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本发明是一种成膜装置,其至少具备:雾化部,其雾化原料溶液而产生雾;连接于所述雾化部、并输送含有所述雾的载气的配管;输送向含有所述雾的载气中混合、并以1种以上的气体为主成分的添加用流体的至少一根以上的配管;与成膜部连接、并输送将含有所述雾的载气和所述添加用流体混合后的混合雾流体的配管;连接部件,其连接输送含有所述雾的载气的配管、输送所述添加用流体的配管、以及输送所述混合雾流体的配管;以及成膜部,其对所述雾进行热处理而在基体上进行成膜,通过所述连接部件连接的、输送所述添加用流体的配管与输送所述混合雾流体的配管所成的角是120度以上。由此,提供一种能够应用成膜速度优异的雾化CVD法的成膜装置。