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(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102600775A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102600775A(43)申请公布日2012.07.25(21)申请号201210067750.1(22)申请日2012.03.15(71)申请人中国人民解放军国防科学技术大学地址410073湖南省长沙市砚瓦池正街47号中国人民解放军国防科学技术大学一院CFC重点实验室(72)发明人余金山周新贵高世涛殷刘彦李斌张长瑞(74)专利代理机构湖南兆弘专利事务所43008代理人赵洪杨斌(51)Int.Cl.B01J13/02(2006.01)权利要求书权利要求书1页1页说明书说明书44页页附图附图55页(54)发明名称SiC-石墨烯纳米复合材料及其制备方法(57)摘要本发明公开了一种SiC-石墨烯纳米复合材料及其制备方法,SiC-石墨烯纳米复合材料为外壳包覆内核的核壳型结构,内核为SiC纳米颗粒,外壳为石墨烯组成的纳米石墨。其制备方法包括步骤:(1)先驱体裂解:在化学气相沉积炉中、惰性气体气氛下,将聚合物先驱体加热裂解形成SiC纳米颗粒;(2)化学气相沉积:继续加热使SiC纳米颗粒表面硅原子升华逸出,残余的碳原子重组形成石墨烯碎片,石墨烯碎片通过沉积长大得到SiC-石墨烯纳米复合材料。本发明的SiC-石墨烯纳米复合材料具有优异的物理、化学性质和力学性能,且制备工艺简单、成本低廉、应用范围广。CN102675ACN102600775A权利要求书1/1页1.一种SiC-石墨烯纳米复合材料,其特征在于,所述SiC-石墨烯纳米复合材料为外壳包覆内核的核壳型结构,所述内核为SiC纳米颗粒,所述外壳为石墨烯组成的纳米石墨。2.根据权利要求1所述的SiC-石墨烯纳米复合材料,其特征在于,所述纳米石墨中石墨烯为8层~15层,且沿所述SiC纳米颗粒的径向生长。3.根据权利要求1或2所述的SiC-石墨烯纳米复合材料,其特征在于,所述SiC-石墨烯纳米复合材料为直径100nm~300nm且表面呈羽毛状的球状颗粒。4.一种如权利要求1~3中任一项所述的SiC-石墨烯纳米复合材料的制备方法,包括以下步骤:(1)先驱体裂解:在化学气相沉积炉中、惰性气体气氛下,将聚合物先驱体以5℃/s~10℃/s的增温速度加热至800℃~1200℃,加热过程中保持惰性气体流量为30sccm~50sccm,到温后保温10分钟~50分钟,加热裂解后形成SiC纳米颗粒;(2)化学气相沉积:继续加热将温度升至1300℃~1500℃,惰性气体流量减小至5sccm~10sccm,到温后保温10分钟~60分钟;最后在惰性气体气氛下冷却至室温,冷却过程保持惰性气体流量为5sccm~10sccm,得到SiC-石墨烯纳米复合材料。5.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,所述聚合物先驱体为聚碳硅烷。6.根据权利要求5所述的制备方法,其特征在于,所述聚碳硅烷分子式为:[SiH(CH3)CH2]n,分子量为2000,软化点为180℃~220℃。7.根据权利要求4或5或6所述的制备方法,其特征在于,所述惰性气体为高纯氮气。2CN102600775A说明书1/4页SiC-石墨烯纳米复合材料及其制备方法技术领域[0001]本发明涉及纳米复合材料领域,尤其涉及一种SiC-石墨烯纳米复合材料及其制备方法。背景技术[0002]石墨烯是单层碳原子紧密堆积而成的革命性新型碳材料,厚度只有0.335纳米,是目前世界上最薄的二维材料,也是构筑其他碳材料如C60、碳纳米管、石墨和金刚石的结构单元。石墨烯具有二维蜂窝状形式排列的晶格结构,基本结构单位是稳定的碳六元环,原子之间以作用力强大的碳-碳键结合,所以石墨烯结构非常稳定。石墨烯稳定的晶格结构使其具有非常优异的导电性能。石墨烯中的电子在轨道中移动时,不会因为晶格缺陷或引入外来原子而发生散射。由于原子间作用力非常强,在常温下,即使周围碳原子发生挤压,石墨烯中电子受到的干扰也非常小。石墨烯另一特性是其中电子的运动速度达到了光速的1/300,远远超过电子在一般导体中的运动速度。另一方面,石墨烯是能隙为零的半导体,在费米能级附近其载流子呈现线性的色散关系。由于这些优异的电性能,石墨烯被认为是下一代集成电路理想的半导体材料。同时,石墨烯也具有良好的力学、光学和热学性能,具有突出的导热性能(3000W/(mK))和力学性能(1060GPa)以及室温下高速的电子迁移率(15000cm2/(V·S))。石墨烯是真正的表面性固体,理想的单层石墨烯具有超大的比表面积,其理论比表面积高达2066m2/g,大大超过目前应用于电化学双电层电容器的活性碳的比表面积。石墨烯以及石墨烯基纳米复合材料由于上述优异的电学、光学、热学及力学性能有望应用于诸多领域,如集成电路、微机电系统、电化学催化剂、