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一种连续式硅碳负极动态CVD烧结炉.pdf
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本发明公开了连续式硅碳负极动态CVD烧结炉，包括安装平台、螺旋进料器、炉头罩、炉管和炉尾罩，炉管头端位于炉头罩内且尾端位于炉尾罩内，螺旋进料器与炉头罩密封对接，炉尾罩上设有出料口，炉管头端于炉头罩之外的部分设有第一密封法兰，第一密封法兰与炉头罩之间设有第一波纹管，第一密封法兰与第一波纹管之间密封连接，二者连接处的外周套有第一抽气罩，炉管尾端于炉尾罩之外的部分设有第二密封法兰，第二密封法兰与炉尾罩之间设有第二波纹管，第二密封法兰与第二波纹管之间密封连接，二者连接处的外周套有第二抽气罩。本发明采用抽气罩将可能
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