真空镀膜(PVD)工艺介绍.pdf

真空镀膜(PVD)工艺介绍真空镀膜(PVD)工艺知识介绍编撰：拟订:张张玉立学章讲解:刘红彪2010年01月20日目目录录1.真空镀膜技术及设备发展;2.真空镀膜的工艺基本流程;3.真空镀膜的工艺特性;4.真空镀膜工艺对素材的适镀性及要求;5.真空镀膜工艺关键技术与先进性;6.真空镀膜新工艺展示;7.东莞劲胜精密组件股份有限公司PVD专利介绍；前言真空镀膜行业兴起背景；随着欧盟RoHS指令的实施及各国针对环保问题纷纷立法。传统高污染之电镀行业已不符合环保要求必将被新兴环保工艺取代。而真空镀膜没有废水、废气等污染在环保上拥有绝对优势必将兴起并普及。1：真空镀膜技术及设备发展1.制膜(或镀膜)方法可以分为气相生成法、氧化法、离子注入法、扩散法、电镀法、涂布法、液相生成法等。气相生成法又可分为物理气相沉积法（简称PVD法）化学气相沉积法和放电聚合法等。我们今天主要介绍的是物理气相沉积法。由于这种方法基本都是处于真空环境下进行的因此称它们为真空镀膜技术。1.1：真空镀膜技术及设备发展2.物理气相沉积法依据制作过程工艺不同又分为真空蒸发镀膜、磁控溅射镀膜和离子镀膜。a.真空蒸发镀膜法：在真空室(镀炉)中加热蒸发容器中待形成薄膜的原材料使其原子或分子从表面气化逸出形成蒸气流入射到固体(待镀产品)表面凝结形成固态薄膜的方法。真空镀膜法示意图样品公转蒸发高真空状态自转加热真空镀膜金属电源回路1.2：真空镀膜技术及设备发展b.离子镀膜法：蒸发源的加热和真空镀膜法相同。由于系统为等离子状态使金属离子在样品表面吸附・成膜。金属离子为高能量状态成膜时具有离子结晶性佳、膜的密着性提高的优点。离子镀膜法示意图金属离子样品公转蒸发等离子状态自转加热真空镀膜金属惰性气体电源回路1.3：真空镀膜技术及设备发展c.溅射镀膜法：给靶材施加高电压（形成等离子状态）使正荷电气体离子撞击靶材、金属原子飞弹而在样品表面形成金属皮膜的方法。溅射镀膜法示意图惰性气体金属靶样品等离子状态S磁因存在磁场等离子状态在金属靶附近停留。场等离子状态和溅射时放N出的γ电子可以保护样Ar+品。磁控管溅射镀膜法2：真空镀膜的工艺基本流程PVD施工流程：素材检检组装治具擦拭产品底涂上下料喷底涂、IR镀膜上下料镀膜（PVD)喷面漆、IR（颜色）