一种低硅高纯金属锰及其制备方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102816962A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102816962A(43)申请公布日2012.12.12(21)申请号201110151906.X(22)申请日2011.06.08(71)申请人伍宏斌地址410006湖南省长沙市麓山路33号(72)发明人伍宏斌(51)Int.Cl.C22C22/00(2006.01)C22C1/02(2006.01)F27D1/16(2006.01)权利要求书权利要求书11页页说明书说明书22页页(54)发明名称一种低硅高纯金属锰及其制备方法(57)摘要一种低硅高纯金属锰及其制备方法，采用中频炉做为熔炼设备，中频炉的倾炉支点靠近炉口，目的是出炉时，缩短炉口与铸钢模之间的距离，使熔融的金属锰对铸钢模不产生冲刷。中频炉采用镁砂筑炉，在炉内镁砂炉衬上抹涂厚度为0.3mm至15mm的已搅拌好的高强度耐磨高温浇注料，烘炉工艺采用缓慢升温的方法进行。烘炉完成后，用电解金属锰片或电解金属锰片与适量的高纯度钢铁为熔炼料，在中频炉中加入熔炼料至熔炼料完全熔融后出炉。金属锰铸锭冷却后，破碎，可得到低硅高纯金属锰。CN102869ACN102816962A权利要求书1/1页1.一种低硅高纯金属锰，其特征在于：其化学成份按质量百分比为：Mn＞98.5％，Si＜0.1％，P＜0.02％，S＜0.035％，Fe＜1.2％，C＜0.03％。2.根据权利要求1所述的低硅高纯金属锰的制备方法，其特征在于：采用中频炉为熔炼设备，用镁砂及高强度耐磨高温浇注料筑炉，烘炉完成后，用电解金属锰片或电解金属锰片与适量的高纯度钢铁为熔炼料，熔融后出炉，铸锭，冷却，破碎。3.根据权利要求2所述的低硅高纯金属锰的制备方法，其特征在于：采用的中频炉的倾炉支点靠近炉口。4.根据权利要求2所述的低硅高纯金属锰的制备方法，其特征在于：高强度耐磨高温浇注料由烧结莫来石和电熔莫来石为骨料，配以高温结合剂。2CN102816962A说明书1/2页一种低硅高纯金属锰及其制备方法所属技术领域：[0001]本发明涉及属于金属铸造领域，具体涉及一种低硅高纯金属锰及其制备方法。背景技术：[0002]目前，直接采用矿石熔炼的火法生产的金属锰含硅量较高，而采用中频炉做为熔炼设备用电解金属锰片生产的金属锰，因其炉衬采用镁砂，其铸锭时采用耐火砖，而导致金属锰产品中的硅含量较高。发明内容：[0003]为了克服现有金属锰的杂质含量高，特别是硅含量高的不足，本发明提供一种低硅高纯金属锰及其制备方法。[0004]本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：一种低硅高纯金属锰及其制备方法，采用中频炉做为熔炼设备，中频炉的倾炉支点靠近炉口，目的是出炉时，缩短炉口与铸钢模之间的距离，使熔融的金属锰对铸钢模不产生冲刷。中频炉采用镁砂筑炉，烘炉工艺采用缓慢升温的方法进行，每小时温度升高应小于60℃，当炉膛温度达到800℃～850℃时，停止加热至炉冷至室温，在炉内镁砂炉衬上抹涂厚度为0.3mm至15mm的已搅拌好的高强度耐磨高温浇注料，高强度耐磨高温浇注料由烧结莫来石和电熔莫来石为骨料，配以高温结合剂，高温结合剂以含量为55％～65％的Al2O3为主，SiO2＜20％，Fe2O3＜0.1％。将液体和骨料混合均匀后，反应6小时左右，做为高强度耐磨高温浇注料抹涂在镁砂炉衬上。再次烘炉，烘炉工艺采用缓慢升温的方法进行，每小时温度升高应小于80℃，当炉膛温度达到950℃～1050℃时，完成烘炉。烘炉完成后，用电解金属锰片或电解金属锰片与适量的高纯度钢铁为熔炼料，在中频炉中加入熔炼料至熔炼料完全熔融后出炉。铸钢模应清洁。倾炉应尽量缓慢，炉水流速应低于500kg/min，使炉水对铸钢模不产生冲刷。金属锰铸锭冷却后，破碎，可得到低硅高纯金属锰。[0005]本发明的有益效果是，得到的高纯金属锰产品中杂质含量低，特别是硅含量低。具体实施方式：[0006]下面以具体实施例对本发明做进一步描述。[0007]实施例一：采用中频炉做为熔炼设备，中频炉的倾炉支点靠近炉口。中频炉采用镁砂筑炉，烘炉工艺采用缓慢升温的方法进行，每小时温度升高40℃，当炉膛温度达到800℃左右时，停止加热至炉冷至室温，在炉内镁砂炉衬上抹涂厚度为12mm的已搅拌好的高强度耐磨高温浇注料，高强度耐磨高温浇注料由烧结莫来石和电熔莫来石为骨料，配以高温结合剂，高温结合剂以含量为55％～65％的Al2O3为主，SiO2＜20％，Fe2O3＜0.1％。将液体和骨料混合均匀后，反应6小时左右，做为高强度耐磨高温浇注料抹涂在镁砂炉衬上。再次烘炉，烘炉工艺采用的缓慢升温的方法进行，每小时温度升高50℃，当炉膛温度达到950℃～1050℃当炉膛温度时，完成烘炉。烘炉完成后，用电解金属锰片为熔炼料，在中频炉中加入