一种砷化镓单晶生长装置及生长方法.pdf
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一种砷化镓单晶生长装置及生长方法.pdf
本发明涉及一种砷化镓单晶生长装置及生长方法,属于晶体生长领域。本发明通过改进石英管形状和单晶炉的结构,实现从砷和镓原料到砷化镓单晶的一体化单晶生长工艺。本发明的石英管部件包括单晶石英管和W形多晶石英管,两者焊接在一起,再进行装料,之后抽真空焊接石英帽密封;单晶炉改造成水平和垂直转换炉体,通过控制使炉体从水平状慢慢垂直,合成多晶时为水平状,生长单晶时转动为垂直状,再通过温度控制生长出合格的单晶。本发明的方法减少砷化镓多晶合成和单晶生长的工序,缩短单晶生长的时间,杂质较少,生长的单晶性能和质量更好,成晶率更高
一种砷化镓单晶的生长方法.pdf
本发明公开了一种砷化镓单晶的生长方法。即将砷化镓多晶原料放入预先放置籽晶的PNB坩埚内,然后将PNB坩埚置于生长炉内的下降台上,下降台上放置1~5根PNB坩埚,调整生长炉炉体温度处于1200~1300℃,使籽晶顶部熔化后将下降台下降的同时并旋转,晶体生长结束后将PNB坩埚移至生长炉内的恒温区对GaAs晶体实行原位退火,退火过程控制生长炉内的温度为950~1100℃、时间为8~12h,然后再以20~70℃/h的速率降至室温,即得到GaAs单晶。本发明的一种砷化镓单晶的生长方法,生长的晶体热应力小和均匀性好,
一种VB法与VGF法结合快速生长低位错砷化镓单晶的生长装置及方法.pdf
本发明公开了一种VB法与VGF法结合快速生长低位错砷化镓单晶的生长装置,由炉体、石墨底座、PBN坩埚和提升装置组成;所述炉体包括6个加热区域和控制加热区域温度的6个温控装置,从下到上依次为第一区、第二区、第三区、第四区、第五区和第六区;石墨底座通过支撑底座设置于地面上;PBN坩埚设置于石英安瓶内,石英安瓶设置于石墨底座上;提升装置与炉体连接,能够拉动炉体以一定的拉速提升;炉体与PBN坩埚之间设置有石英罩,石英罩与支撑底座连接。不但能生长超低位错的晶体,而且放肩时间缩短20%,等径生长时间缩短50%,大大提
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一种多室砷化镓单晶生长炉及其生长方法,涉及砷化镓多晶,尤其是一种通过磁场诱导漩涡控制砷化镓单晶生长,提高砷化镓单晶生长效率的多室砷化镓单晶生长炉及其生长方法。本发明的多室砷化镓单晶生长炉及其生长方法,该生长方法利用多室砷化镓单晶生长炉进行合成,多室砷化镓单晶生长炉包括四个独立的炉室和与炉室配套的纵向磁场装置,炉室嵌套在纵向磁场装置中,四个炉室的纵向磁场装置通过导线连成一体,砷化镓多晶在生长过程中,通过磁场装置产生诱导漩涡,利用诱导漩涡控制单晶生长。本发明的多室砷化镓单晶生长炉及其生长方法,实现多炉室同步的
一种生长半绝缘砷化镓单晶的掺碳装置及掺碳方法.pdf
一种生长半绝缘砷化镓单晶的掺碳装置及掺碳方法,涉及半导体材料技术领域,包括石英管和PBN坩埚组,PBN坩埚组装于石英管内,石英管的两端安装有密封卡头,石英管的两端分别设置有管路,分别称为充气管路和排气管路,充气管路上设置有通断阀门三,充气管路上游为两个并联的支气管路,分别称为充氧管路和充碳管路,充氧管路连接有氧气源,充碳管路连接有碳气源,并且均通过阀门控制氧气源或碳气源的通断;排气管路的下游为两个并联的支气管路,分别称为放气管路和抽真空管路,放气管路上设置有阀门,抽真空管路上连接有抽真空装置。本申请可分别