用于多晶硅还原炉的底盘、底盘组件和还原炉.pdf

本发明提出一种用于多晶硅还原炉的底盘、底盘组件和还原炉。本发明的用于多晶硅还原炉的底盘包括：盘体，盘体具有第一进气孔组，第一进气孔组包括至少一个第一进气孔，每个第一进气孔沿盘体的轴向贯穿盘体；电极孔组，电极孔组包括沿盘体的周向间隔设置的多个电极孔，每个电极孔沿盘体的轴向贯穿盘体；多个出气孔，每个出气孔沿盘体的轴向贯穿盘体，多个出气孔沿盘体的周向间隔设置，多个出气孔在内外方向上位于第一进气孔组和电极孔组之间。因此，根据本发明的用于多晶硅还原炉的底盘具有可使得还原炉内的气体反应更加充分、节省物料和提高硅棒质量

2023-06-15

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用于多晶硅还原炉的底盘组件.pdf

本发明公开了一种用于多晶硅还原炉的底盘组件，所述用于多晶硅还原炉的底盘组件包括：底盘本体，所述底盘本体内限定有冷却腔；多个电极，多个所述电极设在所述底盘本体上；多个中心进气管，多个所述中心进气管设在所述底盘本体的中心处；多个外圈进气管组，多个所述外圈进气管组设在所述底盘本体的外周缘处且沿所述底盘本体的周向间隔开设置，每个所述外圈进气管组包括排列成环形的多个外圈进气管；多个排气管，多个所述进气管设置在所述底盘本体上且位于多个所述电极的外侧。根据本发明实施例的用于多晶硅还原炉的底盘组件具有能够提高炉内气流循环

2023-06-19

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用于多晶硅还原炉的底盘组件.pdf

本发明公开了一种用于多晶硅还原炉的底盘组件，所述用于多晶硅还原炉的底盘组件包括：底盘本体，所述底盘本体内限定有从所述底盘本体的中心处旋向所述底盘本体的边缘处的四个螺旋流道，所述底盘本体上设有分别与四个所述螺旋流道连通的至少四个冷却液进口和至少四个冷却液出口，所述至少四个冷却液进口的圆心与所述底盘本体的圆心距离相等；多个电极座，多个所述电极座设置在所述底盘本体上；多个进气管和多个排气管，多个所述进气管和多个所述排气管设置在所述底盘本体上。根据本发明实施例的用于多晶硅还原炉的底盘组件具有冷却液流动阻力小、冷却

2023-06-19

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用于多晶硅还原炉的底盘组件和多晶硅还原炉.pdf

本发明公开了一种用于多晶硅还原炉的底盘组件和多晶硅还原炉，用于多晶硅还原炉的底盘组件包括：底盘本体，底盘本体内限定有冷却腔；多个电极，多个电极设在底盘本体上且在底盘本体上排列成多圈，每圈电极等间距设置且中心位于底盘本体的中心轴线上；多个进气端管，多个进气端管设在底盘本体上且位于相邻圈电极之间以及底盘本体的中心处；多个出气端管，多个出气端管设在底盘本体上且位于最外圈电极与最内圈电极之间；至少一个进气管，每个进气管与至少一个进气端管相连。至少一个出气管，每个出气管与至少一个出气端管相连。根据本发明实施例的用于

2023-06-18

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用于多晶硅还原炉的底盘组件.pdf

本发明公开了一种用于多晶硅还原炉的底盘组件，用于多晶硅还原炉的底盘组件包括：底盘本体，底盘本体内限定有从底盘本体的中心处旋向底盘本体的外周缘处的多个螺旋流道，底盘本体上设有与多个螺旋流道连通的冷却液进口和多个冷却液出口；多个电极座，多个电极座设置在底盘本体上；多个进气管和多个排气管，多个进气管和多个排气管设置在底盘本体上。根据本发明实施例的用于多晶硅还原炉的底盘组件具有冷却液流动阻力小、冷却效果好、径向温度分布均匀、不易产生温差应力和变形、进气均匀、工作稳定等优点。

2023-06-19

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