一种银钯铟靶材及其制备方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN113564543A(43)申请公布日2021.10.29(21)申请号202110818657.9(22)申请日2021.07.20(71)申请人昆山嘉美荣材料科技有限公司地址215300江苏省苏州市昆山市花桥镇蓬善村星利富民合作社星光工业园20B号厂房(72)发明人张小军陈林玉(74)专利代理机构南京纵横知识产权代理有限公司32224代理人董建林(51)Int.Cl.C23C14/34(2006.01)C22C5/06(2006.01)权利要求书1页说明书4页(54)发明名称一种银钯铟靶材及其制备方法(57)摘要本发明公开了一种银钯铟靶材及其制备方法，包括以下步骤：向中频炉中投入银、铟和钯金进行熔炼；待原料全部熔融且液面呈镜面时进行浇铸，冷却后获得铸锭；对铸锭进行轧制，获得半成品；对半成品进行热处理；后处理获得银钯铟靶材成品。本发明提供的银钯铟靶材及其制备方法，操作简单，所制备的银钯铟靶材抗盐雾和抗氧化能力强，材料晶粒细化程度高。CN113564543ACN113564543A权利要求书1/1页1.一种银钯铟靶材的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：向中频炉中投入银、铟和钯金进行熔炼；待原料全部熔融且液面呈镜面时进行浇铸，冷却后获得铸锭；对铸锭进行轧制，获得半成品；对半成品进行热处理；后处理获得银钯铟靶材成品。2.根据权利要求1所述的银钯铟靶材的制备方法，其特征在于，所述银含量为99.99%以上，所述铟和钯金的含量均为99.95%以上。3.根据权利要求1所述的银钯铟靶材的制备方法，其特征在于，所述银、铟和钯金的投料质量比为（80.5‑99.4）：（0.1‑9.5）：（0.5‑10）。4.根据权利要求1所述的银钯铟靶材的制备方法，其特征在于，熔炼时，先投入一半质量的银，银熔融后投入铟，铟熔融后快速投入钯金，待钯金熔融后投入剩下的银，采用石墨搅拌直到合金全部熔融，加入木炭保温10分钟。5.根据权利要求1所述的银钯铟靶材的制备方法，其特征在于，浇筑时采用石墨浇铸模具，浇筑前将石墨浇铸模具置于280℃恒温预热15分钟。6.根据权利要求1所述的银钯铟靶材的制备方法，其特征在于，轧制时，将铸锭置于冷轧机平台上，轧辊开口开到铸锭厚度后下降3mm，每次轧制的延压方向一致，每次轧制均下降3mm‑4mm，轧制到成品厚度基础上预留2‑3mm作为加工余量。7.根据权利要求1所述的银钯铟靶材的制备方法，其特征在于，热处理时，半成品放置于加热炉中，温度调节到400℃，保温时间为1h。8.根据权利要求1所述的银钯铟靶材的制备方法，其特征在于，后处理包括：去头尾、铣削加工、清洗和干燥。9.根据权利要求1所述的银钯铟靶材的制备方法，其特征在于，熔炼和轧制后均需取样进行样品质量检测。10.一种银钯铟靶材，其特征在于，采用权利要求1~9中任一项所述的银钯铟靶材的制备方法制备获得。2CN113564543A说明书1/4页一种银钯铟靶材及其制备方法技术领域[0001]本发明属于靶材技术领域，具体涉及一种银钯铟靶材及其制备方法。背景技术[0002]随着电子工业的飞速发展，银钯材因其优异的性能，在电子元器件领域具有很高的使用价值和经济价值。但是现有的银钯材抗盐雾能力差、易氧化、晶粒尺寸大，影响靶材的使用寿命和使用效果。发明内容[0003]本发明的目的在于克服现有技术中的不足，提供一种银钯铟靶材及其制备方法，操作简单，所制备的银钯铟靶材抗氧化能力强，材料晶粒细化程度高。[0004]本发明提供了如下的技术方案：[0005]一种银钯铟靶材的制备方法，包括以下步骤：[0006]向中频炉中投入银、铟和钯金进行熔炼；[0007]待原料全部熔融且液面呈镜面时进行浇铸，冷却后获得铸锭；[0008]对铸锭进行轧制，获得半成品；[0009]对半成品进行热处理；[0010]后处理获得银钯铟靶材成品。[0011]进一步的，所述银含量为99.99％以上，所述铟和钯金的含量均为99.95％以上。[0012]进一步的，所述银、铟和钯金的投料质量比为(80.5‑99.4)：(0.1‑9.5)：(0.5‑10)。[0013]进一步的，熔炼时，先投入一半质量的银，银熔融后投入铟，铟熔融后快速投入钯金，待钯金熔融后投入剩下的银，采用石墨搅拌直到合金全部熔融，加入木炭保温10分钟。[0014]进一步的，浇筑时采用石墨浇铸模具，浇筑前将石墨浇铸模具置于280℃恒温预热15分钟。[0015]进一步的，轧制时，将铸锭置于冷轧机平台上，轧辊开口开到铸锭厚度后下降3mm，每次轧制的延压方向一致，每次轧制均下降3mm‑4mm，轧制到成品厚度基础上预留2‑3mm作为加工余量。[0016]进一步的，热处理时，半成品放置于加热炉中，温度调节到400