显影速度2.2-2.5m/min。2CN103068186A说明书1/3页柔性印制电路板