一种进料流速可变的还原炉底盘装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN109399641A(43)申请公布日2019.03.01(21)申请号201811594289.9(22)申请日2018.12.25(71)申请人亚洲硅业（青海）有限公司地址810007青海省西宁市经济技术开发区金硅路1号(72)发明人闫晓英韩成福高志明甘易武郑连基姜兴王天应(74)专利代理机构成都华风专利事务所(普通合伙)51223代理人代述波(51)Int.Cl.C01B33/035(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图2页(54)发明名称一种进料流速可变的还原炉底盘装置(57)摘要本发明涉及一种进料流速可变的还原炉底盘装置，属于还原炉技术领域，包括炉体和底盘；其特征在于：所述底盘的下端连接有与炉体相通的多个进料管；所述进料管朝向底盘的一端为喷料口，所述喷料口的内孔呈锥形；所述进料管内滑动设置有滑杆，所述滑杆的一端固定有挡板，另一端穿出进料管连接有伸缩机构；所述挡板靠近喷料口设置。本发明的有益效果是：在进料管内的流量不变的情况下，过料通道越小，从过料通道通过的物料的流速越大，喷射出的物料速度越大，通过调整挡板的位置，实现调整进料的流速，操作灵活方便，结构简单，利于推广应用。CN109399641ACN109399641A权利要求书1/1页1.一种进料流速可变的还原炉底盘装置，包括炉体和底盘；其特征在于：所述底盘的下端连接有与炉体相通的多个进料管；所述进料管朝向底盘的一端为喷料口，所述喷料口的内孔呈锥形；所述进料管内滑动设置有滑杆，所述滑杆的一端固定有挡板，另一端穿出进料管连接有伸缩机构；所述挡板靠近喷料口设置。2.根据权利要求1所述的还原炉底盘装置，其特征在于：所述进料管沿竖直方向设置。3.根据权利要求2所述的还原炉底盘装置，其特征在于：所述挡板呈圆形，且挡板的直径小于喷料口的大端直径，并大于喷料口的小端直径。4.根据权利要求3所述的还原炉底盘装置，其特征在于：所述滑杆与进料管之间设置有密封圈。5.根据权利要求4所述的还原炉底盘装置，其特征在于：所述底盘下端连接有进料总管，多个所述进料管均与进料总管相通。6.根据权利要求5所述的还原炉底盘装置，其特征在于：所述伸缩机构采用气缸或电动伸缩杆。7.根据权利要求1～6所述的还原炉底盘装置，其特征在于：所述炉体的外壁设置有多个测径装置。8.根据权利要求7所述的还原炉底盘装置，其特征在于：所述炉体的外壁开设有多个测量孔，还原炉上固定有封闭测量孔的钟罩，所述测径装置安装在钟罩上，钟罩采用透明材质。9.根据权利要求8所述的还原炉底盘装置，其特征在于：还包括控制器，每个所述测径装置的输出端分别与控制器的输入端电连接，控制器的输出端分别与每个伸缩机构的输入端电连接。10.根据权利要求9所述的还原炉底盘装置，其特征在于：所述控制器采用PLC控制器。2CN109399641A说明书1/3页一种进料流速可变的还原炉底盘装置技术领域[0001]本发明涉及还原炉技术领域，特别是涉及一种进料流速可变的还原炉底盘装置。背景技术[0002]目前国内外多晶硅生产企业主要采用“改良西门子法”，其生产流程是利用氯气和氢气合成氯化氢(或外购氯化氢)，氯化氢和硅粉在一定温度下合成三氯氢硅，然后提纯三氯氢硅后与氢气按一定比例混合后，在一定的温度压力下从还原炉的底盘上的进料管进入炉体内，在通电的高温硅芯上沉积生成多晶硅芯，反应尾气经底盘上的出气口排出。多晶硅还原炉是改良西门子法多晶硅沉积的关键反应器。多晶硅还原炉的设计直接影响多晶硅的产量、质量和生产成本，也是整个生产系统能耗控制的关键。[0003]还原炉主要由钟罩、底盘及附属组件等构成，还原炉进料孔径为固定尺寸，为保证还原炉内流场的相对均匀，只能通过在底盘进料孔出口处增加喷嘴的方式来改变进料流速，但此种方式只能固定喷嘴孔径，结构复杂，不便于操作，且调整不灵活。针对上述问题，本申请提出了解决方案。发明内容[0004]为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种进料流速可变的还原炉底盘装置，解决还原炉不便于调整进料速度的技术问题。[0005]本发明的目的是通过以下技术方案来实现的：一种进料流速可变的还原炉底盘装置，包括炉体和底盘；其特征在于：所述底盘的下端连接有与炉体相通的多个进料管；所述进料管朝向底盘的一端为喷料口，所述喷料口的内孔呈锥形；所述进料管内滑动设置有滑杆，所述滑杆的一端固定有挡板，另一端穿出进料管连接有伸缩机构；所述挡板靠近喷料口设置。[0006]优选地，所述进料管沿竖直方向设置。[0007]优选地，所述挡板呈圆形，且挡板的直径小于喷料口的大端直径，并大于喷料口的小端直径。[0008]优选地，所述滑杆与进料管之间设置有密封圈。[0009]优选地，所述底盘下端连接