等离子体产生装置、蒸镀装置以及等离子体产生方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN104221477104221477A(43)申请公布日2014.12.17(21)申请号201380019358.2(51)Int.Cl.(22)申请日2013.02.27H05H1/50(2006.01)C23C14/32(2006.01)(30)优先权数据2012-0909212012.04.12JP(85)PCT国际申请进入国家阶段日2014.10.10(86)PCT国际申请的申请数据PCT/JP2013/0552312013.02.27(87)PCT国际申请的公布数据WO2013/153865JA2013.10.17(71)申请人中外炉工业株式会社地址日本大阪府(72)发明人古屋英二(74)专利代理机构上海专利商标事务所有限公司31100代理人韩俊权权利要求书1页利要求书1页说明书5页说明书5页附图3页附图3页(54)发明名称等离子体产生装置、蒸镀装置以及等离子体产生方法(57)摘要本发明提供一种能在广大的范围内产生均匀的等离子体的等离子体产生装置。根据本发明的等离子体产生装置(1)的特征在于，将两个等离子枪(3)相对配置，这两个等离子枪(3)喷射出电离的放电气体，且分别包括辐射电子的阴极(6)、和形成对辐射出的电子进行引导的磁通量的聚焦线圈(10)，两个等离子枪(3)的相对于阴极阴极(6)的聚焦线圈(10)的极性为彼此相反的朝向。CN104221477ACN10427ACN104221477A权利要求书1/1页1.一种等离子体产生装置，其特征在于，在所述等离子体产生装置中将两个喷射电离的放电气体的等离子枪相对配置，这两个等离子枪分别包括放射电子的阴极和形成对放射出的电子进行引导的磁通的聚焦线圈，两个所述等离子枪的、所述聚焦线圈与所述阴极的极性为彼此相反的朝向。2.如权利要求1所述的等离子体产生装置，其特征在于，所述等离子枪是在所述阴极与所述聚焦线圈之间包括第一电极及第二电极的压力梯度型等离子枪，所述第二电极在内部配置有极内磁铁，所述极内磁铁形成与所述聚焦线圈所形成的磁通相同朝向的磁通。3.如权利要求1或2所述的等离子体产生装置，其特征在于，通过彼此绝缘的驱动电路对两个所述等离子枪进行驱动。4.如权利要求1至3中任一项所述的等离子体产生装置，其特征在于，能够单独地对所述聚焦线圈的位置和角度中的至少任一个进行调节。5.如权利要求1至4中任一项所述的等离子体产生装置，其特征在于，所述等离子枪包括将所述阴极所放射的电子回收的反馈电极，所述反馈电极与相对的所述等离子枪的电路连接。6.一种蒸镀装置，其特征在于，所述蒸镀装置具有权利要求1至5中任一项所述的等离子体产生装置。7.一种等离子体产生方法，其特征在于，将两个喷射电离的放电气体的等离子枪相对配置，这两个等离子枪分别包括放射电子的阴极和形成对所放射的电子进行引导的磁通的聚焦线圈，使两个所述等离子枪的、所述聚焦线圈与所述阴极的极性为彼此相反的朝向，使两个所述等离子枪的放电电压相等，将两个所述等离子枪中的至少任一个的所述放电气体的喷射量调节成使两个所述等离子枪的放电电流相等。2CN104221477A说明书1/5页等离子体产生装置、蒸镀装置以及等离子体产生方法技术领域[0001]本发明涉及等离子体产生装置、蒸镀装置以及等离子体产生方法。背景技术[0002]已知在进行蒸镀时，通过在腔室内产生等离子体来促进蒸镀材料的化学反应的等离子体辅助法(日文：プラズマアシスト法)。在等离子体辅助法中，通常，利用一边将等离子化的放电气体喷射、一边放射使放电气体电离的电子的等离子枪，来形成等离子体。[0003]一般来说，等离子枪包括形成对放出的电子进行引导的磁通的聚焦线圈(日文：収束コイル)。由于从等离子枪放出的电子以被聚焦线圈所形成的磁场绊住的方式移动，因此，通过包括聚焦线圈，甚至在离开等离子枪更远的位置处也能产生等离子体。[0004]但是，即便使用聚焦线圈，通过等离子枪所能形成的等离子体的范围也是有限的。因而，当所要形成蒸镀覆膜的被蒸镀体变大时，例如需要像专利文献1记载的那样，将两个等离子枪相对地配置，以在宽阔范围内形成等离子体。[0005]图3表示将等离子枪22相对地配置在腔室21的两侧的蒸镀装置。上述等离子枪22是压力梯度型等离子枪，其具有：射出电子的阴极23；形成电压梯度的第一电极24及第二电极25；回收电子的反馈电极26；以及形成对电子进行引导的磁通的聚焦线圈27，上述等离子枪24贯穿上述阴极23、第一电极24、第二电极25、反馈电极26及聚焦线圈27的中心来喷射放电气体。[0006]在这种蒸镀装置中，利用彼此相对的等离子枪22的聚焦线圈27形成的磁通彼此相斥。由于从等离子枪22放出的电