铸造法生产类似单晶硅锭炉内加热器改进装置.pdf
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本发明公开了一种铸造法生产类似单晶硅锭炉内加热器改进装置,涉及锭炉内加热器加热装置,在GT铸锭炉或四面加顶部加热器的铸锭炉内,将加热器电阻调大,加热器同时向上移动;所述的加热器电阻调大指:加热器电阻由0.03Ω调到0.04~0.08Ω。所述的加热器同时向上移动指:加热器在现有的位置上向上移动5~150mm。本发明的有益效果在于:通过本方法的控制,使晶种固化在炉底,不熔化或漂浮,同时可以进一步降低晶种高度,通过本方法,可将晶种控制在20mm以下。晶种高度的下降,可有效地降低生产成本。
铸造法生产类似单晶硅锭热场梯度改进装置.pdf
本发明公开了一种铸造法生产类似单晶硅锭热场梯度改进装置,涉及硅锭热场装置及材料,在GT铸锭炉或四面及顶部加热器的铸锭炉内,在坩埚护板或坩埚外,设置有4面的保温层。进一步:所述保温层设置于下述位置之一或之二或之三或之四:固定在坩埚护板上,或固定在坩埚与护板之间,或固定在隔热笼上,或固定在加热器上,或固定在导热块上。保温层的设置高度为1~650mm。保温层厚度为0.01~100mm。本发明的有益效果在于:在GT炉或四面及顶部加热器的铸锭炉中采用该装置,可显著改善化料及生长等温曲线;进而可使晶种固化在炉底,不熔
铸造法生产类似单晶硅锭热场梯度改进装置.pdf
本发明公开了一种铸造法生产类似单晶硅锭热场梯度改进装置,涉及硅锭热场装置及材料,在GT铸锭炉或四面及顶部加热器的铸锭炉内,在坩埚护板或坩埚外,设置有4面的保温层。所述保温层设置于下述位置或位置组合:所述保温层设置于下述位置或位置组合:固定在坩埚护板上,或固定在坩埚与护板之间,或固定在隔热笼上,或固定在加热器上,或固定在导热块上。保温层的设置高度为1~650mm。保温层厚度为0.01~100mm。本发明的有益效果在于:通过本方法的控制,可显著改善化料及生长等温曲线;进而可使晶种固化在炉底,不熔化或漂浮,同时
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本发明公开了一种铸造法生产类似单晶硅锭炉内融化后晶种稳定炉底的方法,涉及晶种稳定在炉底的方法,GT多晶铸锭炉或四面加热器加顶部加热器铸锭炉中:a铸锭炉升温熔化过程中,当TC1达到1420摄氏度及以上时,保持TC1稳定,通过打开隔热笼,控制TC2在1200~1350摄氏度,TC2的控制时间在20~500分钟;b第一步完成后,保持TC1稳定,通过控制隔热笼,将TC2提升到1350~1400摄氏度,第二步稳定20~500分钟;c下降TC1至1410~1450摄氏度,进入长晶阶段。本发明的有益效果在于:通过本方法
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本发明公开了一种铸造法生产类似单晶硅锭炉底温度控制方法,涉及锭炉底温度控制方法,在GT或四面加顶面加热器的铸锭炉生长类似单晶过程中,熔化阶段炉底温度控制的方法如下:a当TC1大于1170摄氏度后,控制TC1比TC2高50~350摄氏度;b当TC2在1050~1350摄氏度之间出现快速上升时,即温度上升速摄氏度大于或等于每分钟1摄氏度,此时在TC2到达目标温度1250~1390摄氏度前的2~50摄氏度范围内,开始打开隔热笼进行TC2稳定控制,使TC2升温速率小于0.3摄氏度/分钟,稳定在预定的温度上。本发明