铜铟镓硒靶材金属化层的制备方法.pdf
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铜铟镓硒靶材金属化层的制备方法.pdf
本发明公开了一种铜铟镓硒靶材金属化层的制备方法,步骤包括:按重量份数比选取铜、铟、镓原料并破碎成粗粉并混合均匀;气流磨制;反应釜中熔炼;制得铜铟镓硒合金;将所述铜铟镓硒合金锭破碎成直径为1~3mm的合金块,置于球磨机内以300~500r/min的转速球磨0.5~1h,获得铜铟镓硒粉末;将石墨垫板置于热压炉模具的下压头上,然后将铜片放在石墨垫板上,在所述铜片的一面加工凹槽,所述凹槽位于所述铜片的中心部,所述凹槽的面积不小于铜片面积的2/3;将制得的铜铟镓硒粉末放入凹槽内,再放入上压头;将热压炉模具放入热压炉
铜铟镓硒靶材金属化层制备方法.pdf
本发明涉及一种铜铟镓硒靶材金属化层制备方法,在制备铜铟镓硒靶材的同时制备金属化层,属于有色金属加工领域。首先,将石墨垫板置于热压炉模具的下压头上,然后将金属片放在石墨垫板上,放入铜铟镓硒粉料,再放入上压头,将模具放于热压炉中进行热压烧结,在升温的同时加压,进行保温保压,然后冷却至室温;然后,将靶材从热压炉中取出,先加工靶面,然后加工金属化层,根据需要的金属化层的厚度确定加工量。本发明方法得到的铜铟镓硒靶材金属化层易于钎焊;导电、导热性能好;成本低,与靶材制备过程同步,大大降低生产成本。
铜铟镓硒靶材的制备方法.pdf
本发明公开了一种铜铟镓硒靶材的制备方法,步骤包括:按重量份数比选取铜、铟、镓原料并破碎成粗粉并混合均匀;气流磨制;反应釜中熔炼;制得铜铟镓硒合金;将所述铜铟镓硒合金锭破碎成直径为1~3mm的合金块,置于球磨机内以300~500r/min的转速球磨0.5~1h,获得铜铟镓硒粉末;将铜铟镓硒粉末以一成型机压制为一胚体,进行胚体加压;将加压后的胚体放入脱蜡釜中,脱蜡的方法为以丙烷气体作为加热媒介,并与空气例充分混合、燃烧及转化后,经过喷嘴通入脱蜡釜内,对胚体进行辐射加热脱蜡;将脱蜡后的胚体装入真空热压炉中,热压
铜铟镓硒薄膜的真空制备工艺及靶材研究现状.docx
铜铟镓硒薄膜的真空制备工艺及靶材研究现状铜铟镓硒(CIGS)薄膜是一种具有良好光电性能的半导体材料,可用于太阳能电池、电子器件等领域。本文将从真空制备工艺和靶材研究现状两方面综述CIGS薄膜相关研究。一、真空制备工艺CIGS薄膜的制备涉及到多种工艺,如物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、分子束外延(MBE)、反应磁控溅射等,其中以PVD和CVD最为常见。以下为两者的简要对比:物理气相沉积:将Cu、In、Ga、Se等材料作为靶材,放置于真空靶室中,使用电子束、电子枪等能量源激发靶材,让靶材蒸发,
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本发明涉及一种铜铟镓硒靶材的无压烧结制备方法,包括:硒位缺失的CIGS1-δ粉体的制备:按CIGS1-δ的化学计量比分别称取铜源、铟源、镓源和硒源,混合后真空封装,于900~1100℃反应1~10小时制得包含第二物相(In1-xGax)Se的CIGS1-δ粉体,其中,δ为硒缺失比例,0炉中进行无压烧结制得铜铟镓硒靶材。