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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN113430598A(43)申请公布日2021.09.24(21)申请号202110992097.9(22)申请日2021.08.27(71)申请人深圳市板明科技股份有限公司地址518000广东省深圳市宝安区燕罗街道塘下涌社区朗辉路7号2栋101(72)发明人宗高亮谢慈育李得志冉光武(74)专利代理机构深圳市精英专利事务所44242代理人谭穗平(51)Int.Cl.C25D3/38(2006.01)H05K3/42(2006.01)权利要求书1页说明书6页附图10页(54)发明名称一种线路板盲孔填充电镀铜溶液及其应用(57)摘要本发明提供了一种线路板盲孔填充电镀铜溶液,所述电镀铜溶液由以下浓度的组分组成:硫酸40‑120g/L、五水合硫酸铜120‑240g/L、氯离子40‑80ppm、加速剂1‑10ppm、抑制剂100‑1000ppm和整平剂10‑100ppm;所述整平剂为由含咪唑基团的2‑巯基苯并噻唑胺类衍生物。电镀铜溶液中的含咪唑基团的2‑巯基苯并噻唑胺类衍生物的整平剂分子在铜表面具有较强的竞争吸附能力,应用时,整平剂中的咪唑官能团、噻唑官能团和胺官能团与电镀铜溶液中的其他成分相互协同配合作用,可实现盲孔填充且电镀完成后面铜较薄。孔径100微米,孔深75微米的盲孔填充完成后表面镀铜厚度可低于15微米。CN113430598ACN113430598A权利要求书1/1页1.一种线路板盲孔填充电镀铜溶液,其特征在于,所述电镀铜溶液由以下浓度的组分组成:硫酸40‑120g/L、五水合硫酸铜120‑240g/L、氯离子40‑80ppm、加速剂1‑10ppm、抑制剂100‑1000ppm和整平剂10‑100ppm;所述整平剂为含咪唑基团的2‑巯基苯并噻唑胺类衍生物。2.如权利要求1所述的线路板盲孔填充电镀铜溶液,其特征在于,所述含咪唑基团2‑巯基苯并噻唑胺类衍生物的结构式为:,其中,R为或或。3.如权利要求1或2任一所述的线路板盲孔填充电镀铜溶液,其特征在于,所述加速剂为醇硫基丙烷磺酸盐或聚二硫二丙烷磺酸盐。4.如权利要求3所述的线路板盲孔填充电镀铜溶液,其特征在于,所述醇硫基丙烷磺酸盐为醇硫基丙烷磺酸钠,所述聚二硫二丙烷磺酸盐为聚二硫二丙烷磺酸钠。5.如权利要求1或2任一所述的线路板盲孔填充电镀铜溶液,其特征在于,所述抑制剂为聚乙二醇、聚丙二醇‑聚乙二醇‑聚丙二醇三嵌段共聚物、环氧乙烷‑环氧丙烷嵌段共聚物中的一种。6.如权利要求5所述的线路板盲孔填充电镀铜溶液,其特征在于,所述抑制剂的分子量为4000‑10000。7.一种权利要求1至6任一所述的线路板盲孔填充电镀铜溶液的应用,其特征在于,应用于印制线路板盲孔填充。8.如权利要求7所述的线路板盲孔填充电镀铜溶液的应用,其特征在于,所述盲孔填充的电镀工艺条件为:电镀温度为10‑40℃,电流密度为0.5‑5A/dm2。2CN113430598A说明书1/6页一种线路板盲孔填充电镀铜溶液及其应用技术领域[0001]本发明涉及线路板电镀技术领域,尤其是指一种线路板盲孔填充电镀铜溶液及其应用。背景技术[0002]印制线路板是重要的电子部件,是电子元器件的支撑体,是电子元器件电气连接的载体,它几乎应用于所有电子产品中。[0003]近几年电子产业技术飞速发展,很多电子产品既要有强大的功能,又要有良好的便携性,所以电子产品的体积越来越小,功能越来越集中,促使作为其载体的印制线路板朝着高密度互连方向发展,高密度互连(HighDensityInterconnectBoard,HDI)印制线路板应运而生。HDI板是在印制线路板中引入微小导通孔和精细线路技术,经逐层叠加线路层和绝缘层,制作出常规多层线路板无法实现的多层、薄型、稳定和高密度化的印制线路板。微小导通孔和精细线路技术相结合是实现印制线路板高密度化的前提。[0004]微小导通孔(包括通孔、盲孔、埋孔)实现HDI板层与层之间电气互连。[0005]精细线路方面,HDI采用的半加成法制作工艺,首先先在带铜基板上进行孔金属化、通孔电镀和填孔电镀,再压膜并进行图形电镀,剥膜后以差分蚀刻的方式将底铜蚀刻掉,形成精密线路。在蚀刻过程中,各个方向的蚀刻速率不同,导致线路的上底宽和下底宽不可避免地存在一定差异,此现象即为侧蚀。侧蚀现象越不明显,线路的横截面越接近矩形,侧蚀现象越严重,线路品质越差,类似于梯形。[0006]现在HDI最小线宽/线距要做到40/50微米甚至更小的情况下,单纯依靠蚀刻技术的提升制作精细线路成本高昂。尽量减小表面铜的厚度减小线路蚀刻的难度对线路制作有很大帮助,减小填孔后表面铜的厚度成了线路板填孔电镀追求的方向。而现有的用于传统HDI盲孔填充的电镀添加剂,填充的HDI