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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN103502889103502889A(43)申请公布日2014.01.08(21)申请号201280021079.5G03F7/004(2006.01)(22)申请日2012.06.13G03F7/023(2006.01)G03F7/40(2006.01)(30)优先权数据2011-1334272011.06.15JP(85)PCT国际申请进入国家阶段日2013.10.29(86)PCT国际申请的申请数据PCT/JP2012/0038462012.06.13(87)PCT国际申请的公布数据WO2012/172793JA2012.12.20(71)申请人日立化成杜邦微系统股份有限公司地址日本东京(72)发明人峰岸知典加藤木茂树(74)专利代理机构永新专利商标代理有限公司72002代理人王灵菇白丽(51)Int.Cl.G03F7/085(2006.01)C08G73/22(2006.01)权权利要求书2页利要求书2页说明书26页说明书26页附图1页附图1页(54)发明名称感光性树脂组合物、使用了该树脂组合物的图案固化膜的制造方法以及电子部件(57)摘要一种感光性树脂组合物,其含有:(a)聚苯并噁唑前体、(b)感光剂、(c)溶剂、(d)交联剂、和(e)在分子内具有羟基、烷氧基或羧基的杂环状化合物。CN103502889ACN1035289ACN103502889A权利要求书1/2页1.一种感光性树脂组合物,其含有:(a)聚苯并噁唑前体、(b)感光剂、(c)溶剂、(d)交联剂、和(e)在分子内具有羟基、烷氧基或羧基的杂环状化合物。2.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物,其中,所述(a)成分具有由下述通式(I)表示的结构单元,通式(I)中,U为2价的有机基团、单键、-O-或-SO2-,V表示2价的有机基团;至少V为包含碳原子数为1~30的脂肪族结构的基团、或U为包含构成主链的碳原子数为2~30的脂肪族结构的基团。3.根据权利要求1或2所述的感光性树脂组合物,其中,所述(e)成分为具有咪唑、三唑或噻唑中的任意一种环的化合物。4.根据权利要求1~3中任一项所述的感光性树脂组合物,其中,所述(e)成分为由下述通式(II)~(VIII)表示的化合物中的任意一种,通式(II)~(VIII)中,X分别独立地为羟基、碳原子数为1~6的烷氧基或羧基;Y为选自单键、-O-、-SO2-、2价的有机基团中的基团;R分别独立地为碳原子数为1~10的烷基;n为R基团的个数,在通式(III)以及(IV)中表示0~4的整数,在通式(V)、(VI)、(VII)以及(VIII)中表示0~3的整数。5.根据权利要求4所述的感光性树脂组合物,其中,所述(e)成分为由所述通式(III)表示的化合物。6.根据权利要求1~5中任一项所述的感光性树脂组合物,其中,所述(d)成分为具有羟甲基或烷氧基烷基的化合物。7.根据权利要求1~6中任一项所述的感光性树脂组合物,其中,所述(b)成分为在光2CN103502889A权利要求书2/2页的作用下产生酸或自由基的化合物。8.一种图案固化膜的制造方法,其包括下述工序:将权利要求1~7中任一项所述的感光性树脂组合物涂布在支撑基板上并干燥,形成感光性树脂膜的工序;将通过所述涂布、干燥工序得到的感光性树脂膜曝光成规定的图案的工序;使用碱水溶液使所述曝光后的感光性树脂膜显影的工序;以及对所述显影后的感光性树脂膜进行加热处理的工序。9.根据权利要求8所述的图案固化膜的制造方法,其中,在对所述显影后的感光性树脂膜进行加热处理的工序中,其加热处理温度为250℃以下。10.根据权利要求8所述的图案固化膜的制造方法,其中,在对所述显影后的感光性树脂膜进行加热处理的工序中,其加热处理温度为200℃以下。11.一种层间绝缘膜,其通过权利要求8~10中任一项所述的图案固化膜的制造方法得到。12.一种表面保护膜,其通过权利要求8~10中任一项所述的图案固化膜的制造方法得到。13.一种电子部件,其具有权利要求11或12所述的层间绝缘膜或表面保护膜。3CN103502889A说明书1/26页感光性树脂组合物、使用了该树脂组合物的图案固化膜的制造方法以及电子部件技术领域[0001]本发明涉及感光性树脂组合物、使用了该树脂组合物的图案固化膜的制造方法以及电子部件,特别是涉及高温高湿条件下的密合性、耐热性以及耐化学品性优异、能得到良好形状的图案的感光性树脂组合物、使用了该树脂组合物的图案固化膜的制造方法以及电子部件。背景技术[0002]以往,半导体元件的表面保护膜以及层间绝缘膜中使用兼具优异的耐热性、电特性和机械特性等的聚酰亚胺。近年来,已使用对聚酰亚胺自身赋予感光特性的感