堇青石多孔陶瓷蜂窝体制品.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102918005A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102918005A(43)申请公布日2013.02.06(21)申请号201180026267.2代理人朱黎明(22)申请日2011.05.26(51)Int.Cl.C04B35/195(2006.01)(30)优先权数据12/789,8332010.05.28US(85)PCT申请进入国家阶段日2012.11.27(86)PCT申请的申请数据PCT/US2011/0380302011.05.26(87)PCT申请的公布数据WO2011/150145EN2011.12.01(71)申请人康宁股份有限公司地址美国纽约州(72)发明人缪卫国王建国(74)专利代理机构上海专利商标事务所有限公司31100权利要求书权利要求书3页3页说明书说明书1616页页附图附图66页(54)发明名称堇青石多孔陶瓷蜂窝体制品(57)摘要本文描述了用作微粒过滤器的多孔陶瓷蜂窝体制品及其制造方法。所述多孔陶瓷蜂窝体制品包括烧制的堇青石体。所述烧制的堇青石体在接触微裂条件之前的微裂纹参数（Nb3）为约0.05-0.25。待接触微裂条件后，所述烧制的堇青石体的微裂纹参数（Nb3）与接触微裂条件之前的微裂纹参数相比至少高20％。所述烧制的堇青石体在接触微裂条件之前在约25-800℃内其热膨胀系数（CTE）为约7.0x10-7-15.0x10-7/°C，并且在接触微裂条件之后在约25-800℃内所述热膨胀系数为约1.0x10-7-10.0x10-7/°C。所述微裂纹参数可包括热循环或化学处理。CN102985ACN102918005A权利要求书1/3页1.一种多孔陶瓷蜂窝体制品，其包括：烧制的堇青石体，所述堇青石体在接触微裂条件之前，其微裂纹参数（Nb3）为约0.05-0.25；在接触微裂条件后，所述烧制的堇青石体的微裂纹参数（Nb3）与接触微裂条件之前的微裂纹参数相比至少高20％。2.如权利要求1所述的多孔陶瓷蜂窝体制品，其特征在于，所述微裂条件包括热循环。3.如权利要求2所述的多孔陶瓷蜂窝体制品，其特征在于，在热循环过程中，所述烧制的堇青石体达到至少为400℃的峰值温度。4.如权利要求3所述的多孔陶瓷蜂窝体制品，其特征在于，待所述烧制的堇青石体达到所述峰值温度后，以至少200°C/小时的速率使所述烧制的堇青石体冷却。5.如权利要求2所述的多孔陶瓷蜂窝体制品，其特征在于，在向所述烧制的堇青石体施涂修补基面涂料后进行所述热循环。6.如权利要求1所述的多孔陶瓷蜂窝体制品，其特征在于，所述烧制的堇青石体还具有热膨胀系数（CTE），所述热膨胀系数在接触微裂条件之前在约25-800℃内为约7.0x10-7-15.0x10-7/°C，并且所述热膨胀系数在接触微裂条件之后在约25-800℃内为约1.0x10-7-10.0x10-7/°C。7.如权利要求1所述的多孔陶瓷蜂窝体制品，其特征在于，所述烧制的堇青石体还具有df，所述df在接触微裂条件之前和之后均为小于或等于约0.4，其中df=(d50-d10)/d50。8.如权利要求1所述的多孔陶瓷蜂窝体制品，其特征在于，所述烧制的堇青石体还具有表面孔隙率，所述表面孔隙率在接触微裂条件之前和之后均为约38-45％。9.如权利要求1所述的多孔陶瓷蜂窝体制品，其特征在于，所述烧制的堇青石体由无机组分的批料制得，所述无机组分的批料包括：dpt50≤10微米的滑石、dps50≤20微米的二氧化硅形成源、中值粒径dpa50小于或等于10.0微米的氧化铝形成源和dpp50≤20μm的成孔剂；其中dpp50是成孔剂的中值粒径，dps50是二氧化硅形成源的中值粒径，dpa50是氧化铝形成源的中值粒径，以及dpt50是滑石的中值粒径。10.一种多孔陶瓷蜂窝体制品，其包括：烧制的堇青石体，所述堇青石体在接触微裂条件之前，其微裂纹参数（Nb3）为约-7-70.05-0.25，在约25-800℃热膨胀系数（CTE）为约7.0x10-15.0x10/℃，且df为小于或等于约0.4，其中df＝(d50-d10)/d50；在接触微裂条件后，所述烧制的堇青石体的微裂纹参数（Nb3）比接触微裂条件之前的微裂纹参数至少高20％，在约25-800℃热膨胀系数（CTE）为约1.0x10-7-10.0x10-7/℃，且df为小于或等于约0.4。11.如权利要求10所述的多孔陶瓷蜂窝体制品，其特征在于，所述微裂条件包括热循环。12.如权利要求11所述的多孔陶瓷蜂窝体制品，其特征在于，在热循环过程中，所述烧制的堇青石体达到至少为400℃的峰值温度。13.如权利要求12所述的多孔陶瓷蜂窝体制品，其特征在于，待所述烧制的堇青石体达到所述峰值温度后，以至少200°C/小时的速