一种制备钼靶的方法.pdf
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一种制备钼靶的方法.pdf
本发明公开了一种制备钼靶的方法,该方法为:一、将钼粉压制成钼坯料,置于高温炉内进行预烧结得到预烧结坯;二、将预烧结坯置于高温炉内进行烧结,得到高纯钼金属坯;三、将高纯钼金属坯送入马弗炉中加热,然后对加热后的高纯钼金属坯进行压力加工,得到钼板;四、将钼板加热,冷却后进行机械加工;五、将经机械加工后的钼板清洗干净,与金属背板绑定,得到钼靶。本发明采用在低压力下进行预烧结,能够降低杂质熔点,创造杂质挥发条件,有利于去除材料中的气体元素和低熔点杂质,尤其是降低了材料中的C、O、Si、Cr、Ca、K、Mg、Ti、N
一种钼合金靶材制备方法、钼合金靶材和应用.pdf
本发明属于粉末冶金技术领域,具体提供一种钼合金靶材及其制备方法和应用。所述钼合金靶材的制备方法包括如下步骤:配制原料:按照所述靶材各元素质量配比称取原料混合,以质量百分数计,所述靶材包括如下成分,Ni:10%~30%,Ti:5%~25%,W:1%~20%和Re:0.5%~5%,余量为Mo和不可避免的杂质,且Mo的质量百分比≥50%;冷等静压;热等静压;热轧;退火。本申请方法制备的靶材塑韧性好,变形能力好,晶粒细小均匀。用本申请制备的靶材溅射沉积的薄膜厚度分布更均匀,可通过溅射方式附着在电子部件用层叠配线膜
一种钼合金靶材的制备方法.pdf
本发明涉及一种钼合金靶材的制备方法,属于溅射靶材的制造技术领域,解决了现有技术中靶材致密度较低和晶粒较为粗大的问题。本发明通过将按照钼合金成分配比的混合粉末,进行预压成型,得到预成型钼合金靶坯,然后置于包套内预热除气,真空封焊,继续放入热等静压炉中,进行热等静压处理,得到致密化钼合金预制靶材,去除包套,再进行升温降压处理,精加工后得到钼合金靶材;其中升温降压处理的温度高于热等静压处理温度,升温降压处理的压力低于热等静压处理压力。从而实现了消除预制靶材内部‑表面的贯通气孔,得到致密度高、晶粒细小的钼合金靶材
一种钒钼合金靶材及其制备方法.pdf
本发明提供了一种钒钼合金靶材及其制备方法,该靶材由钒粉、钼粉及粘结剂制作组成,其中钒粉与钼粉的质量配比为99:1~90:10,所述钒粉与钼粉的纯度大于99.5%。该制备方法包括以下步骤:按比例称取钒粉与钼粉,并将两者充分混匀;将混匀的钒粉和钼粉加入粘结剂进一步混匀,并处理得到干燥的钒钼粉与粘结剂的复合粉末材料;将步骤(2)的复合粉末材料进行等离子喷涂操作;取下喷涂所得的构件,并对所述构件进行处理得到成品。本发明的钒钼合金靶材均匀性好,稳定性高。本发明的制备方法采用等离子喷涂方式简单易行,无需模具设计和昂贵
一种超高纯钼靶坯及其制备方法.pdf
本发明属于超纯金属靶坯制备技术领域,具体涉及一种超高纯钼靶坯及其制备方法。所述制备方法包括:采用低压化学气相沉积的方法沉积钼,反应气体为MoF<base:Sub>6</base:Sub>和氢气,所述MoF<base:Sub>6</base:Sub>和氢气的体积比为1:2.5~1:20,沉积温度为700~1200℃,压力为1?50kPa。本发明采用低压化学气相沉积,在远低于钼熔点的温度条件下获得高致密度且纯度6N以上的超高纯钼靶坯,可避免常压生长钼致密度低问题,并且设备简单,自动化程度高,从而大幅度降低生产