一种自挥发盐釉料的施釉方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102040397A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102040397A(43)申请公布日2011.05.04(21)申请号201010534621.X(22)申请日2010.11.05(71)申请人景德镇陶瓷学院地址333000江西省景德镇市景德镇陶瓷学院(72)发明人刘虎李月明沈宗洋廖润华王竹梅洪燕(74)专利代理机构广州广信知识产权代理有限公司44261代理人李玉峰(51)Int.Cl.C04B41/86(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图4页(54)发明名称一种自挥发盐釉料的施釉方法(57)摘要本发明公开了一种自挥发盐釉料的施釉方法，将盐釉料放置在容器中，与陶瓷坯体一起进窑炉烧制；在烧制过程中，盐釉料自行挥发形成盐釉蒸汽，并覆盖在陶瓷坯体表面经堆积冷却后形成釉层。本发明通过挥发覆盖施釉，流动性小，可最大程度地保留陶瓷制品表面的细节和装饰的精致度。本发明在制作过程中，可以免去传统工艺首先施釉的步骤，大大较低了生产成本，提高了生产效率。同时也可以与传统施釉工艺相结合，对陶瓷坯体进行局部施盐釉，从而大大提高了适用性。CN1024397ACCNN110204039702040400A权利要求书1/1页1.一种自挥发盐釉料的施釉方法，其特征在于包括以下步骤：a.制作陶瓷坯体(2)；b.将盐釉料(1)装入容器(3)，与陶瓷坯体(2)一起摆放进窑炉；装有盐釉料(1)的容器(3)均匀分布在陶瓷坯体(2)之间；c.在1100～1300℃温度下烧成，盐釉料(1)在烧制过程中自行挥发出蒸汽并覆盖在陶瓷坯体(2)表面；d.覆盖的盐釉经冷却后在陶瓷坯体(2)表面形成透明釉层。2.根据权利要求1所述自挥发盐釉的施釉方法，其特征在于：所述盐釉料(1)为氯化钠、氯化钾、碳酸钠、碳酸钾中的一种或几种组合。3.根据权利要求2所述的自挥发盐釉料的施釉方法，其特征在于：所述盐釉料(1)按照重量百分比其原料组成为：氯化钠20～100％、氯化钾0～80％、碳酸钠0～80％、碳酸钾0～80％。4.根据权利要求3所述的自挥发盐釉料的施釉方法，其特征在于：所述盐釉料(1)按照重量百分比其原料组成为：氯化钠20～80％、氯化钾20～80％、碳酸钠0～60％、碳酸钾0～60％。5.根据权利要求4所述的自挥发盐釉料的施釉方法，其特征在于：所述盐釉料(1)按照重量百分比其原料组成为：氯化钠40～60％、氯化钾20～40％、碳酸钠10～30％、碳酸钾10～30％。6.根据权利要求1所述的自挥发盐釉料的施釉方法，其特征在于：所述容器(3)为敞口容器。7.根据权利要求1所述的自挥发盐釉料的施釉方法，其特征在于：所述容器(3)上设置有导向孔(4)。8.根据权利要求7所述的自挥发盐釉料的施釉方法，其特征在于：所述步骤a中制作陶瓷坯体(2)后，先对陶瓷坯体(2)需要的部位施加普通釉料；所述步骤b中容器(3)的导向孔(4)对应陶瓷坯体(2)需要施盐釉蒸汽的部位，盐釉料(1)高温烧制时自行挥发出的蒸汽，通过容器导向孔(4)覆盖在陶瓷坯体(2)所需要的部位。9.根据权利要求1所述的自挥发盐釉料的施釉方法，其特征在于：所述步骤c烧成总用时为1h～10h，其中保温时间为10min～5h。10.根据权利要求1所述的自挥发盐釉料的施釉方法，其特征在于：所述陶瓷坯体(2)通过注浆成型、手工捏制或雕刻工艺制成。2CCNN110204039702040400A说明书1/3页一种自挥发盐釉料的施釉方法技术领域[0001]本发明涉及陶瓷生产技术领域，尤其涉及一种釉料及其施釉方法。背景技术[0002]现有传统的陶瓷制品其制作工艺为，在粘土成型干燥后，在烧制前先施以一层透明釉或浅色釉，然后在1200～1300℃温度下烧成。由于釉在高温下粘度很低，容易流动，从而导致坯体表面的形状或雕刻图案因釉流动而受到破坏，尤其对于颜色丰富多彩的彩色陶瓷工艺品，难以保留陶瓷坯体表面的细节和装饰的精致度，缺乏立体感，视觉平淡呆板，从而在很大程度上影响了陶瓷工艺品的艺术价值。发明内容[0003]本发明的目的在于克服现有技术的不足，提供一种自挥发盐釉料的施釉方法，使得烧制过程中盐釉料可自行挥发而覆盖施釉且流动性低，从而获得立体感强、表面晶莹剔透、装饰效果极佳的陶瓷制品。[0004]本发明的目的通过以下技术方案予以实现：[0005]本发明提供的一种自挥发盐釉料的施釉方法，包括以下步骤：[0006]a.制作陶瓷坯体；[0007]b.将盐釉料装入容器，与陶瓷坯体一起摆放进窑炉；装有盐釉料的容器均匀分布在陶瓷坯体之间；[0008]c.在1100～1300℃温度下烧成，盐釉料在烧制过程中自行挥发出蒸汽并覆盖在陶瓷坯体表面；[0009]d.覆盖的盐釉经冷却后在陶瓷坯体表面形成透明釉层。[