铸造法生产类似单晶硅锭化料加热方法.pdf
Ja****44
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铸造法生产类似单晶硅锭化料加热方法.pdf
本发明公开了一种铸造法生产类似单晶硅锭化料加热方法,涉及硅锭化料加热方法,铸锭炉从室温开始升温至预定的最高温度过程中,采用以下控制措施:a在TC1≤1170摄氏度时,控制ΔT≤800摄氏度;b在TC1达到>1170摄氏度时,控制150摄氏度≤ΔT≤400摄氏度;c当TC1达到预定的最高温度,进入抓晶种阶段。本发明的有益效果在于:通过本方法的运用,在加温过程中,控制温度梯度在陶瓷的材料所能承受的范围内,使晶种固化在炉底,不熔化或漂浮,坩埚不会因为承受过大热应力而开裂。确保生产安全,并可提高生产效益。
铸造法生产类似单晶硅锭炉内加热器改进装置.pdf
本发明公开了一种铸造法生产类似单晶硅锭炉内加热器改进装置,涉及锭炉内加热器加热装置,在GT铸锭炉或四面加顶部加热器的铸锭炉内,将加热器电阻调大,加热器同时向上移动;所述的加热器电阻调大指:加热器电阻由0.03Ω调到0.04~0.08Ω。所述的加热器同时向上移动指:加热器在现有的位置上向上移动5~150mm。本发明的有益效果在于:通过本方法的控制,使晶种固化在炉底,不熔化或漂浮,同时可以进一步降低晶种高度,通过本方法,可将晶种控制在20mm以下。晶种高度的下降,可有效地降低生产成本。
铸造法生产类似单晶硅锭投炉硅料和晶种摆放方法.pdf
本发明公开了一种铸造法生产类似单晶硅锭投炉硅料和晶种摆放方法,涉及投炉硅料和晶种摆放方法,a采用单块重量≤200g的硅料,在晶种之上铺0.5~60cm的厚度;b晶种之间距离≤0.1mm。本发明的有益效果在于:1、通过本方法的控制,可减少晶种引起的缺陷。可有效解决类似单晶大量位错而导致生产效率偏低问题,使得铸锭炉生长类似单晶的光电转化效率提高0.1%左右。2、同时解决类似单晶生产的高成本问题。晶种厚度控制在20mm以下,单炉(约450kg)生产成本可降低1000元以上。
铸造法生产类似单晶硅锭炉底温度控制方法.pdf
本发明公开了一种铸造法生产类似单晶硅锭炉底温度控制方法,涉及锭炉底温度控制方法,在GT或四面加顶面加热器的铸锭炉生长类似单晶过程中,熔化阶段炉底温度控制的方法如下:a当TC1大于1170摄氏度后,控制TC1比TC2高50~350摄氏度;b当TC2在1050~1350摄氏度之间出现快速上升时,即温度上升速摄氏度大于或等于每分钟1摄氏度,此时在TC2到达目标温度1250~1390摄氏度前的2~50摄氏度范围内,开始打开隔热笼进行TC2稳定控制,使TC2升温速率小于0.3摄氏度/分钟,稳定在预定的温度上。本发明
铸造法生产类似单晶硅锭晶种制作方法.pdf
本发明公开了一种铸造法生产类似单晶硅锭晶种制作方法,涉及晶种制作方法,采用的单晶硅晶向为,电阻率≥0.1Ω?cm,极性不限;依次进行以下工序:a.该圆柱状单晶硅的直径选择在130~250mm之间;b.断棱处反切50~350mm;c.采用开方机将单晶硅加工成方棒;d.采用平磨机对方棒四边进行抛光;e.采用截断机将硅单晶切割成每块高度在5~50mm的晶块;f.采用化学抛光或机械抛光,对晶块进行抛光,去除表面损伤层;清洗干净,烘干包装,待用。本发明的有益效果在于:通过本方法的控制,可有效地减少晶种引起的缺陷,使