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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN111364076A(43)申请公布日2020.07.03(21)申请号202010318020.9(22)申请日2020.04.21(71)申请人深圳市板明科技股份有限公司地址518000广东省深圳市宝安区燕罗街道塘下涌社区朗辉路7号2栋101(72)发明人宗高亮谢慈育夏海郝意(74)专利代理机构深圳市精英专利事务所44242代理人冯筠(51)Int.Cl.C25D5/02(2006.01)C25D3/38(2006.01)权利要求书1页说明书7页附图5页(54)发明名称一种盲孔填充电镀铜溶液及其应用(57)摘要本发明提供了一种盲孔填充电镀铜溶液,所述电镀铜溶液中各组分含量如下:硫酸40-120g/L、五水合硫酸铜120-240g/L、氯离子40-80ppm、加速剂0.2-2mL/L、抑制剂10-30mL/L、整平剂1-10mL/L;所述整平剂为由异烟酸类化合物和低聚季胺化合物按照质量比为1:2-2:1的比例复配构成的水溶液,所述整平剂的溶质浓度为10g/L。通过整平剂中的异烟酸类化合物和低聚季胺化合物与电镀铜溶液中的其他成分的相互协同配合作用,有效控制盲孔填充电镀过程,实现盲孔填充后表面呈现较好的平整性,填充的盲孔孔口表面的凹陷或凸起小于5微米。CN111364076ACN111364076A权利要求书1/1页1.一种盲孔填充电镀铜溶液,所述电镀铜溶液中各组分含量如下:硫酸40-120g/L、五水合硫酸铜120-240g/L、氯离子40-80ppm、加速剂0.2-2mL/L、抑制剂10-30mL/L、整平剂1-10mL/L,其特征在于,所述整平剂为由异烟酸类化合物和低聚季胺化合物按照质量比为1:2-2:1的比例复配构成的水溶液,所述整平剂的溶质浓度为10g/L。2.如权利要求1所述的盲孔填充电镀铜溶液,其特征在于,所述低聚季胺化合物的结构式为:其中,R为烷基链,n的取值范围为1-6。3.如权利要求2所述的盲孔填充电镀铜溶液,其特征在于,所述低聚季胺化合物的平均分子量为600-1800。4.如权利要求3所述的盲孔填充电镀铜溶液,其特征在于,所述烷基链的碳链链长范围为5-8。5.如权利要求1至4任一所述的盲孔填充电镀铜溶液,其特征在于,所述异烟酸类化合物为2-氨基异烟酸、2,5-二氯异烟酸、2-(4-甲氧基苯基)异烟酸中的一种。6.如权利要求5所述的盲孔填充电镀铜溶液,其特征在于,所述加速剂为10g/L的醇硫基丙烷磺酸钠水溶液或10g/L的聚二硫二丙烷磺酸钠水溶液。7.如权利要求6所述的盲孔填充电镀铜溶液,其特征在于,所述抑制剂为10g/L的聚乙二醇水溶液、10g/L的聚丙二醇-聚乙二醇-聚丙二醇三嵌段共聚物水溶液、10g/L的环氧乙烷-环氧丙烷嵌段共聚物水溶液中的一种。8.如权利要求7所述的盲孔填充电镀铜溶液,其特征在于,所述抑制剂的分子量为4000-10000。9.一种如权利要求1至8任一所述的盲孔填充电镀铜溶液的应用,其特征在于,应用于类载板盲孔填充。10.一种如权利要求9所述的盲孔填充电镀铜溶液的应用,其特征在于,所述类载板盲孔填充的电镀工艺条件为:电流密度为0.5-5A/dm2,温度为10-40℃。2CN111364076A说明书1/7页一种盲孔填充电镀铜溶液及其应用技术领域[0001]本发明涉及线路板电镀技术领域,尤其是指一种盲孔填充电镀铜溶液及其应用。背景技术[0002]近几年电子产业技术飞速发展,很多电子产品既要有强大的功能,又要有良好的便携性,所以电子产品的体积越来越小,功能越来越集中。而作为电子产品之母的线路板,必然也要根据需要尽量提升线路密度以节省有限的空间,所以线路板线路精细化和轻薄化是必然的趋势。为了使PCB在尺寸、重量减小的情况下,能容纳更多的元器件,线路板在导线宽度、线路间距,孔直径和孔间距,以及导体层和绝缘层的厚度等方面都在不断下降。传统HDI受限于制程技术,最小线宽/线距只能做到40/50微米,现在已不能完全满足要求。因此,比传统HDI堆叠层数更多、线宽线距更小、可以承载更多功能模组的类载板技术成为解决这一问题的选择。[0003]简单说,类载板就是用载板生产技术制作的比HDI更高密度的线路板。类载板采用的半加成法(MSAP)工艺,在基板上进行化学铜并在其上形成抗蚀图形,经过电镀工艺将基板上图形加厚,去除抗蚀图形,然后再经过闪蚀将多余的化学铜层去除,被干膜保护没有进行电镀加厚的区域在差分蚀刻过程中被很快的除去,保留下来的部分形成线路。MSAP的特点是图形形成主要靠电镀和闪蚀。在闪蚀过程中,由于蚀刻的化学铜层非常薄,因此蚀刻时间非常短,对线路侧向的蚀刻比较小。与减成法相比,线路的宽度不会受到电镀铜厚的影响,比较容易控制,