一种盖板灰色NCVM镀膜制备工艺.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN109023244A(43)申请公布日2018.12.18(21)申请号201810791152.6C03C17/245(2006.01)(22)申请日2018.07.18(71)申请人东莞华清光学科技有限公司地址523000广东省东莞市长安镇沙头南区工业区申请人东莞劲胜精密电子组件有限公司(72)发明人潘兵曾庆云余登全(74)专利代理机构北京一格知识产权代理事务所(普通合伙)11316代理人王科(51)Int.Cl.C23C14/08(2006.01)C23C14/10(2006.01)C23C14/30(2006.01)C23C14/32(2006.01)权利要求书1页说明书3页(54)发明名称一种盖板灰色NCVM镀膜制备工艺(57)摘要本发明涉及一种盖板灰色NCVM镀膜制备工艺，包括以下步骤：（1）素材准备和检验；（2）产品上伞；（3）镀膜挂伞；（4）抽真空；（5）离子轰击；（6）真空成膜；（7）出炉放气；（8）产品下伞；（9）产品检验和包装。本发明的优点是：1.简化了NCVM生产时繁琐的工艺流程，提高了生产效率和良品率2.采用SIO2和TI3O5膜料的膜系无论分光发生什么样的偏移，丝印完后颜色效果都不会发生变化，可持续稳定生产。CN109023244ACN109023244A权利要求书1/1页1.一种盖板灰色NCVM镀膜制备工艺，其特征在于，包括以下步骤：（1）素材准备和检验；（2）产品上伞；（3）镀膜挂伞；（4）抽真空；（5）离子轰击；（6）真空成膜；（7）出炉放气；（8）产品下伞；（9）产品检验和包装。2.根据权利要求1所述的一种盖板灰色NCVM镀膜制备工艺，其特征在于，所述的步骤（1）为：选取纯度为99.999%，粒径大小为1-3mm的SIO2和TI3O5膜料以及宽度为16cm、宽度为20cm两种规格的保护膜；将待要镀NCVM的玻璃用平板清洗机清洗干净，不可有赃物、水印外观缺陷；把有划伤、脏物的不良玻璃挑出隔离。3.根据权利要求1所述的一种盖板灰色NCVM镀膜制备工艺，其特征在于，所述的步骤（2）为：将玻璃的待镀膜面朝上平铺在镀膜机的伞具上，并用磁铁将保护膜固定，防止脱落。4.根据权利要求1所述的一种盖板灰色NCVM镀膜制备工艺，其特征在于，所述的步骤（3）为：将伞具放入真空镀膜机，加入膜料；所述的步骤（4）为：将真空镀膜机的门关上，进行抽真空，真空度为6*10ˉ3Pa。5.根据权利要求1所述的一种盖板灰色NCVM镀膜制备工艺，其特征在于，所述的步骤（5）轰击时离子源阳极电压100V，轰击时离子源阴极电流8A，轰击时离子源阳极电流8A，轰击时间为5分钟。6.根据权利要求1所述的一种盖板灰色NCVM镀膜制备工艺，其特征在于，所述的步骤-3-3-3（6）成膜初始真空度5*10Pa；成膜后的真空度4*10Pa~3*10Pa；镀SIO2膜料时设置成膜速率为4.0Å/s.膜层厚度为165nm；为解决膜层太厚电子枪光斑会击穿坩埚的问题，将SIO2膜料分为两层两个坩埚，第一层的第一个坩埚的SIO2膜料厚度为800Å即80nm，第二层的第二个坩埚的SIO2膜料厚度为850Å即85nm，电子枪束流下限为70mA，上限为150mA，光斑大小调至比第一个坩埚中膜料外径小即可;镀TI3O5膜料时设置成膜速率为2.0Å/s，膜料厚度为460Å即46nm.，电子枪束流下限为300mA，上限为350mA，光斑大小调制为一个点在第三个坩埚中的TI3O5膜料的中心即可。7.根据权利要求1所述的一种盖板灰色NCVM镀膜制备工艺，其特征在于，所述的步骤（7）为：成膜完成后，将玻璃在机台中静置6分钟，然后打开进气阀让空气进入腔体，直至腔体门打开。8.根据权利要求1所述的一种盖板灰色NCVM镀膜制备工艺，其特征在于，所述的步骤（8）为：将镀完NCVM的玻璃整条取下，用覆膜机覆好保护膜以防膜层被污染，玻璃的非镀膜面覆宽度为20cm的保护膜，镀膜面覆16cm的保护膜。9.根据权利要求1所述的一种盖板灰色NCVM镀膜制备工艺，其特征在于，所述的步骤（9）为：取一片镀好的玻璃用可见光光谱测试仪测试光谱曲线，看分光是否一致，如果一致进入下一工序包装，不一致的进行隔离。2CN109023244A说明书1/3页一种盖板灰色NCVM镀膜制备工艺技术领域[0001]本发明涉及一种盖板灰色NCVM镀膜制备工艺，属于NCVM光学镀膜。背景技术[0002]传统的工艺繁琐，工艺参数的设定不准确，导致膜层易发生变化，不能稳定持续生产。发明内容[0003]为克服现有技术的缺陷，本发明提供一种盖板灰色NCVM镀膜制备工艺，本发明的技术方案是：一种盖板灰色NCVM镀膜制备工艺，包括以下步骤：（1）素材准备和检验