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成膜装置及成膜方法.pdf
2023-05-14
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成膜装置及成膜方法.pdf
本发明抑制在成膜装置中生长的膜中混入意料不到的杂质。本发明提供一种成膜装置，其通过向基体的表面供给溶液的喷雾而使膜在所述基体的所述表面生长，该成膜装置具有：加热炉，其收容并加热所述基体；以及喷雾供给装置，其向所述加热炉供给所述溶液的所述喷雾。所述成膜装置中的暴露在所述喷雾中的部分的至少其中一部分由含有氮化硼的材料制成。
2023-06-16
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成膜方法及成膜装置.pdf
本发明提供一种使用能够进行均匀蒸镀的升华型SiO作为靶材、且能够进行不着色而透明的成膜的方法及装置。以蒸镀面13a朝向成膜室12内侧的方式搬入基材13；在基材13的背面配置磁铁29；在配置于成膜室12内的坩埚21中收纳SiO；利用等离子体发生装置11对作为靶材22的SiO照射等离子体而使SiO蒸发；在基材13的蒸镀面13a侧由磁铁29的磁场形成等离子体限制空间35；通过在等离子体限制空间35内使所述蒸发出的SiO和等离子体反应而使SiO活化形成SiO
2023-06-19
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成膜装置及成膜方法.pdf
本发明是一种成膜装置,其至少具备:雾化部,其雾化原料溶液而产生雾;连接于所述雾化部、并输送含有所述雾的载气的配管;输送向含有所述雾的载气中混合、并以1种以上的气体为主成分的添加用流体的至少一根以上的配管;与成膜部连接、并输送将含有所述雾的载气和所述添加用流体混合后的混合雾流体的配管;连接部件,其连接输送含有所述雾的载气的配管、输送所述添加用流体的配管、以及输送所述混合雾流体的配管;以及成膜部,其对所述雾进行热处理而在基体上进行成膜,通过所述连接部件连接的、输送所述添加用流体的配管与输送所述混合雾流体的配管
2023-05-14
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本发明的课题是提供一种能够使用基于ALD的成膜方法在较低温度下成膜良好膜质的氮化膜的成膜方法及成膜装置。本发明的成膜方法是在腔室内于基板上成膜为氮化膜的成膜方法，重复进行原料气体吸附工序和氮化工序，且供给肼系化合物气体作为氮化气体的一部分或者全部，其中，所述原料气体吸附工序包括向基板上供给构成氮化膜的包含金属元素的原料气体的步骤、及对残留气体进行吹扫的步骤；所述氮化工序包括向基板上供给氮化气体的步骤、及对残留气体进行吹扫的步骤。
2023-11-14
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成膜装置以及成膜方法.pdf
本发明所要解决的技术问题是，实现材料利用效率以及作业率的提高，且防止以涂覆喷嘴的污染为起因的膜厚均匀性的降低。本发明中，成膜装置(1)中，具备：具有载置涂覆对象物(W)的载置面(2a)的台架(2)、使台架(2)在沿载置面(2a)的旋转方向旋转的旋转机构(3)、将材料排出到台架(2)上的涂覆对象物(W)上并进行涂覆的涂覆喷嘴(4)、使台架(2)和涂覆喷嘴(4)在与旋转方向相交的交差方向沿载置面(2a)相对移动的移动机构(5)、一面通过旋转机构(3)使载置了涂覆对象物(W)的台架(2)旋转，一面通过移动机构(
2023-06-20
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