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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN111574027A(43)申请公布日2020.08.25(21)申请号202010280396.5(22)申请日2020.04.10(71)申请人彩虹集团有限公司地址712000陕西省咸阳市彩虹路1号(72)发明人赵宇峰孙钢智张涛张生明韩永荣(74)专利代理机构西安通大专利代理有限责任公司61200代理人马贵香(51)Int.Cl.C03B5/16(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图1页(54)发明名称一种TFT-LCD基板玻璃窑炉环境控制装置及控制方法(57)摘要本发明公开了一种TFT-LCD基板玻璃窑炉环境控制装置及控制方法,所述装置包括连接的铂金通道和窑炉,铂金通道和窑炉位于玻璃窑炉内,玻璃窑炉位于外部大气环境内。铂金通道设置于玻璃窑炉后端,外部大气环境设置于窑炉区域和通道封闭区域外部,各区域之间形成单独空间压力仓,玻璃窑炉的前端位和后端部分别设有进风装置和排风装置,通道区域的前端位和后端部分别设有进风装置和排风装置,使窑炉区域和通道区域向外部大气内渗透,使玻璃窑炉前端和后端面风速及环境压差得到控制,使通道区域前端和后端面风速及环境压差得到控制,使窑炉区域和通道区域内环境气流均同玻璃液流向一致,到达工艺生产要求的断面风速、压差及气流组织。CN111574027ACN111574027A权利要求书1/1页1.一种TFT-LCD基板玻璃窑炉环境控制装置,其特征在于,包括玻璃窑炉(1),所述玻璃窑炉(1)内固定设置有铂金通道(2)和窑炉(11),铂金通道(12)和窑炉(11)连通;玻璃窑炉(1)的前端侧壁上固定设置有第一送风装置(4),玻璃窑炉(1)的后端侧壁上固定设置有第一排风装置(5);铂金通道(2)的前端侧壁上固定设置有第二送风装置(6),铂金通道(2)的后端侧壁上固定设置有第二排风装置(7);所述玻璃窑炉(1)位于外部大气环境(3)中。2.根据权利要求1所述的一种TFT-LCD基板玻璃窑炉环境控制装置,其特征在于,第一送风装置(4)出风口的中心线和第一排风装置(5)吸风口的中心线相同;第二送风装置(6)出风口的中心线和和第二排风装置(7)吸风口的中心线在相同。3.根据权利要求1所述的一种TFT-LCD基板玻璃窑炉环境控制装置,其特征在于,所述玻璃窑炉(1)内的压力比铂金通道区域(2)内的压力小0.1-10Pa。4.根据权利要求1所述的一种TFT-LCD基板玻璃窑炉环境控制装置,其特征在于,所述玻璃窑炉(1)内的压力比外部大气环境(3)的压力大0.1-15Pa。5.根据权利要求1所述的一种TFT-LCD基板玻璃窑炉环境控制装置,其特征在于,铂金通道区域(2)比外部大气环境(3)的压力大5-25Pa。6.根据权利要求1所述的一种TFT-LCD基板玻璃窑炉环境控制装置,其特征在于,所述第一送风装置(4)的送风速度为1-8m/s。7.根据权利要求1所述的一种TFT-LCD基板玻璃窑炉环境控制装置,其特征在于,所述第二送风装置(6)的送风速度为2-10m/s。8.根据权利要求1所述的一种TFT-LCD基板玻璃窑炉环境控制装置,其特征在于,所述玻璃窑炉(1)内的气流流动方向和窑炉(11)内玻璃液流动方向相同;所述铂金通道(2)内的气流流动方向和铂金通道(2)内的玻璃液流动方向相同。9.一种基于权利要求1-8任意一项所述控制装置的控制方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1,密封玻璃窑炉(1)和铂金通道(2),连通铂金通道(2)和窑炉(11);步骤2,开启第一送风装置(4)、第一排风装置(5)、第二送风装置(6)和第二排风装置(7)。10.根据权利要求9所述的控制方法,其特征在于,还包括以下步骤:步骤4,通过调整第一送风装置(4)的送风速度,使得玻璃窑炉(1)内的压力比外部大气环境(3)的压力大0-15Pa;通过调整第二送风装置(6),使得铂金通道区域(2)比外部大气环境(3)的压力大5-25Pa;通过调整第一送风装置(4)和第二送风装置(6),使得玻璃窑炉(1)内的压力比铂金通道区域(2)内的压力小0.1-10Pa。2CN111574027A说明书1/4页一种TFT-LCD基板玻璃窑炉环境控制装置及控制方法【技术领域】[0001]本发明属于暖通空调空气调节与TFT基板玻璃生产领域,具体涉及一种TFT-LCD基板玻璃窑炉环境控制装置及控制方法。【背景技术】[0002]在TFT基板玻璃生产过程中,热端设备区域环境气流方向变化对整个生产工艺影响很大,行业生产中,热端设备区域环境气流流向及大小已列为重要的工艺控制参数范畴。目前,国内外行业生产中,热端设备区域环境气流流向及大小还没有一个完全定性标准。而且在TFT基板玻璃生产过程中,各成型区域设备均在一个