一种超薄氮化硼纳米片及其制备方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN108439356A(43)申请公布日2018.08.24(21)申请号201810469888.1(22)申请日2018.05.16(71)申请人武汉科技大学地址430081湖北省武汉市青山区和平大道947号(72)发明人梁峰田亮张海军李俊怡(74)专利代理机构武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙)42222代理人张火春(51)Int.Cl.C01B21/064(2006.01)B82Y30/00(2011.01)B82Y40/00(2011.01)权利要求书1页说明书5页附图1页(54)发明名称一种超薄氮化硼纳米片及其制备方法(57)摘要本发明涉及一种超薄氮化硼纳米片及其制备方法。其技术方案是：将1～15wt％的硼源、1～15wt％的固态氮源和75～95wt％的金属盐混合，得到混合物；将所述混合物放入刚玉坩埚中，再将所述刚玉坩埚置于箱式气氛炉内，在流通的氮气气氛中加热至1000～1300℃，保温1～5h，得到中间产物；将所述中间产物用去离子水洗涤2～5次，固液分离，所得固体于80～120℃条件下干燥8～10h，即得到超薄氮化硼纳米片。本发明具有工艺简单、合成温度低、生产周期短、产率高、成本低、过程易于控制和产业化前景大的特点，所制备的超薄氮化硼纳米片厚度小、分布均匀和纯度高。CN108439356ACN108439356A权利要求书1/1页1.一种超薄氮化硼纳米片的制备方法，其特征在于所述制备方法的步骤为：步骤1、将1～15wt％的硼源、1～15wt％的固态氮源和75～95wt％的金属盐混合，即得混合物；步骤2，将所述混合物放入刚玉坩埚中，再将放有所述混合物的刚玉坩埚置于箱式气氛炉内，在流通的氮气气氛中加热至1000～1300℃，保温1～5h，即得中间产物；步骤3，将所述中间产物用去离子水洗涤2～5次，固液分离，所得固体于80～120℃条件下干燥8～10h，制得超薄氮化硼纳米片。2.根据权利要求1所述的超薄氮化硼纳米片的制备方法，其特征在于所述硼源为硼酸钠、氧化硼和硼酸中的一种，所述硼源为工业纯或为分析纯；所述硼源的粒径≤200μm。3.根据权利要求1所述的超薄氮化硼纳米片的制备方法，其特征在于所述固态氮源为三聚氰胺、氮杂胞嘧啶和二氰二胺中的一种，所述固态氮源为工业纯或为分析纯；所述固态氮源的粒径≤200μm。4.根据权利要求1所述的超薄氮化硼纳米片的制备方法，其特征在于所述金属盐为氯化钠、氯化钾和氟化钠中的一种以上，所述金属盐为工业纯或为分析纯；所述金属盐的粒径均≤200μm。5.一种超薄氮化硼纳米片，其特征在于所述超薄氮化硼纳米片是根据权利要求1～4项中任一项所述超薄氮化硼纳米片的制备方法所制备的超薄氮化硼纳米片。2CN108439356A说明书1/5页一种超薄氮化硼纳米片及其制备方法技术领域[0001]本发明属于氮化硼纳米片的技术领域。具体涉及一种超薄氮化硼纳米片及其制备方法。背景技术[0002]石墨烯的独特性能及其广泛的应用引起了人们对其它二维材料广泛的关注。二维氮化硼纳米片作为一种石墨烯的类似物，具有优异的力学性能，被形象地称为“白石墨烯”。此外，氮化硼纳米片具有许多不同于石墨烯的独特性能，包括电绝缘性、抗氧化性、热稳定性和发光性能等,这些优异的性能赋予了氮化硼纳米片不同于石墨烯的独特应用。[0003]相比于石墨，氮化硼层间的作用力更强，因此氮化硼纳米片的制备更为困难。目前，氮化硼纳米片的制备方法主要有：机械剥离法(LeiW,etal.Boronnitridecolloidalsolutions,ultralightaerogelsandfreestandingmembranesthroughone-stepexfoliationandfunctionalization[J].Naturecommunications,2015,6,8849)、液相剥离法(ZhiC,etal.Large‐scalefabricationofboronnitridenanosheetsandtheirutilizationinpolymericcompositeswithimprovedthermalandmechanicalproperties[J].AdvancedMaterials,2009,21,2889)和化学气相沉积法(WangL,etal.Monolayerhexagonalboronnitridefilmswithlargedomainsizeandcleaninterfaceforenhancingthemobilityofgraphene‐basedfield‐effecttransistors[J].AdvancedMateria