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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN106972066A(43)申请公布日2017.07.21(21)申请号201710291291.8(22)申请日2017.04.28(71)申请人江苏顺风光电科技有限公司地址213164江苏省常州市武进高新区阳湖路99号(72)发明人瞿辉徐春曹玉甲梅静静(74)专利代理机构南京苏高专利商标事务所(普通合伙)32204代理人柏尚春(51)Int.Cl.H01L31/0216(2014.01)H01L31/18(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图2页(54)发明名称一种PERC电池背面钝化膜层以及基于ALD工艺的PERC电池制备方法(57)摘要本发明公开了一种PERC电池背面钝化膜层,包括PERC电池硅衬底表面向外依次先后沉积的背面氧化铝层、背面SiONx层和背面SiNx层,还公开了基于ALD工艺的PERC电池制备方法,包括如下步骤:制绒;扩散;背面抛光、刻蚀和去磷硅玻璃;背面ALD制备氧化铝;正面PECVD沉积SiNx减反射膜;背面PECVD沉积背面钝化膜层;背面激光局部开口;丝网印刷、烧结;其中,背面PECVD沉积背面钝化膜层过程中,硅片进入炉管后,炉管温度升温至400℃~600℃,先沉积SiONx膜后沉积SiNx膜。本发明的PERC电池背面钝化膜层以及电池制备方法,电池转换效率高,省去ALD制备氧化铝后的单独退火过程,减少投入成本,提升电池转换效率,且背面镀膜之后做正面镀膜时,单晶硅片表面颜色均匀,有效改善电池外观。CN106972066ACN106972066A权利要求书1/1页1.一种PERC电池背面钝化膜层,其特征在于:包括PERC电池硅衬底(1)表面向外依次先后沉积的背面氧化铝层(2)、背面SiONx层(3)和背面SiNx层(4)。2.一种基于ALD工艺的PERC电池制备方法,其特征在于,包括如下步骤:1)制绒;2)扩散;3)背面抛光、刻蚀和去磷硅玻璃;4)背面ALD制备氧化铝;5)正面PECVD沉积SiNx减反射膜;6)背面PECVD沉积背面钝化膜层;7)背面激光局部开口;8)丝网印刷、烧结;其中步骤6)背面PECVD沉积背面钝化膜层过程中,硅片进入炉管后,炉管温度升温至400℃~600℃,先沉积SiONx膜后沉积SiNx膜。3.根据权利要求2中所述PERC电池制备方法,其特征在于:背面钝化膜层中SiONx层的沉积厚度为30~80nm,折射率为1.5~2.0。4.根据权利要求2中所述PERC电池制备方法,其特征在于:背面钝化膜层中SiNx层的沉积厚度为80~250nm,折射率为1.9~2.4。5.根据权利要求2中所述PERC电池制备方法,其特征在于:沉积背面钝化膜层过程中SiH4、NH3、N2O气体同时淀积生成SiONx膜,SiH4、NH3淀积生成SiNx膜。2CN106972066A说明书1/3页一种PERC电池背面钝化膜层以及基于ALD工艺的PERC电池制备方法技术领域[0001]本发明涉及膜层以及电池制备方法,具体涉及钝化膜层以及PERC电池制备方法。背景技术[0002]常规的化石燃料日益消耗殆尽,在现有的可持续能源中,太阳能无疑是一种最清洁、最普遍和最有潜力的替代能源,太阳能发电装置又称为太阳能电池或光伏电池,可以将太阳能直接转换成电能,其发电原理是基于半导体PN结的光生伏特效应,随着科技的发展,出现了局部接触背钝化PERC太阳能电池,其核心是在硅片的背面用氧化铝和氮化硅覆盖,以起到钝化表面、提高长波响应的作用,从而提升电池的转换效率,现有的氧化铝沉积方式主要有两种:PECVD法和ALD法,而ALD制备氧化铝后必须要有退火过程,故PERC制备过程背面氧化铝若是使用ALD法制备氧化铝则需增加退火步骤,退火的目的是来激活氧化铝中的氢,去除-CH3和-OH基团,在不经过退火的情况下,印刷后烧结时背面SiNx薄膜中存在的大量的氢与氧化铝中的-CH3和-OH结合形成CH4或者H2O,在高温下聚集逃逸时破坏氧化铝和SiNx薄膜,使得钝化效果变差降低电池片的电性能,而且对电池片的光衰影响较大,ALD法后使用PECVD做集成退火和背面镀膜,当在背面镀膜之后做正面镀膜时,硅片表面还会存在明显绕镀导致外观色差,还延长了背膜的整体工艺时间。发明内容[0003]发明目的:本发明的目的在于针对现有技术的不足,提供一种PERC电池背面钝化膜层以及包含有该膜层的基于ALD工艺的PERC电池制备方法,改善单晶体薄膜表面形态和绕镀色差,提升了电池转换效率。[0004]技术方案:本发明所述的一种PERC电池背面钝化膜层,包括PERC电池硅衬底表面向外依次先后沉积的背面氧化铝层、背面SiONx层和背面SiNx层。[0005]基于ALD工艺的PERC电池制备