一种硅片与玻璃片的低温超声阳极键合装置.pdf
是湛****21
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相关资料
一种硅片与玻璃片的低温超声阳极键合装置.pdf
一种硅片与玻璃片的低温超声阳极键合装置,该装置包括底板,手动升降台,温控键合炉,玻璃片夹持器,硅片夹持器,超声变幅杆,Z轴自动升降台,显微镜,X轴平台,Z轴支架,Y轴平台,超声波发生器,直流电源,电器支架,控制系统。相对于传统高温阳极键合方法,本发明的低温超声阳极键合方法在同样键合强度下,键合温度,键合电压及键合时间均能大大缩减,提高了MEMS器件的键合性能。
一种阳极键合装置.pdf
本发明提供一种封装键合装置包括,封装工作台,封装工作台的内部固定安装有真空系统,封装工作台上固定安装有位于真空系统一侧的翻盖机构,封装工作台顶端的一侧固定安装有与真空系统相连的真空室,封装工作台顶端的另一侧固定安装有多层声光报警器,封装工作台顶端的中部滑动连接有可移动触控屏,真空室包括上腔组件、下腔组件、O型密封圈、下壳、上壳、上引出电极、平垫圈、观察窗和带孔活动板,本发明该阳极键合设备可实现除取片和上片过程的全自动键合,减少制备硅?玻璃阳极键合器件所需时间,一定程度上加快了生产速度。
一种硅片阳极键合工艺变形的光学检测评价方法.pdf
本发明涉及微型机电系统器件精密几何量测量方法,特别涉及一种硅片阳极键合工艺变形的光学检测评价方法。所述的方法包括如下步骤:步骤一,扫描测量:使用光学轮廓仪,配合TTM物镜,扫描获取待检测器件的外形轮廓数据;步骤二,数据处理:在得到器件初始外形轮廓基础上,进行去除边缘效应和设置评价基准的处理,以获得预期的器件的真实三维外形轮廓;步骤三,评价判断:以经过数据处理的轮廓为基础,分别在X、Y方向上作该外形轮廓的二维截线,查看轮廓的倾斜和扭曲变形量,并根据设定的轮廓谷值和峰值参数,判断外形轮廓的变形是否符合设计要求
一种硅片的临时键合方法.pdf
本发明涉及了一种硅片的临时键合方法,包括:步骤A:在硅基片表面均匀涂覆胶状液体,形成胶状涂层;步骤B:将透明基片手动贴合在带有所述胶状涂层的所述硅基片上,并保证所述透明基片与所述硅基片两者对齐,形成贴合结构;步骤C:对所述贴合结构进行加热、挥发气泡;步骤D:将加热完成的所述贴合结构置于真空设备内,用以低强压进行施压。通过上述设置,可解决目前硅片键合工艺由于自动化键合设备的投入成本高而不适合小批量生产或试做加工的问题。
一种用于真空玻璃封接的阳极键合方法及装置.pdf
本发明是一种用于真空玻璃封接的阳极键合方法及装置。本方法是:选取合适的低熔点玻璃粉,制成密封材料;一次性完成边缘密封层与中间支撑点阵在玻璃基板上的涂布;然后将该玻璃基板与另外一片空白玻璃基板合片,放置于阳极键合装置内,抽真空至5.0×10