清洁基板处理装置的方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN111276383A(43)申请公布日2020.06.12(21)申请号201911218767.0(22)申请日2019.12.03(30)优先权数据10-2018-01543972018.12.04KR(71)申请人ASMIP私人控股有限公司地址荷兰阿尔梅勒(72)发明人李学周李学浚金泳心(74)专利代理机构北京市柳沈律师事务所11105代理人焦玉恒(51)Int.Cl.H01J37/32(2006.01)H01L21/02(2006.01)权利要求书3页说明书19页附图28页(54)发明名称清洁基板处理装置的方法(57)摘要一种通过控制基板支撑装置的位置来清洁基板支撑装置周围的盲点的方法，该方法包括相对于环移动基板支撑装置并将清洁气体供应到基板支撑装置的上空间。CN111276383ACN111276383A权利要求书1/3页1.一种清洁包括一个或多个反应器的基板处理装置的方法，其中，每个反应器包括：基板支撑装置；以及围绕基板支撑装置的环，其中，在所述基板支撑装置与环之间存在间隙，并且其中，所述基板支撑装置的上空间经由所述间隙与基板支撑装置的下空间连通，其中，该方法包括：相对于所述环移动基板支撑装置；和向基板支撑装置的上空间供应清洁气体。2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述基板支撑装置相对于所述环的移动包括：将基板支撑装置沿第一方向移动第一预设距离的第一操作；将基板支撑装置沿第二方向移动第一预设距离的第二操作；将基板支撑装置沿第二方向移动第二预设距离的第三操作；以及将基板支撑装置沿第一方向移动第二预设距离的第四操作，其中，所述第二方向与第一方向相反。3.根据权利要求2所述的方法，其中，所述第一方向或第二方向是所述基板支撑装置的厚度方向。4.根据权利要求3所述的方法，其中，所述第一预设距离等于或小于所述基板支撑装置的厚度。5.根据权利要求3所述的方法，其中，所述第二预设距离等于或小于所述环的厚度。6.根据权利要求2所述的方法，其中，所述第一方向或第二方向是所述基板支撑装置的半径方向。7.根据权利要求6所述的方法，其中，所述第一预设距离或第二预设距离是(环的内径-基板支撑装置的外径)/2。8.根据权利要求6所述的方法，其中，所述基板支撑装置相对于所述环的移动包括：将基板支撑装置沿第三方向移动第三预设距离的第五操作；将基板支撑装置沿第四方向移动第三预设距离的第六操作；将基板支撑装置沿第四方向移动第四预设距离的第七操作；以及将基板支撑装置沿第三方向移动第四预设距离的第八操作，其中，所述第三方向与第四方向相反，并且垂直于所述第一方向和第二方向。9.根据权利要求2所述的方法，其中，在所述第一至第四操作中连续地供应清洁气体。10.根据权利要求2所述的方法，其中，在所述第一操作和第二操作之间以及在所述第三操作和第四操作之间供应清洁气体。11.根据权利要求10所述的方法，其中，在所述第一操作之前进一步供应清洁气体，其中，在所述第一操作和第二操作之间以及在所述第三操作和第四操作之间的清洁气体的供应时段小于在第一操作之前的供应时段。12.根据权利要求1所述的方法，还包括在将清洁气体供应到所述基板支撑装置的上空间的操作期间将气体供应到基板支撑装置的下空间，其中，供应到所述下空间的气体防止所述上空间中的清洁气体通过所述间隙进入下空2CN111276383A权利要求书2/3页间。13.根据权利要求1所述的方法，其中，在向所述基板支撑装置的上空间供应清洁气体期间，去除沉积在所述基板支撑装置的侧表面或所述环的内部侧表面上的薄层。14.根据权利要求1所述的方法，其中，每当在一个或多个基板上完成一系列处理或多系列处理时，执行所述方法。15.根据权利要求1的方法，其中，所述方法同时或在不同时间在每个反应器上进行。16.一种清洁包括一个或多个反应器的基板处理装置的方法，其中，每个反应器包括：上主体；基板支撑装置；以及环，其围绕基板支撑装置并布置在基板支撑装置与上主体之间；其中，所述上主体和基板支撑装置形成反应空间，其中，该方法包括：移动所述基板支撑装置以使基板支撑装置的侧表面的一部分或所述环的内部侧表面的一部分暴露于反应空间；和向所述反应空间供应清洁气体。17.根据权利要求16所述的方法，其中，在向所述反应空间供应清洁气体的同时，清洁所述基板支撑装置的侧表面的暴露部分或所述环的内部侧表面的暴露部分。18.一种包括多个反应器的基板处理装置的基板处理方法，其中，每个反应器包括：基板支撑装置；以及围绕基板支撑装置的环，其中，在所述基板支撑装置与环之间存在间隙，其中，所述环的表面在基板支撑装置移动时与基板支撑装置接触，并且安装成经由基板支撑装置的推力而可移动，其中，所述基板处理方法包括：