一种真空镀膜机.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN106048552A(43)申请公布日2016.10.26(21)申请号201610569203.1(22)申请日2016.07.19(71)申请人深圳市东丽华科技有限公司地址518109广东省深圳市龙华新区大浪华盛路45号宝华诚工业园4栋3楼(72)发明人胡伟陈振宇陈芳华常瑞荆(74)专利代理机构深圳市恒申知识产权事务所(普通合伙)44312代理人王利彬(51)Int.Cl.C23C14/50(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图1页(54)发明名称一种真空镀膜机(57)摘要本发明适用于镀膜设备技术领域，提供了一种真空镀膜机，包括真空腔体，真空腔体内设置有用于放置工件的工件架、靶材、公转齿轮、驱动齿轮、驱动电机、固定齿轮以及自转齿轮。靶材设置于工件架侧边，工件架通过一转轴可旋转地安装于公转齿轮上。驱动电机驱动驱动齿轮旋转，驱动齿轮与公转齿轮传动连接。固定齿轮固定于真空腔体内，工件架与一转轴固定连接，该转轴可旋转地安装于公转齿轮上，并且转轴与自转齿轮固定连接，自转齿轮与固定齿轮啮合。本发明的真空镀膜机可以在工件架的各个侧面上装载工件，装炉量为现有镀膜机的三倍多，在一次镀膜作业中，能给更多的工件镀膜，提高了生产效率。CN106048552ACN106048552A权利要求书1/1页1.一种真空镀膜机，包括真空腔体，所述真空腔体内设置有用于放置工件的工件架、靶材、公转齿轮、驱动齿轮以及驱动电机；所述靶材设置于所述工件架侧边，所述工件架安装于所述公转齿轮上，所述驱动电机驱动所述驱动齿轮旋转，所述驱动齿轮与公转齿轮传动连接；其特征在于，所述真空镀膜机还包括固定齿轮以及自转齿轮，所述固定齿轮固定于所述真空腔体内，所述工件架与一转轴固定连接，所述转轴可旋转地安装于所述公转齿轮上，并且所述转轴与所述自转齿轮固定连接，所述自转齿轮与所述固定齿轮啮合。2.如权利要求1所述的真空镀膜机，其特征在于，所述工件架的横向截面呈矩形状，所述工件架的各个侧面均能装载工件。3.如权利要求1所述的真空镀膜机，其特征在于，所述靶材为圆柱形靶材。4.如权利要求1至3中任意一项所述的真空镀膜机，其特征在于，所述靶材可旋转地安装于所述真空腔体内。5.如权利要求1至3中任意一项所述的真空镀膜机，其特征在于，所述公转齿轮的边缘安装有若干沿其圆周方向间隔分布的所述工件架，所述固定齿轮与所述公转齿轮同心设置，并且所述固定齿轮同时与所有的自转齿轮啮合。6.如权利要求1至3中任意一项所述的真空镀膜机，其特征在于，所述公转齿轮具有上、下间隔设置的上层板以及下层板，所述固定齿轮以及自转齿轮均位于所述上层板与下层板之间的间隙内；并且，所述工件架通过一转轴可旋转地安装于所述上层板上。2CN106048552A说明书1/3页一种真空镀膜机技术领域[0001]本发明属于镀膜设备技术领域，尤其涉及一种真空镀膜机。背景技术[0002]真空镀膜机主要指一类在较高真空度下对工件进行镀膜的设备，其中，镀膜的技术具有很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等。主要思路是分成蒸发和溅射两种。[0003]需要镀膜的对象被称为工件(或基片)，需要镀在工件上的材料被称为靶材，如硅靶、铌靶、铝靶、钛靶等。工件与靶材同在真空腔中。在真空条件下，通入一定气压的氩气，氩气在高电压(300-800V)电场作用下电离为氩离子，氩离子加速轰击靶材，从而将靶材材料溅射到工件表面，形成薄膜。[0004]目前的真空镀膜机一般为立式、卧式或水平公转结构工件架，其产品的装炉量少，生产效率低，同时，其所配置的平面靶利用率较低，在镀膜时发生氧化反应生成氧化物，容易污染靶材表面的边缘，从而导致靶面清洁度不好。发明内容[0005]本发明所要解决的技术问题在于提供一种真空镀膜机，旨在解决现有技术中的真空镀膜机所存在的装炉量少，生产效率低的问题。[0006]本发明是这样实现的，一种真空镀膜机，包括真空腔体，所述真空腔体内设置有用于放置工件的工件架、靶材、公转齿轮、驱动齿轮以及驱动电机；所述靶材设置于所述工件架侧边，所述工件架安装于所述公转齿轮上，所述驱动电机驱动所述驱动齿轮旋转，所述驱动齿轮与公转齿轮传动连接；所述真空镀膜机还包括固定齿轮以及自转齿轮，所述固定齿轮固定于所述真空腔体内，所述工件架与一转轴固定连接，所述转轴可旋转地安装于所述公转齿轮上，并且所述转轴与所述自转齿轮固定连接，所述自转齿轮与所述固定齿轮啮合。[0007]进一步地，所述工件架的横向截面呈矩形状，所述工件架的各个侧面均能装载工件。[0008]进一步地，所述靶材为圆柱形靶材。[0009]进一步地，所述靶材可旋转地安装于所述真空腔体内。[0010]进一步地，所述