一种缩短三扩散片扩散时间的工艺.pdf
一吃****瀚文
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一种缩短三扩散片扩散时间的工艺.pdf
本发明提供一种缩短三扩散片扩散时间的工艺,包括以下步骤:将清洗后的扩散片放置于预扩散用的容器内并进行摆片,将清洗后的扩散片进入预扩散炉中进行预扩散,将预扩散完成后的扩散片进入主扩散炉中进行主扩散,对主扩散完成后的扩散片进行主扩散后处理,对完成主扩散后处理的扩散片在预扩散炉内进行二次预扩散,对完成二次预扩散的扩散片在主扩散炉内进行二次主扩散,对二次主扩散完成后的扩散片进行出炉测试。本发明的有益效果是对扩散片进行两次预扩散和主扩散,可以大幅度的缩短扩散片的扩散时间,使得扩散片的主扩时间由原来的130~150h
一种降低双面扩散破片率缩短扩散工艺时间的方法.pdf
本发明公开了一种降低双面扩散破片率缩短扩散工艺时间的方法。本发明为将清洗制绒后的硅片进行磷扩散,其特征在于进、出舟时以不同的速度运行,空桨运行时以扩散设备所要求的最大速度运行,缩短扩散运行时间,增加扩散产能。硅片从进、出炉管时以较低的速度运行,降低热应力,降低扩散破片率。
一种扩散片退火工艺.pdf
本发明公开了一种扩散片退火工艺,首先选择厚度范围为150~200μm的扩散片作为衬底,通过表面清洗并注入N型离子,经炉管完全退火形成一定的扩散注入曲线,推结形成第一缓冲层;其次在扩散片正面依次完成N‑衬底层和正面金属层;再次将扩散片翻转180度,对扩散片背面进行研磨至设定厚度,再进行表面抛光处理和表面化学修复;然后依次进行N型离子掺杂和P型离子掺杂注入和至少一次的激光退火制程,形成第二缓冲层和P层;最后经过背金工艺完成扩散片背面金属层。本发明将扩散片与激光退火工艺优势互补,不仅满足了FS‑IGBT背面工艺
一种扩散片的制备方法、扩散片及终端.pdf
本申请实施例公开了一种扩散片的制备方法、扩散片及终端,属于光学技术领域;制备方法包括以下步骤:加工基材,加热基材以使基材的第一表面处于半熔融状态;加工第一表面,使用第一模板对第一表面进行压印,以使第一表面形成第一微结构;制得扩散片,冷却以使基材固化,并在第一表面涂覆第一防护层,以制得扩散片。在本申请实施例中,通过对处于半熔融状态的基材的表面进行压印以形成微结构,能够降低加工工艺要求。同时,通过在设置微结构的表面上涂覆防护层,可以使压印有微结构的表面光滑,不会有异物附着点且清洁方便;还可以起到防护作用,避免
一种单晶硅电池片扩散提效及扩散后处理氧化工艺.pdf
本发明公开了一种单晶硅电池片扩散提效及扩散后处理氧化工艺,属于太阳能电池片生产设备技术领域,一种单晶硅电池片扩散提效及扩散后处理氧化工艺,包括将单晶硅电池片置入快速平衡高温加热炉内,开启快速平衡高温加热炉,将炉体内温度升高至700‑800℃并快速达到温度平衡状态,通入含有POC13的氮气和氧气,进行扩散等步骤,可以实现将单晶硅电池片的扩散和扩散后处理氧化工艺同时在快速平衡高温加热炉内进行,快速平衡高温加热炉内设置的多个温度调节机构和导热机构可以快速加工炉体内的温度调节至平衡状态,保证炉体内部各个不问温度均