离子源移动装置及离子植入装置.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115910730A(43)申请公布日2023.04.04(21)申请号202211020205.7B65G35/00(2006.01)(22)申请日2022.08.24(30)优先权数据2021-1606662021.09.30JP(71)申请人日新离子机器株式会社地址日本国京都府京都市南区久世殿城町575番地(72)发明人西村一平小野田正敏丹羽雄一(74)专利代理机构北京戈程知识产权代理有限公司11314专利代理师程伟王锦阳(51)Int.Cl.H01J37/08(2006.01)H01J27/02(2006.01)B65G47/24(2006.01)权利要求书1页说明书11页附图6页(54)发明名称离子源移动装置及离子植入装置(57)摘要本发明涉及离子源移动装置及离子植入装置,目的在于能够令离子源平稳地升降，使对装置本体装卸离子源的作业的作业性提升。本发明的离子源移动装置是能对于要以在第一水平方向与装置本体对置的方式固定至装置本体且具有腔室的离子源，能够使该离子源以一边使离子源的重心升降并一边使相对于装置本体的倾斜度变化的方式移动；该离子源移动装置构成为具备：支持构件，能支持固定在腔室的外侧的第一被支持构件；可动构件，连结在支持构件；及升降机构，能一边限制可动构件往与既定的第二方向交叉的方向移动，并一边使可动构件沿第二方向升降移动。CN115910730ACN115910730A权利要求书1/1页1.一种离子源移动装置，对于要以在第一水平方向与离子植入装置的装置本体相对置的方式固定至所述离子植入装置的装置本体且具有腔室的离子源，使所述离子源以一边使所述离子源的重心升降并一边使其相对于所述装置本体的倾斜度变化的方式移动；所述离子源移动装置具备：支持构件，能支持固定在所述腔室的外侧的第一被支持构件；可动构件，连结在所述支持构件；及升降机构，能一边限制所述可动构件往与既定的第二方向交叉的方向移动，并一边使所述可动构件沿所述第二方向升降移动。2.根据权利要求1所述的离子源移动装置，其中，一对所述第一被支持构件分别固定在所述腔室的在水平方向相对置的一对侧壁；所述可动构件构成为能在所述支持构件将各所述第一被支持构件一起支持的状态下沿所述第二方向移动。3.根据权利要求1所述的离子源移动装置，其中，所述第二方向为铅直方向；且构成为在所述离子源固定在所述装置本体的状态下而从侧视观看时，所述离子源的重心与所述第一被支持构件沿铅直方向位在同一直线上。4.根据权利要求2所述的离子源移动装置，其中，所述第二方向为铅直方向；且构成为在所述离子源固定在所述装置本体的状态而从侧视观看时，所述离子源的重心与所述第一被支持构件沿铅直方向位在同一直线上。5.根据权利要求1至4中任一项所述的离子源移动装置，更具备使所述可动构件在以俯视观看时是沿所述第一水平方向移动的移送机构。6.根据权利要求5所述的离子源移动装置，其中，构成为，所述腔室具有：等离子体产生部侧腔室构件，在内部产生等离子体；及电极侧腔室构件，以能够装卸在所述等离子体产生部侧腔室构件的方式构成，收容用以从所述等离子体取出离子束的电极；在所述等离子体产生部侧腔室构件固定有能被所述支持构件支持的第二被支持构件；在所述电极侧腔室构件固定在所述装置本体且所述第二被支持构件被所述支持构件支持的状态下令所述可动构件沿所述第一水平方向及所述第二方向移动，据此能使所述等离子体产生部侧腔室构件从所述电极侧腔室构件脱离。7.一种离子植入装置，具备：装置本体；离子源，具有腔室且以在第一水平方向与所述装置本体相对置的方式固定至所述装置本体；及离子源移动装置，能使所述离子源以一边使所述离子源的重心升降一边使相对于所述装置本体的倾斜度变化的方式移动；所述离子源移动装置具备：支持构件，能支持固定在所述腔室的外侧的第一被支持构件；可动构件，连结在所述支持构件；及升降机构，能一边限制所述可动构件往与既定的第二方向交叉的方向移动，并一边使所述可动构件沿所述第二方向升降移动。2CN115910730A说明书1/11页离子源移动装置及离子植入装置技术领域[0001]本发明涉及有关能在对装置本体装卸离子(ion)源的作业中使用的离子源移动装置及具备该离子源移动装置的离子植入装置。背景技术[0002]平面显示器(flatpaneldisplay)制程和半导体制程中所使用的离子植入装置是将产生离子束(beam)的离子源固定至装置本体来组装。此外，当进行配置在离子源内部的零件的更换作业时和进行离子源内部的清扫作业等时，必须在将离子源从装置本体拆除并进行上述作业后，重新将离子源安装回装置本体。就在将离子源安装至装置本体的作业时或将离子源从装置本体拆除的作业时使离子源移动的移动机构而言，