显示面板的制作方法和显示面板.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN113054149A(43)申请公布日2021.06.29(21)申请号202110287203.3(22)申请日2021.03.17(71)申请人昆山国显光电有限公司地址215300江苏省苏州市昆山市开发区龙腾路1号4幢(72)发明人金玉李磊陆蕴雷王恩来黄丽丽马明冬(74)专利代理机构北京远智汇知识产权代理有限公司11659代理人范坤坤(51)Int.Cl.H01L51/56(2006.01)H01L51/52(2006.01)H01L27/32(2006.01)权利要求书1页说明书8页附图10页(54)发明名称显示面板的制作方法和显示面板(57)摘要本发明实施例公开了一种显示面板的制作方法和显示面板。显示面板的制作方法包括：提供衬底，在所述衬底上形成驱动电路层并图案化，并在所述透光区位置露出部分所述衬底；在所述驱动电路层上形成平坦化层；对所述平坦化层进行图案化，并在所述透光区位置减薄处理或全部保留所述平坦化层、减薄或全部保留位于所述盲孔内的平坦化层；在所述平坦化层上形成阳极；在形成阳极后，去除位于所述透光区的平坦化层。与现有技术相比，本发明实施例避免了对透光区的衬底表面直接进行等离子体处理等制程，使得衬底表面能够保持其原本的光滑度，有利于光线在盲孔处进行镜面反射，减少漫反射的发生，从而提升了盲孔处衬底的光线透过率。CN113054149ACN113054149A权利要求书1/1页1.一种显示面板的制作方法，所述显示面板具有透光区、围绕所述透光区的显示区，其特征在于，包括：提供衬底，在所述衬底上形成驱动电路层并图案化，并在所述透光区位置露出部分所述衬底；在所述驱动电路层上形成平坦化层；对所述平坦化层进行图案化，以形成阳极过孔，并在所述透光区位置减薄处理或全部保留所述平坦化层；在所述平坦化层上形成阳极；在形成阳极后，去除位于所述透光区的平坦化层。2.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，对所述平坦化层进行图案化包括：采用半色调掩膜版刻蚀所述平坦化层，以在形成阳极过孔的同时减薄位于所述透光区的平坦化层。3.根据权利要求2所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述半色调掩膜版包括全透区、不透区和半透区；所述全透区对应所述阳极过孔，所述半透区对应所述透光区，所述不透区对应所述阳极过孔和所述透光区以外的区域。4.根据权利要求3所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述半色调掩膜版包括衬底和位于所述衬底上的透光调整材料；所述衬底的材料包括氧化硅，所述半透区的透光调整材料包括氧化铬，所述不透区的透光调整材料包括铬。5.根据权利要求3所述的显示面板的制作方法，其特征在于，通过调整所述半透区的光透过率来调整减薄的所述透光区的平坦化层的厚度。6.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，减薄位于所述透光区的平坦化层后剩余的所述平坦化层的厚度范围为0.1μm～0.2μm。7.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，在所述平坦化层上形成阳极之后，还包括：在所述阳极上依次形成像素定义层、支撑柱、发光层和阴极；其中，所述阴极覆盖所述发光层和所述支撑柱；在形成所述阴极之后，去除位于所述透光区的平坦化层。8.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，去除位于所述透光区的平坦化层的工艺包括：干灰化工艺；可选地，所述干灰化工艺采用的气体包括六氟化硫和氧气。9.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，在所述驱动电路层和所述透光区形成所述平坦化层的工艺包括：涂布工艺。10.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板由权利要求1‑9任一项所述的显示面板的制作方法制作而成。2CN113054149A说明书1/8页显示面板的制作方法和显示面板技术领域[0001]本发明实施例涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板的制作方法和显示面板。背景技术[0002]随着显示技术的不断发展，显示面板的应用越来越广泛，显示面板的扩展功能也越来越多。例如，需要在显示面板中集成摄像头、传感器等器件。此时，需要在显示面板中设置盲孔(即透光区)，以容纳摄像头、传感器等器件。然而，现有的显示面板的制作工艺在形成盲孔时，会导致盲孔处的衬底(例如，玻璃)表面粗糙，影响了光线在盲孔处的传输。发明内容[0003]本发明实施例提供一种显示面板的制作方法和显示面板，以提升盲孔处衬底的光线透过率。[0004]为实现上述技术目的，本发明实施例提供了如下技术方案：[0005]一种显示面板的制作方法，所述显示面板具有透光区、围绕所述透光区的显示区，制作方法包括：[0006]提供衬底，在所述衬底上形成驱动电路层并图案化，并在所述透光区位置露出部分所述衬底；[0007]在所述驱动电路层上形成