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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN111897040A(43)申请公布日2020.11.06(21)申请号202010807605.7(22)申请日2020.08.12(71)申请人常州市日月反光材料有限公司地址213000江苏省常州市钟楼区邹区镇杨庄村(72)发明人陈标(74)专利代理机构北京华际知识产权代理有限公司11676代理人李帅(51)Int.Cl.G02B5/128(2006.01)权利要求书2页说明书12页(54)发明名称一种高强度抗撕裂反光膜及其制备工艺(57)摘要本发明公开了一种高强度抗撕裂反光膜及其制备工艺。首先对树脂进行改性,将改性树脂与消泡剂、抗UV剂、无卤阻燃剂、固化剂、气相二氧化硅混合得到基材,将基材涂覆在PET膜上得到植株膜,将改性微珠涂覆在植株膜上,改性微珠一部分陷入基材,改性微珠另一部分涂覆高纯度金属铝层作为反射层;另取基材涂布于PET膜上成膜,将成膜后的PET膜覆盖在PVC植珠膜上得到复合膜,将复合膜在蜂窝形状的纹路热合机上压合,剥离PET膜,得到蜂窝状反光膜;制备得到的反光膜不仅强度高,不易撕裂,反射度高,不易变色老化,使用寿命长还具有一定的自修复能力,大大延长了反光膜的使用周期,具有非常好的使用性能。CN111897040ACN111897040A权利要求书1/2页1.一种高强度抗撕裂反光膜,其特征在于:所述各原料组分如下:以重量份计,改性微珠30-50份、基材60-80份、反射层30-50份、PVC膜50-70份。2.根据权利要求1所述的一种高强度抗撕裂反光膜,其特征在于:所述改性微珠主要包括改性微珠A、改性微珠B、改性微珠C,改性微珠A、改性微珠B、改性微珠C的质量比例为:2:1:1。3.根据权利要求1所述的一种高强度抗撕裂反光膜,其特征在于:所述基材包括各原料组分如下:以重量份计,改性树脂30-40份、3,3’-二氯-4,4’-二氨基二苯基甲烷10-20份、邻苯二甲酸丁酯15-25份、消泡剂5-10份、抗UV剂5-10份、无卤阻燃剂5-10份、气相二氧化硅6-12份。4.根据权利要求1所述的一种高强度抗撕裂反光膜,其特征在于:所述改性微珠A主要由玻璃微珠、亚氨基二乙酸、甲基丙烯酸缩水甘油酯、2-溴异丁酰溴、二甲基甲酰胺制得。5.根据权利要求2所述的一种高强度抗撕裂反光膜,其特征在于:所述改性微珠B主要包括玻璃微珠、硅烷偶联剂,所述玻璃微珠、硅烷偶联剂的质量比例为(4-6):5。6.根据权利要求2所述的一种高强度抗撕裂反光膜,其特征在于:所述改性微珠C主要由改性微珠B、二甲苯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、六亚甲基二异氰酸酯三聚体、含氟树脂制得。7.根据权利要求3所述的一种高强度抗撕裂反光膜,其特征在于:所述改性树脂包括各原料组分如下:以重量份计,丙烯酸聚氨酯树脂40-60份、聚乙二酸丁二醇酯20-30份、硼酸13-16份、4,4’-二氨基二苯二硫醚16-19份、异氟尔酮二异氰酸酯12-15份、二月桂酸二丁基锡8-13份。8.根据权利要求1所述的一种高强度抗撕裂反光膜,其特征在于,所述反射层为纯度99.99%的金属铝层。9.一种高强度抗撕裂反光膜的制备工艺,其特征在于,包括以下步骤:(1)制备改性玻璃微珠:A.制备改性微珠A;B.制备改性微珠B;C.制备改性微珠C;(2)制备改性树脂;(3)制备基材;(4)制备PVC植株膜;(5)真空镀铝;(6)定型。10.根据权利要求9所述的一种高强度抗撕裂反光膜的制备工艺,其特征在于:具体包括以下步骤:(1)制备改性玻璃微珠:A.制备改性微珠A:a.在去离子水中加入亚氨基二乙酸搅拌溶解,将温度升高至68-82℃,加入甲基丙烯酸缩水甘油酯,于250-350r/min转速条件下搅拌反应3-5h,得溶液A;b.于室温条件下,将玻璃微珠加入到正硅烷中,搅拌均匀,依次加入2-溴异丁酰溴、三乙胺,升高转速至250-350r/min,继续搅拌反应18-20h,得到微珠a;2CN111897040A权利要求书2/2页c.将二甲基甲酰胺加入到去离子水中溶解,氮气保护,依次加入微珠a、溶液A、溴化铜、溴化亚铜、联二吡啶,以150-250r/min转速搅拌反应6-8h,过滤冻干,得到改性微珠A;B.制备改性微珠B:a.在乙醇溶液中加入硅烷偶联剂,搅拌均匀,调节pH值为3-6,于65-85℃条件下,加入玻璃微珠,以150-250r/min转速条件下搅拌反应1-2h,得溶液B;b.取一半溶液B进行过滤、洗涤、干燥,得到改性微珠B;C.制备改性微珠C:将二甲苯、乙酸乙酯加入到乙酸丁酯溶液中,搅拌均匀,加入另一半溶液B,搅拌反应10-20min后依次加入六亚甲基二异氰酸酯、含氟树脂,以50-100r/min转速搅拌反应8-10h,干燥得微珠C