一种PVD真空离子镀膜的方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN101857949A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CNCN101857949101857949A(43)申请公布日2010.10.13(21)申请号201010208324.6(22)申请日2010.06.24(71)申请人吴睿恩地址523850广东省东莞市长安镇长安汽车总站对面长安工业城东莞市泉硕五金加工有限公司(72)发明人吴睿恩(74)专利代理机构东莞市华南专利商标事务所有限公司44215代理人李玉平(51)Int.Cl.C23C14/32(2006.01)权利要求书1页说明书2页(54)发明名称一种PVD真空离子镀膜的方法(57)摘要本发明属于镀膜技术领域，具体涉及一种PVD真空离子镀膜的方法，该种PVD真空离子镀膜的方法，它包括如下制备步骤：（1）对基材进行前处理；（2）将前处理过的基材脱水并烘干；（3）进炉，进行第一次镀膜；（4）出炉，进行网印或胶印，干燥；（5）再次进炉，进行第二次镀膜；（6）用有机溶剂浸泡除去网印或胶印时的油墨；（7）用水清洗，即得成品。本发明在真空离子镀膜的过程中引入了网印或胶印这一步骤，使制得的产品颜色丰富。CN1085794ACN101857949ACCNN110185794901857950A权利要求书1/1页1.一种PVD真空离子镀膜的方法，其特征在于：它包括如下制备步骤：（1）对基材进行前处理；（2）将前处理过的基材脱水并烘干；（3）进炉，进行第一次镀膜；（4）出炉，进行网印或胶印，干燥；（5）再次进炉，进行第二次镀膜；（6）用有机溶剂浸泡除去网印或胶印时的油墨；（7）用水清洗，即得成品。2.根据权利要求1所述的一种PVD真空离子镀膜的方法，其特征在于：所述镀膜和网印可以交替多次进行。3.根据权利要求1所述的一种PVD真空离子镀膜的方法，其特征在于：所述镀膜和胶印可以交替多次进行。4.根据权利要求1所述的一种PVD真空离子镀膜的方法，其特征在于：所述基材为不锈钢、铜或钛。5.根据权利要求1所述的一种PVD真空离子镀膜的方法，其特征在于：所述前处理依次包括除腊超声波清洗、热脱脂、电解除膜。6.根据权利要求1所述的一种PVD真空离子镀膜的方法，其特征在于：镀膜在真空离子镀膜机进行，在通N2的条件下，镀膜时间为2.5-4个小时，镀膜温度为200-350℃。7.根据权利要求1所述的一种PVD真空离子镀膜的方法，其特征在于：镀膜所用的原料为氮化钛、氮碳化钛、氮化钛铝、碳化钛、氮化锆、氮化铪中的一种或任意几种。2CCNN110185794901857950A说明书1/2页一种PVD真空离子镀膜的方法技术领域[0001]本发明属于镀膜技术领域，具体涉及一种PVD真空离子镀膜的方法。背景技术[0002]物理气相沉积（PVD）是通过蒸发，电离或溅射等过程，产生金属粒子并与反应气体反应形成化合物沉积在工件表面。物理气相沉积镀膜技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜。[0003]其中，真空离子镀膜是借助于惰性气体辉光放电，使镀料（如金属钛）气化蒸发离子化，离子经电场加速，以较高能量轰击工件表面，此时如通入CO2，N2等反应气体，便可在工件表面获得TiC、TiN覆盖层，硬度高达2000HV。真空离子镀膜的重要特点是沉积温度只有500℃左右，且覆盖层附着力强。近十多年来，真空离子镀膜技术的发展是最快的，它已经成为当今最先进的表面处理方式之一。[0004]目前，真空离子镀膜的产品颜色单调，只有一种颜色，没有颜色的渐变，没有颜色的组合，也没有通过颜色的变化体现出来的图案。发明内容[0005]本发明的目的之一是提供一种将电镀与网印或胶印相结合的可制备颜色丰富的真空离子镀膜的方法。[0006]本发明的目的是这样实现的。[0007]一种PVD真空离子镀膜的方法，它包括如下制备步骤：（1）对基材进行前处理；（2）将前处理过的基材脱水并烘干；（3）进炉，进行第一次镀膜；（4）出炉，进行网印或胶印，干燥；（5）再次进炉，进行第二次镀膜；（6）用有机溶剂浸泡除去网印或胶印时的油墨；（7）用水清洗，即得成品。[0008]其中，所述镀膜和网印可以交替多次进行。[0009]其中，所述镀膜和胶印可以交替多次进行。[0010]其中，所述基材为不锈钢、铜或钛。[0011]其中，所述前处理依次包括除腊超声波清洗、热脱脂、电解除膜。[0012]其中，镀膜在真空离子镀膜机进行，在通N2的条件下，镀膜时间为2.5-4个小时，镀膜温度为200-350℃。[0013]其中，镀膜所用的原料为氮化钛、氮碳化钛、氮化钛铝、碳化钛、氮化锆、氮化铪中的一种或任意几种。[0014]本发明的有益效果为：该种PVD真空离子镀膜的方法，它包括如下制备步骤：（1）3CCNN11018579490185