一种用于PECVD设备的自动炉门机构.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102719805A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102719805A(43)申请公布日2012.10.10(21)申请号201210118106.2(22)申请日2012.04.21(71)申请人中国电子科技集团公司第四十八研究所地址410111湖南省长沙市天心区新开铺路1025号(72)发明人胡振东易文杰袁卫华许波涛(74)专利代理机构长沙正奇专利事务所有限责任公司43113代理人马强(51)Int.Cl.C23C16/44(2006.01)权利要求书权利要求书1页1页说明书说明书22页页附图附图11页(54)发明名称一种用于PECVD设备的自动炉门机构(57)摘要本发明公开了一种用于PECVD设备的炉门机构，为了解决石英管的密封问题，本发明包括两个双作用气缸，一个底座，一连杆，一个炉门法兰，两个导轨。其中两个双作用气缸实现炉门法兰的开关运动，并且通过炉门法兰和连杆之间的挠性连接来实现简单可靠的真空密封，从而确保设备真空良好和设备的可靠性。CN1027985ACN102719805A权利要求书1/1页1.一种用于PECVD设备的自动炉门机构，包括设在石英管(8)管口的炉门法兰(4)，其特征是，还包括一端挠性连接在炉门法兰(4)外侧的连杆(3)，该连杆(3)的另一端铰接在底座(1)上，该底座(1)上装有驱动炉门法兰(4)绕连杆(3)与底座(1)连接点旋转的x向汽缸(2)，和驱动炉门法兰(4)沿y方向往复移动的y向汽缸(5)；所述x向汽缸(2)的活塞杆铰接在连杆(3)上。2.根据权利要求1所述的用于PECVD设备的自动炉门机构，其特征是，所述石英管(8)管口设有密封圈(9)。3.根据权利要求1所述的用于PECVD设备的自动炉门机构，其特征是，所述炉门法兰(4)与连杆(3)之间通过弹簧(7)相连。4.根据权利要求1所述的用于PECVD设备的自动炉门机构，其特征是，所述底座(1)装在导轨(6)，该导轨(6)固定在机架上。2CN102719805A说明书1/2页一种用于PECVD设备的自动炉门机构技术领域[0001]本发明涉及一种光伏设备领域，进一步地，涉及PECVD(等离子增强的化学气相沉积)设备的炉门系统中一种安全而且有效的炉门机构。背景技术[0002]在现代光伏生产工艺中，PECVD(等离子增强的化学气相沉积)设备作为单晶硅和多晶硅电池片生产工艺的关键设备之一，其使用效率和稳定性关系到整条生产线的效率。在竞争日趋激烈的今天，显得尤为重要。如何使得设备稳定好用，作为PECVD设备中的一个部件，炉门机构的稳定性对整个设备的稳定起到很大影响。[0003]管式PECVD设备使用石英管作为沉积腔室，将一个可以放置多片硅片的石墨舟插进石英管中进行沉积。由于在真空环境下进行化学反应，故需要良好的密封性能。由于炉门法兰受到大气压力的影响，当炉门关闭以后，炉门法兰受到压力，造成悬臂，容易损坏运动导轨。多次反复运动之后，造成炉门机构变形，并使得石英管管口端面和炉门法兰面不平行，从而造成密封失效。发明内容[0004]为了克服现有的石英管管口端面和炉门法兰面不平行，造成密封失效的不足，本发明旨在提供一种用于PECVD(等离子增强的化学气相沉积)设备的自动炉门机构，该炉门机构可以保证炉门和石英管端门完全密封连接。[0005]为了实现上述目的，本发明所采用的技术方案是：一种用于PECVD设备的自动炉门机构，包括设在石英管管口的炉门法兰，其结构特点是，还包括一端挠性连接在炉门法兰外侧的连杆，该连杆的另一端铰接在底座上，该底座上装有驱动炉门法兰绕连杆与底座连接点旋转的x向汽缸，和驱动炉门法兰沿y方向往复移动的y向汽缸；所述x向汽缸的活塞杆铰接在连杆上。[0006]为了进一步提高石英管与炉门法兰的密封效果，所述石英管管口设有密封圈，当炉门关闭时，石英管内密封效果好。[0007]所述炉门法兰与连杆之间通过弹簧相连，确保炉门法兰可以小范围内灵活转动。[0008]两个气缸都固定在底座上，所述底座装在导轨上，该导轨固定在机架上，可以实现单方向的自由运动。[0009]所述x向汽缸和y向汽缸均优选为普通双作用气缸。[0010]藉由上述结构，本发明公开一种用于PECVD设备的炉门机构，其包括两个双作用气缸，一个底座，一连杆，一个炉门法兰，两个导轨。两个双作用气缸实现两个方向的运动，一个x向汽缸通过推拉连杆来实现炉门的旋转，从而实现炉门的开关。另外一个y向汽缸通过推拉来实现炉门机构和石英管的贴近与远离。两个导轨用来导向以使整个炉门机构在贴近或远离石英管时实现直线移动。底座用于固定两个气缸。[0011]与现有技术相比，本发明的有益效果是：本发明通过炉门法兰和连杆之间的挠性3CN102719805A说明书2/2页连接，当炉门