化学气相沉积设备温度均匀控制的方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN111309070A(43)申请公布日2020.06.19(21)申请号201911375203.8(22)申请日2019.12.27(71)申请人清华大学无锡应用技术研究院地址214000江苏省无锡市滨湖区建筑西路777号A3幢13楼(72)发明人彭雨晴信吉平(74)专利代理机构无锡盛阳专利商标事务所(普通合伙)32227代理人顾吉云黄莹(51)Int.Cl.G05D23/20(2006.01)权利要求书1页说明书3页(54)发明名称化学气相沉积设备温度均匀控制的方法(57)摘要本发明公开了一种化学气相沉积设备温度均匀控制的方法，包括以下步骤：（1）划分出多个控制空间，在每个控制空间对应的沉积炉的炉壁区域的内表面安装温度传感器和电加热件，外表面安装冷却件；（2）采集实际温度值；（3）计算出各控制空间的实际温度值与各控制空间的理论温度值之间的差值；（4）根据得到的差值进行温度补偿。本发明将沉积设备的反应区分成多个控制空间，生产时，分空间实时监控沉积炉内温度，通过对采集的实际温度与理论温度值比较，得到误差补偿结果，以此分空间进行温度补偿，从而保证沉积炉内温度场分布均匀。CN111309070ACN111309070A权利要求书1/1页1.化学气相沉积设备温度均匀控制的方法，化学气相沉积设备包括沉积炉，其特征在于：包括以下步骤：（1）以沉积炉的竖向中心线为轴线，沿着沉积炉的周向将沉积炉的内腔划分出多个呈扇形的控制区域，将每个控制空间沿着沉积炉的高度方向划分出多个控制空间，在每个控制空间对应的沉积炉的炉壁区域的内表面安装温度传感器和电加热件，外表面安装冷却件；（2）采集各控制空间内的温度传感器检测到的各控制空间的实际温度值并传送给计算机；（3）计算机将各控制空间的实际温度值与各控制空间的理论温度值一一进行对比，计算出各控制空间的实际温度值与各控制空间的理论温度值之间的差值；（4）根据得到的各控制空间的实际温度值与各控制空间的理论温度值之间的差值对各控制空间进行温度补偿。2.如权利要求1所述的化学气相沉积设备温度均匀控制的方法，其特征在于：所述冷却件为水冷机构。3.如权利要求1或2所述的化学气相沉积设备温度均匀控制的方法，其特征在于：还包括数字孪生设备，所述数字孪生设备包括与各控制空间内的温度传感器连接的实时数据采集传输模块，实时数据采集传输模块的信号输出端分别通过数据孪生服务器、模型数据库与计算机连接，计算机的控制信号输出端通过控制总线连接现场控制设备。2CN111309070A说明书1/3页化学气相沉积设备温度均匀控制的方法技术领域[0001]本发明涉及化学气相沉积工艺领域，具体地说涉及一种化学气相沉积设备温度均匀控制的方法。背景技术[0002]化学气相沉积是一种化工技术，该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。[0003]然而沉积设备反应区温度对气体的反应影响很大，保证反应区温度均匀分布是沉积设备制造商迫切需要解决的问题。发明内容[0004]本发明所要解决的技术问题是提供一种能够保证沉积设备反应区温度场分布均匀的化学气相沉积设备温度均匀控制的方法。[0005]为了解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案：化学气相沉积设备温度均匀控制的方法，化学气相沉积设备包括沉积炉，包括以下步骤：（1）以沉积炉的竖向中心线为轴线，沿着沉积炉的周向将沉积炉的内腔划分出多个呈扇形的控制区域，将每个控制空间沿着沉积炉的高度方向划分出多个控制空间，在每个控制空间对应的沉积炉的炉壁区域的内表面安装温度传感器和电加热件，外表面安装冷却件；（2）采集各控制空间内的温度传感器检测到的各控制空间的实际温度值并传送给计算机；（3）计算机将各控制空间的实际温度值与各控制空间的理论温度值一一进行对比，计算出各控制空间的实际温度值与各控制空间的理论温度值之间的差值；（4）根据得到的各控制空间的实际温度值与各控制空间的理论温度值之间的差值对各控制空间进行温度补偿。[0006]进一步地，所述冷却件为水冷机构。[0007]进一步地，还包括数字孪生设备，所述数字孪生设备包括与各控制空间内的温度传感器连接的实时数据采集传输模块，实时数据采集传输模块的信号输出端分别通过数据孪生服务器、模型数据库与计算机连接，计算机的控制信号输出端通过控制总线连接现场控制设备。[0008]本发明的有益效果体现在：本发明将沉积设备的反应区分成多个控制空间，生产时，分空间实时监控沉积炉内温度，通过对采集的实际温度与理论温度值比较，得到误差补偿结果，以此分空间进行温度补偿，从而保证沉积炉内温度场分布均匀。3CN111309070A说明书2/3页具体实施方式[0009]下面