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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN114235160A(43)申请公布日2022.03.25(21)申请号202111573874.2(22)申请日2021.12.21(71)申请人武汉高芯科技有限公司地址430205湖北省武汉市东湖开发区黄龙山南路6号2号楼(72)发明人黄立洪晓麦沈星(74)专利代理机构北京汇泽知识产权代理有限公司11228代理人徐俊伟(51)Int.Cl.G01J5/02(2022.01)G01J5/061(2022.01)权利要求书1页说明书5页附图4页(54)发明名称杜瓦及红外探测器(57)摘要本发明涉及探测器技术领域,提供了一种杜瓦,包括冷指部件和主体部件,所述冷指部件安装在所述主体部件中,且所述冷指部件包括冷指气缸和焊接在所述冷指气缸上方的冷盘,所述冷指气缸靠近所述冷盘的部位上套设有支撑结构,所述支撑结构固定在所述主体部件上。还提供一种红外探测器,包括上述的杜瓦。本发明在冷指气缸上套设支撑结构,可以在冷指的薄弱颈部进行支撑加固,从而提升支撑强度,进而可以抵抗更高的冲击强度。CN114235160ACN114235160A权利要求书1/1页1.一种杜瓦,包括冷指部件和主体部件,其特征在于:所述冷指部件安装在所述主体部件中,且所述冷指部件包括冷指气缸和焊接在所述冷指气缸上方的冷盘,所述冷指气缸靠近所述冷盘的部位上套设有支撑结构,所述支撑结构固定在所述主体部件上。2.如权利要求1所述的杜瓦,其特征在于:所述支撑结构包括支撑环,所述支撑环的内沿紧贴所述冷指气缸靠近所述冷盘的部位,且所述支撑环的外沿固定在所述主体部件上。3.如权利要求2所述的杜瓦,其特征在于:所述支撑环的外沿和内沿之间设有多根支撑杆。4.如权利要求3所述的杜瓦,其特征在于:所述支撑杆有四根,四根所述支撑杆均匀分布在所述内沿和所述外沿之间的空间中,每一所述支撑杆的截面积控制在0.075~0.115mm2之间。5.如权利要求1所述的杜瓦,其特征在于:所述冷指气缸为变径气缸,所述变径气缸靠近冷盘处的壁厚在0.7~0.9mm之间,靠近冷指根部的壁厚在0.4~0.5mm之间,且所述所述变径气缸的壁厚由冷盘至冷指根部的方向渐小。6.如权利要求1所述的杜瓦,其特征在于:还包括冷头部件,所述冷头部件包括冷屏以及用于将芯片的信号导出的陶瓷条。7.如权利要求1所述的杜瓦,其特征在于:还包括可罩盖在冷头部件上的窗口部件,所述窗口部件包括红外窗片以及用于搁置所述红外窗片的窗框,所述窗框供所述红外窗片搭接的部位的宽度控制在0.34~0.38mm之间。8.如权利要求7所述的杜瓦,其特征在于:所述红外窗片的上方设有压圈,所述压圈的边沿设在所述窗框上。9.如权利要求1所述的杜瓦,其特征在于:还包括信号引出部件,所述信号引出部件包括设于所述主体部件上的金属环,所述金属环外设有将电学信号引出的接插件。10.一种红外探测器,其特征在于:包括如权利要求1‑9任一所述的杜瓦。2CN114235160A说明书1/5页杜瓦及红外探测器技术领域[0001]本发明涉及探测器技术领域,具体为一种杜瓦及红外探测器。背景技术[0002]探测器芯片封装在真空杜瓦中,冷屏组件置于焦平面探测器芯片前起到限制杂散光所用,为保证杜瓦的高真空,冷屏上设计有排气孔,在高温排气时便于将冷屏内部空气排净。然而在探测器实际使用过程中,杜瓦内冷屏外部多余物会从排气孔中进入到冷屏内,出现在红外成像光路中导致画面异常。[0003]另外,红外焦平面探测器由于其灵敏度高、环境适应性好、抗干扰能力强等优点,被广泛应用于国防安全、环境监测等各个方面。随着用户需求的不断提高,对红外探测器抗过载冲击的要求也更加严苛。[0004]目前红外焦平面探测器为提升抗冲击能力,主要采取增加杜瓦悬臂梁结构的冷指部件强度,具体有增粗冷指气缸壁厚、在冷指气缸根部设计加强筋结构、在杜瓦冷头端设计支撑杆等方式。[0005]对于红外图像装备,其在发射的过程中,装备将产生很大的加速度,使装备内的各组件在发射瞬间承受最大到上万个g左右的短时高过载,已有的提升红外探测器抗冲击强度技术无法满足高过载要求。同时按现有技术提升强度后,由于杜瓦冷指壁厚增粗,冷头冷量损失增大导致制冷型红外探测器的开机启动时间变长,严重影响作战能力。发明内容[0006]本发明的目的在于提供一种杜瓦及红外探测器,至少可以解决现有技术中的部分缺陷。[0007]为实现上述目的,本发明实施例提供如下技术方案:一种杜瓦,包括冷指部件和主体部件,所述冷指部件安装在所述主体部件中,且所述冷指部件包括冷指气缸和焊接在所述冷指气缸上方的冷盘,所述冷指气缸靠近所述冷盘的部位上套设有支撑结构,所述支撑结构固定在所述主体部件上。[0008]进一步,所述支撑结构包括支撑环