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离子溅射仪和高真空镀膜机价格

标题:离子溅射仪ETD-2000Ⅲ和离子溅射仪ETD-900型价格库号：JX164033价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数：
仪器简介：本仪器主要适用于扫描电子显微镜样品镀膜导电膜(金膜),仪器操作简单方便,是配合中小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。技术参数：1.靶（上部电极）：材料：金，直径：50mm，厚度：0.1mm纯度：99.999%2、真空室：直径：160mm，高：110mm3.样品台（下部电极）：溅射面积：直径：50mm4．工作真空：2×10-1—10-1mbar5.离子电流表：最大电流：50mA6.计时器：根据溅射习惯设定单次溅射时间。7.最高电压：-1600DVC8.机械泵:2升/每秒9.工作室工作媒介气体：空气或氩气，10．真空气阀：配有氩气专用进气口和微量充气调节，可连接φ4*2.5mm软管。主要特点：轻便、溅射面积大靶材可按用户要求加工制作标题:溅射蒸碳仪和高真空离子溅射仪参数库号：JX164034价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数：
ETD-2000C溅射蒸碳仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，最简单、可靠、经济的镀膜设备。同时增加了热蒸发附件，具有溅射和蒸发两种功能。满足电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备和非导体材料实验电极制作。特点：在ETD-2000/3000离子溅射仪基础上，增加了热蒸发附件，可以蒸发碳丝，具有溅射和蒸发两种功能。因此扩展了应用范围，特别适用于扫描电镜实验室样品制备。型号ETD-2000c仪器尺寸400mm×300mm×400mm（L×W×H）靶（上部电极）50mm×0.1mm（D×H）真空样品室硼硅酸盐玻璃160mm×110mm（D×H）样品台50mm(D)操作真空4×10-1mbar至2×10-2mbar工作电压0-1600V(DC)可调溅射电流0-50mA溅射定时1-9999S蒸碳电流0-10A(AC)真空泵2升机械旋转泵标题:真空磁控离子溅射镀膜仪和小型高真空离子溅射仪价格库号：JX164035价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数：
高性能离子溅射仪系统是现阶段配套扫描电镜SEM，透射电镜TEM和电子探针最佳的配套前级样品处理系统以及均匀高质量的电极薄膜制备Cressington108/108Auto离子溅射仪是用于电镜样品前处理，制作电极的最先进高质量的镀膜仪系统主要优势功能：自动的换气与泄气功能，可以得到一致的膜厚，和最佳的导电喷镀效果。通过高效低压直流磁控头进行冷态精细的喷镀过程，避免样品表面受损。操作容易快捷，可全自动或手动进行喷镀操作，控制的参数包括自动放气以及氩气换气控制。在自动模式下，可通过两种方式进行控制镀膜过程。可通过数字显示器控制得到可重现的喷镀效果。可配备MTM-10高分辨膜厚监控仪（选件）(分辨率优于0.1nm，-99.9nm到+999.9nm)数字化的喷镀电流控制不受样品室内氩气压力影响，可得到一致的镀膜速率和最佳的镀膜效果。可使用多种金属靶材：Au，Au/Pd,，Pt,，Pt/Pd，靶材更换快速方便。技术规格：样品仓尺寸：120x120mm（高）(4.75x4.75")，高强度不锈钢结构样品台：可放置12个标准SEM样品座，高度可在60mm内调节溅标题:离子溅射仪ETD-900C型和高真空镀膜机价格库号：JX164036价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数：
150T的机壳是整体成型的，结构坚固耐用，配有气冷的70L/S的涡轮分子泵，自动进气控制保证了溅射期间最佳的真空水平，真空腔室直径为165mm并带有防爆装置。150T具有“真空闭锁”功能，可在设备不工作时维持腔室的真空度，从而保证高真空的性能。150T系列全自动高真空离子溅射/热蒸发一体化镀膜仪给用户以类似傻瓜相机的简单操作、顶级的镀膜质量和对熟手/新手都很理想的用户界面，让用户真正领略至臻完美的镀膜品质！根据不同的应用方向，150T细分为三个型号：150TS：高分辨率溅射镀膜仪HighResolutionTurbomolecularPumpedSputterCoater，可溅射易氧化和不易氧化金属，可选各种溅射靶材，包括场发射电镜常用的铱和鉻。150TE：高真空镀碳仪，可制作高稳定的碳膜和表面覆形膜，是TEM应用最理想的选择。150TES：集合了离子溅射和热蒸镀两种真空沉积镀膜方式，镀膜标题:高真空离子溅射仪EMSQ150和离子溅射镀膜仪参数库号：JX164037价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数：
ETD-2000型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，最简单、可靠、经济的镀膜设备。适用于电镜实