一种卧式多靶真空溅射或离子镀膜机.pdf
是浩****32
在线预览结束,喜欢就下载吧,查找使用更方便
相关资料
一种卧式多靶真空溅射或离子镀膜机.pdf
一种卧式多靶真空溅射或离子镀膜机,包括镀膜机炉体、镀膜机中的传动输出部件、弧靶、溅射靶、真空抽吸口和工件架,镀膜机炉体内分为二个区域,区域一布置多个弧靶,多个弧靶设置在镀膜机炉体的下方靠近镀膜机炉体内壁,区域二布置多个溅射靶,多个溅射靶设置在镀膜机炉体中心上方的对应工件架中空位置的镀膜机炉体内腔中,工件架设置放置工件的转动件和动力输入机构,工件架进入镀膜机炉体内时转动件可以在弧靶和溅射靶之间通过,工件架的动力输入机构与镀膜机中的传动输出部件耦合而带动转动件转动,镀膜机炉体中心或靠近中心设有真空抽吸口。本发
离子溅射仪和高真空镀膜机价格.docx
http://www.runlian365.com『润联网』登录【润联网】查询价格登录“润联网”可查找底价离子溅射仪和高真空镀膜机价格标题:离子溅射仪ETD-2000Ⅲ和离子溅射仪ETD-900型价格库号:JX164033价格:百度搜【润联网】查询主要技术参数:仪器简介:本仪器主要适用于扫描电子显微镜样品镀膜导电膜(金膜),仪器操作简单方便,是配合中小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。技术参数:1.靶(上部电极):材料:金,直径:50mm,厚度:0.1mm纯度:99.999%2、真空室:直径:160mm,高
高真空单靶磁控溅射镀膜机使用说明.doc
高真空单靶磁控溅射镀膜机使用说明沈阳天成真空技术有限责任公司20011年12月高真空单靶磁控溅射镀膜机使用说明本磁控溅射设备是受吉林大学的委托,根据双方签署的技术合同要求而研制的。本磁控溅射设备可装卡直径Φ70以下的样品,溅射室极限真空度优于2×10-4Pa。下面就本磁控溅射设备的构成及其配置、操作及其注意事项说明如下:设备构成及其配置本沉积系统主要由镀膜系统、真空获得及测量系统、配气系统、加热器与温度控制系统、升降系统、水路循环系统等组成。该沉积系统结构图如下:1.1镀膜系统镀膜系统由装片架、磁控靶等组
一种真空镀膜机磁控溅射控制机构.pdf
本发明涉及金属镀覆技术领域,且公开了一种真空镀膜机磁控溅射控制机构,包括箱体,所述箱体内部的底部固定连接有固定板。该真空镀膜机磁控溅射控制机构,当膜厚检测仪检测到金属镀件镀层厚度不均匀时,会启动电动机一使得齿轮一转动,移动板会左右移动,而挡板固定连接在移动板的右侧,使得挡板可以左右移动,从而达到了镀膜厚度均匀的效果。转动把手使得齿轮六转动,由于齿轮六与固定板啮合连接,使得齿轮六可以在固定板内部上下运动,从而使得喷溅靶可以上下运动,拉动拉杆使得支撑杆进入不同的凹槽内部,可以使得拉动杆拉动喷溅靶头部的角度发生
超高真空磁控溅射镀膜机的使用.docx
超高真空磁控溅射镀膜机的使用摘要真空镀膜技术作为一种产生特定膜层的技术,在现实生产生活中有着广泛的应用。真空镀膜技术有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。这里主要讲一下由溅射镀膜技术发展来的超高真空磁控溅射镀膜机的使用的一些注意事项。关键词:真空镀膜;真空度;磁控溅射镀膜前言溅射现象于1870年开始用于镀膜技术,1930年以后由于提高了沉积速率而逐渐用于工业生产。常用二极溅射设备如下图。.通常将欲沉积的材料制成板材─靶,固定在阴极上。基片置于正对靶面的阳极上,距靶一定距离。系统抽至高真空后充入(10~