片材涂覆和压延系统及方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN111295550A(43)申请公布日2020.06.16(21)申请号201880072641.4(74)专利代理机构中国专利代理(香港)有限公司720(22)申请日2018.08.3001代理人危凯权陈浩然(30)优先权数据15/7009462017.09.11US(51)Int.Cl.F21V5/02(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日F21V8/00(2006.01)2020.05.09(86)PCT国际申请的申请数据PCT/US2018/0488472018.08.30(87)PCT国际申请的公布数据WO2019/050768EN2019.03.14(71)申请人杜尔系统公司地址美国密西根州(72)发明人A.凯尔C.汤普森J.赫特克A.哈斯尔E.梅基权利要求书2页说明书13页附图11页(54)发明名称片材涂覆和压延系统及方法(57)摘要用于涂覆基底(诸如可用作电池电极的基底)的双侧涂覆系统和方法。在某些实施例中，系统包括联机压延器站，其定位在基底的重绕器与干燥器之间；即，定位在干燥器的下游(在基底(或片材)行进的方向上)和重绕器的上游。在某些实施例中，压延器操作紧接着定位在干燥器的下游；没有诸如真空干燥器之类的处理基底的中间设备定位在干燥器与压延器之间。此类系统和方法的优点包括：与单侧涂覆操作相比，两倍的生产能力；与串联涂覆线相比，较小的设备占地面积；与串联涂覆线相比，较低的资金成本和操作成本；以及关于基底中褶皱的较少问题。CN111295550ACN111295550A权利要求书1/2页1.一种用于在单程中涂覆基底的第一侧和第二侧的系统，包括：a.第一涂覆器，所述第一涂覆器用于向所述基底的第一侧施加第一涂覆层；b.第二涂覆器，所述第二涂覆器用于向所述基底的第二侧施加第二涂覆层；c.干燥器，所述干燥器在所述第二涂覆器的下游，所述干燥器用于干燥所述第一涂覆层和所述第二涂覆层，使得所述第一涂覆层和所述第二涂覆层保留预定水平的残留水分；d.压延器，所述压延器定位在所述干燥器的下游，所述压延器用于压延所述第一涂覆层和所述第二涂覆层。2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述压延器紧接在所述干燥器的下游。3.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述基底是金属箔。4.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述第一侧与所述第二侧相反。5.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述第一涂覆层包括活性电极材料。6.根据权利要求5所述的系统，其特征在于，所述活性电极材料包括锂。7.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述预定水平的残留水分对于在所述基底上用由所述压延器施加的压延力实现目标涂层厚度是有效的，所述压延力小于在高于所述预定水平的残留水分水平下所需的力。8.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述基底从所述干燥器前进到所述压延器，而不经受脱机干燥时期。9.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述基底从所述干燥器前进到所述压延器，而不经受脱机真空干燥。10.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述干燥器是浮动式干燥器。11.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述系统还包括二次干燥器，所述二次干燥器在所述压延器的下游。12.根据权利要求10所述的系统，其特征在于，所述二次干燥器是浮花式干燥器。13.一种在单程中涂覆基底的第一侧和第二侧的方法，包括：a.用第一涂覆器向所述基底的第一侧施加第一涂覆层；b.用第二涂覆器向所述基底的第二侧施加第二涂覆层；c.在定位于所述第一涂覆器和所述第二涂覆器下游的浮动式干燥器中非接触地干燥所述第一涂覆层和所述第二涂覆层，使得所述第一涂覆层和所述第二涂覆层在离开所述干燥器时保留预定水平的残留水分；d.在所述干燥的下游压延所述涂覆的基底。14.根据权利要求13所述的方法，其特征在于，所述压延器紧接在所述干燥器的下游。15.根据权利要求13所述的方法，其特征在于，所述基底是金属箔。16.根据权利要求13所述的方法，其特征在于，所述第一侧与所述第二侧相反。17.根据权利要求13所述的方法，其特征在于，所述第一涂覆层包括活性电极材料。18.根据权利要求17所述的方法，其特征在于，所述活性电极材料包括锂。19.根据权利要求13所述的方法，其特征在于，所述预定水平的残留水分对于在所述基底上用压延力实现目标涂层厚度是有效的，所述压延力小于在高于所述预定水平的残留水分水平下所需的力。20.根据权利要求13所述的方法，其特征在于，在非接触地干燥所述第一涂覆层和所述2CN111295550A权利要求书2/2页第二涂覆层的步骤与压延步骤之间，所述基底不经受脱机干燥时期。21.根据权利要求13所述的方法，其特征在于，