一种连续式镀膜装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN105568234A(43)申请公布日2016.05.11(21)申请号201610061031.7(22)申请日2016.01.28(71)申请人信利（惠州）智能显示有限公司地址516029广东省惠州市仲恺高新区新华大道南1号(72)发明人王学雷朱景河黄伟东李建华(74)专利代理机构广州三环专利代理有限公司44202代理人章兰芳(51)Int.Cl.C23C14/34(2006.01)C23C14/56(2006.01)C23C14/50(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图1页(54)发明名称一种连续式镀膜装置(57)摘要本发明提供一种连续式镀膜装置，包括真空镀膜腔室，所述真空镀膜腔室包括前腔室和后腔室，在后腔室内通过支撑架支撑倾斜平行设置的靶材、阴极及背板、载片架，所述载片架用于承载基片；在所述前腔室内通过支撑架支撑倾斜平行设置的正电极板与负电极板，基片从正电极板与负电极板之间通过，所述正电极板与负电极板在镀膜真空压力条件下起辉光，构成真空清洁设备；所述前腔室和后腔室通过中间设置的狭缝连通，所述狭缝供基片从前腔室移动到后腔室。在本发明提供的连续式镀膜装置的工作辉光区域与阴极靶材溅射区域相连，使得基片在镀膜前不接触腔室里的微粒，提高了膜层的质量。同时，镀膜前的辉光清洁也会提高膜层与基片的附着力，不会脱膜、掉膜。CN105568234ACN105568234A权利要求书1/1页1.一种连续式镀膜装置，包括真空镀膜腔室，所述真空镀膜腔室包括前腔室和后腔室，所述前腔室和后腔室均设有排气口，其特征在于：在所述后腔室内通过支撑架支撑倾斜平行设置的靶材、阴极及背板、载片架，所述载片架用于承载基片；在所述前腔室内通过支撑架支撑倾斜平行设置的正电极板与负电极板，基片从正电极板与负电极板之间通过，所述正电极板与负电极板在镀膜真空压力条件下起辉光，构成真空清洁设备；所述前腔室和后腔室通过中间设置的狭缝连通，所述狭缝供基片从前腔室移动到后腔室。2.根据权利要求1所述的连续式镀膜装置，其特征在于：所述前腔室为工作辉光区域，所述后腔室为阴极溅射辉光区域。3.根据权利要求1所述的连续式镀膜装置，其特征在于：所述真空清洁设备起辉光的镀膜真空压力范围为0.1-10Pa，溅射电压范围为1000-2000伏。4.根据权利要求1所述的连续式镀膜装置，其特征在于：在所述正电极板与负电极板、阴极及背板上设有冷却水管。5.根据权利要求1或4所述的连续式镀膜装置，其特征在于：所述正电极板与负电极板为不锈钢板或铜板。6.根据权利要求1或4所述的连续式镀膜装置，其特征在于：所述背板为铜背板。2CN105568234A说明书1/3页一种连续式镀膜装置技术领域[0001]本发明涉及液晶显示器制造技术领域，具体涉及一种连续式镀膜装置。背景技术[0002]目前，膜层的真空镀膜设备因为其本身腔室里的微粒(Particle)影响了镀膜的质量，造成镀膜产品因为膜内灰尘而影响生产良率，尤其是对膜层要求比较高的薄膜晶体管(ThinFilmTransistor，简称：TFT)显示器产品影响更大。膜内灰尘是一项重要监控指标，虽说采用枚叶式镀膜设备，但基片也会接触到腔室里的微粒(Particle)，造成膜层污染，以致达不到质量要求。使用目前的真空镀膜设备镀膜还存在膜层与基片的附着力低的问题，易脱膜、掉膜，导致膜层质量不佳。发明内容[0003]本发明提供一种连续式镀膜装置，通过在镀膜腔室里安装真空清洁设备，使膜层具有极少的微粒(Particle)，镀膜前的辉光清洁也会提高膜层与基片的附着力，不会脱膜、掉膜，提升了膜层质量，本发明适用于对膜层质量要求比较高的显示器，尤其是薄膜晶体管(TFT)显示器。[0004]为解决上述问题，本发明采用的技术方案为：[0005]本发明提供一种连续式镀膜装置，包括真空镀膜腔室，所述真空镀膜腔室包括前腔室和后腔室，所述前腔室和后腔室均设有排气口，在所述后腔室内通过支撑架支撑倾斜平行设置的靶材、阴极及背板、载片架，所述载片架带有滑轮，用于承载基片，所述载片架通过滑轮和导轨从前腔室移动到后腔室，所述导轨由支撑架支撑，前腔室和后腔室均设有所述导轨；在所述前腔室内通过支撑架支撑倾斜平行设置的正电极板与负电极板，在带有滑轮的载片架上的基片从正电极板与负电极板之间通过，所述正电极板与负电极板在镀膜真空压力条件下起辉光，构成真空清洁设备；[0006]所述前腔室和后腔室通过中间设置的狭缝连通，所述狭缝供基片从前腔室移动到后腔室。[0007]进一步地，所述前腔室为工作辉光区域，所述后腔室为阴极溅射辉光区域。[0008]进一步地，所述真空清洁设备起辉光的镀膜真空压力范围为0.1-10Pa，溅射电压范围为1