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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN111235628A(43)申请公布日2020.06.05(21)申请号201911367329.0(22)申请日2019.12.26(71)申请人南京晶能半导体科技有限公司地址210046江苏省南京市经济技术开发区兴智路6号兴智科技园(72)发明人吴春生罗汉昌朱其欢(74)专利代理机构南京苏高专利商标事务所(普通合伙)32204代理人张弛(51)Int.Cl.C30B15/30(2006.01)C30B29/06(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图2页(54)发明名称一种单晶炉用钨丝绳对中调节装置及单晶炉(57)摘要本发明公开了一种单晶炉用钨丝绳对中调节装置及单晶炉,钨丝绳在上下运动的过程中与滚轮滚动接触,磨损很小,避免污染硅料。另外,本发明采用两个方向对钨丝绳的位置进行调节,调节精度高,能让钨丝绳与转动中心保持较高的同心度。同时,调节完成后可以对调节机构进行锁紧,以免使用时间长后调节位置发生变化,安全可靠。两个方向的调节只需打开一个端盖就可以同时进行,操作方便,避免了重复的拆装工作。CN111235628ACN111235628A权利要求书1/1页1.一种单晶炉用钨丝绳对中调节装置,其特征在于,包括基座、位于基座内的滑动座、位于基座前端的滚轮支架、位于滚轮支架中间的滚轮、自前向后贯穿基座的滑动轴、位于滑动轴一侧且与滑动轴平行设置的径向调节螺钉;所述基座内部为中空的空腔,空腔的前端及后端设有向空腔两侧延伸的导轨,导轨的外侧为贯穿基座前端及后端的长槽,空腔内设有滑动座及两个楔块;滑动座面对楔块具有两个斜侧面,该两个斜侧面形成一个中间突出的三角形凸面;该两个楔块具有与两个斜侧面分别贴合的斜楔面;径向调节螺钉穿过两个楔块,且其中一个楔块的穿孔内设有与径向调节螺钉的外螺纹配合的内螺纹;当径向调节螺钉正转或反转时,两个楔块相对靠近或者相对远离;当两个楔块相对靠近时,滑动座被两个楔块挤压而沿着导轨向远离两个楔块的方向移动;滑动轴自前向后穿过滑动座,滑动轴与滑动座之间通过平面配合接触,滑动轴相对基座及滑动座向前或者向后移动。2.根据权利要求1所述的单晶炉用钨丝绳对中调节装置,其特征在于:所述滑动座内部设有开槽,开槽内设有滑动板,滑动板的两侧与开槽的两个内侧面定位。3.根据权利要求1或2所述的单晶炉用钨丝绳对中调节装置,其特征在于:两个楔块之间设有套在调节螺丝上的压缩弹簧,压缩弹簧的两端分别抵靠两个楔块。4.根据权利要求3所述的单晶炉用钨丝绳对中调节装置,其特征在于:所述基座的后端插入轴向调节螺钉,该轴向调节螺钉的前端抵靠滑动轴。5.一种具有如权利要求1至4中任一项所述单晶炉用钨丝绳对中调节装置的单晶炉,其特征在于,该单晶炉还包括钨丝绳及上提拉机构。2CN111235628A说明书1/3页一种单晶炉用钨丝绳对中调节装置及单晶炉技术领域[0001]本发明属于硅晶体材料单晶炉技术领域。背景技术[0002]直拉法硅单晶炉多用钨丝绳或者钢丝绳将籽晶浸入坩埚内的熔融原料中,在转动籽晶及坩埚的同时提拉籽晶,并在籽晶下端生长晶棒。这需要钨丝绳与转动中心保持较高的同心度,以保证晶体生长过程的稳定性及晶体质量。现阶段多在上提拉机构中安装塑料材质的保持环,用于限制钨丝绳的径向位置,保持与转动中心的大致同心。由于钨丝绳提拉晶体一直在上下移动,且钨丝绳硬度高,导致塑料件磨损加快,污染硅料。另外保持环的位置是固定的,无法进行调节,钨丝绳与坩埚的同心度不高。[0003]故,需要一种新的技术方案以解决上述技术问题。发明内容[0004]发明目的:本发明提供一种单晶炉用钨丝绳对中调节装置,以使钨丝绳在上下运动的过程中磨损很小,避免污染硅料同时,能让钨丝绳与转动中心保持较高的同心度。[0005]技术方案:为达到上述目的,本发明可采用如下技术方案:[0006]一种单晶炉用钨丝绳对中调节装置,包括基座、位于基座内的滑动座、位于基座前端的滚轮支架、位于滚轮支架中间的滚轮、自前向后贯穿基座的滑动轴、位于滑动轴一侧且与滑动轴平行设置的径向调节螺钉;[0007]所述基座内部为中空的空腔,空腔的前端及后端设有向空腔两侧延伸的导轨,导轨的外侧为贯穿基座前端及后端的长槽,空腔内设有滑动座及两个楔块;滑动座面对楔块具有两个斜侧面,该两个斜侧面形成一个中间突出的三角形凸面;该两个楔块具有与两个斜侧面分别贴合的斜楔面;径向调节螺钉穿过两个楔块,且其中一个楔块的穿孔内设有与径向调节螺钉的外螺纹配合的内螺纹;当径向调节螺钉正转或反转时,两个楔块相对靠近或者相对远离;当两个楔块相对靠近时,滑动座被两个楔块挤压而沿着导轨向远离两个楔块的方向移动;[0008]滑动轴自前向后穿过滑动座,滑动轴与滑动座之间通过平面配合接触,滑