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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN104011263104011263A(43)申请公布日2014.08.27(21)申请号201280063009.6(74)专利代理机构北京林达刘知识产权代理事(22)申请日2012.12.25务所(普通合伙)11277代理人刘新宇李茂家(30)优先权数据(51)Int.Cl.2011-2838482011.12.26JPC25B11/04(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日2014.06.19(86)PCT国际申请的申请数据PCT/JP2012/0842632012.12.25(87)PCT国际申请的公布数据WO2013/100165EN2013.07.04(71)申请人培尔梅烈克电极股份有限公司地址日本神奈川县(72)发明人曹翊加藤昭博平尾和宏古泽崇权权利要求书1页利要求书1页说明书11页说明书11页附图2页附图2页(54)发明名称氧发生用阳极及其制造方法(57)摘要本发明目的在于提供用于工业电解的氧发生用阳极及其制造方法,工业电解包括制造诸如电解铜箔的电解金属箔、铝液接触、连续电镀锌钢板和金属提取。本发明的特点在于:氧发生用阳极及其制造方法,包括导电性金属基体和在该导电性金属基体上形成的含有氧化铱的催化剂层,其中将涂层在370℃至400℃的低温区域内在氧化气氛中焙烧,以形成含有无定形氧化铱的催化剂层,并将该含有无定形氧化铱的催化剂层在520℃至600℃的更高的温度区域内在氧化气氛中后焙烧,以将该催化剂层中几乎全部量的氧化铱结晶化。CN104011263ACN104263ACN104011263A权利要求书1/1页1.一种氧发生用阳极,其包括导电性金属基体和在该导电性金属基体上形成的含有氧化铱的催化剂层,其中将涂层在370℃至400℃的低温区域内在氧化气氛中焙烧,以形成含有无定形氧化铱的催化剂层,并将所述含有无定形氧化铱的催化剂层在520℃至600℃的更高的温度区域内在氧化气氛中后焙烧,以使催化剂层中几乎全部量的氧化铱结晶化。2.根据权利要求1所述的氧发生用阳极,其包括导电性金属基体和在所述导电性金属基体上形成的含有氧化铱的催化剂层,其中在所述后焙烧之后,所述催化剂层中的氧化铱的结晶度不低于60%。3.根据权利要求1或2所述的氧发生用阳极,其包括导电性金属基体和在所述导电性金属基体上形成的含有氧化铱的催化剂层,其中在所述后焙烧之后,所述催化剂层中的氧化铱的晶体直径不长于8.0nm。4.根据权利要求1-3任一项所述的氧发生用阳极,其包括导电性金属基体和在所述导电性金属基体上形成的含有氧化铱的催化剂层,其中在形成所述催化剂层之前,通过电弧离子镀法在所述导电性金属基体上形成含有钽和钛成分的电弧离子镀底层。5.一种氧发生用阳极的制造方法,所述氧发生用阳极包括导电性金属基体和在该导电性金属基体上形成的含有氧化铱的催化剂层,其中通过在370℃至400℃的低温区域内在氧化气氛中焙烧,来形成含有无定形氧化铱的催化剂层,并将所述含有无定形氧化铱的催化剂层在520℃至600℃的更高的温度区域内在氧化气氛中后焙烧,以使催化剂层中几乎全部量的氧化铱结晶化。6.根据权利要求5所述的氧发生用阳极的制造方法,其中通过在370℃至400℃的低温区域内在氧化气氛中焙烧,在所述导电性金属基体的表面上形成含有无定形氧化铱的催化剂层,并将所述含有无定形氧化铱的催化剂层在520℃至600℃的更高的温度区域内在氧化气氛中后焙烧,以使催化剂层中的氧化铱的结晶度不低于60%。7.根据权利要求5或6所述的氧发生用阳极的制造方法,其中通过在370℃至400℃的低温区域内在氧化气氛中焙烧,在所述导电性金属基体的表面上形成含有无定形氧化铱的催化剂层,并将所述含有无定形氧化铱的催化剂层在520℃至600℃的更高的温度区域内在氧化气氛中后焙烧,以使得所述催化剂层中的氧化铱的晶体直径不长于8.0nm。8.根据权利要求5-7任一项所述的氧发生用阳极的制造方法,所述氧发生用阳极包括导电性金属基体和在所述导电性金属基体上形成的含有氧化铱的催化剂层,其中在形成所述催化剂层之前,通过电弧离子镀法在所述导电性金属基体上形成含有钽和钛成分的电弧离子镀底层。2CN104011263A说明书1/11页氧发生用阳极及其制造方法技术领域[0001]本发明涉及多种工业电解使用的氧发生用阳极及其制造方法;更详细地说,它涉及工业电解使用的耐高负荷的氧发生用阳极及其制造方法,工业电解包括制造诸如电解铜箔的电解金属箔、铝液接触、和连续电镀锌钢板以及金属提取。背景技术[0002]在各种工业电解中经常看到在电解池中混入铅离子。在作为其典型实例的电解铜箔的生产中,铅化合物的混入来源于下列两点,也就是:以