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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN113871331A(43)申请公布日2021.12.31(21)申请号202111123010.0(22)申请日2021.09.24(71)申请人中国电子科技集团公司第四十八研究所地址410111湖南省长沙市天心区新开铺路1025号(72)发明人曾裕民陈若愚王学仕万喜新(74)专利代理机构湖南兆弘专利事务所(普通合伙)43008代理人戴玲(51)Int.Cl.H01L21/677(2006.01)F27D3/00(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图5页(54)发明名称一种用于立式氧化炉的片盒进出传送装置(57)摘要本发明公开了一种用于立式氧化炉的片盒进出传送装置,包括机架、片盒承载台、升降台、升降机构、推送机构和计数单元,升降机构设于机架内,升降台设于升降机构的驱动端,片盒承载台和推送机构设于升降台上,推送机构用于推动片盒承载台伸出机架,机架顶部设有可供片盒承载台通过避让槽,计数单元包括光电传感器和反光镜,光电传感器和反光镜分设于避让槽的两侧。本发明进料和出料过程不需要人员参与,自动化程度高,通过升降机构的升降方式结合激光发射接受单元和反光镜,实现片盒在传送过程中可以自动完成片盒硅片数量统计,代替人工方式,提高了效率。CN113871331ACN113871331A权利要求书1/1页1.一种用于立式氧化炉的片盒进出传送装置,其特征在于:包括机架(1)、片盒承载台(2)、升降台(3)、升降机构(4)、推送机构(5)和计数单元,所述升降机构(4)设于机架(1)内,所述升降台(3)设于升降机构(4)的驱动端,所述片盒承载台(2)设于升降台(3)上,所述推送机构(5)用于推动片盒承载台(2)伸出机架(1),所述机架(1)顶部设有可供片盒承载台(2)通过避让槽(11),所述计数单元包括激光发射接受单元(61)和反光镜(62),所述激光发射接受单元(61)和反光镜(62)分设于避让槽(11)的两侧。2.根据权利要求1所述的用于立式氧化炉的片盒进出传送装置,其特征在于:所述片盒承载台(2)的四角均设有用于定位片盒(7)的定位块(21)。3.根据权利要求1所述的用于立式氧化炉的片盒进出传送装置,其特征在于:所述片盒承载台(2)上设有检测是否有片盒(7)的检测元件(8)。4.根据权利要求3所述的用于立式氧化炉的片盒进出传送装置,其特征在于:所述检测元件(8)包括压块(81)、弹簧(82)和光电开关(83),所述片盒承载台(2)设有安装槽(22),所述压块(81)设于安装槽(22)内,所述光电开关(83)设于安装槽(22)的下方,所述压块(81)底部设有导杆(84),所述弹簧(82)套在导杆(84)上,并抵设在压块(81)与光电开关(83)之间。5.根据权利要求1至4任意一项所述的用于立式氧化炉的片盒进出传送装置,其特征在于:所述片盒承载台(2)上设有限制片盒(7)伸出的限位开关(9)。6.根据权利要求1至4任意一项所述的用于立式氧化炉的片盒进出传送装置,其特征在于:所述升降机构(4)为伺服电机与丝杠的组合,或者升降机构(4)为直线电机;或者所述升降机构(4)为电机与皮带的组合。7.根据权利要求1至4任意一项所述的用于立式氧化炉的片盒进出传送装置,其特征在于:所述推送机构(5)包括无杆气缸(51)和导轨(52),所述无杆气缸(51)和导轨(52)分设于片盒承载台(2)的两侧,所述导轨(52)上设有滑块(521),所述片盒承载台(2)均与无杆气缸(51)的移动块(511)和滑块(521)连接。8.根据权利要求7所述的用于立式氧化炉的片盒进出传送装置,其特征在于:所述导轨(52)的两端设有防撞缓冲块(53)。9.根据权利要求1至4任意一项所述的用于立式氧化炉的片盒进出传送装置,其特征在于:所述机架(1)的底部设有行走轮(12)。10.一种用于立式氧化炉的片盒进出传送装置,其特征在于:包括机架(1)、片盒承载台(2)、升降台(3)、升降机构(4)、推送机构(5)和计数单元,所述升降机构(4)设于机架(1)内,所述升降台(3)设于升降机构(4)的驱动端,所述片盒承载台(2)设于升降台(3)上,所述推送机构(5)用于推动片盒承载台(2)伸出机架(1),所述机架(1)顶部设有可供片盒承载台(2)通过避让槽(11),所述计数单元包括激光发射单元和激光接受单元,所述激光发射单元和激光接受单元分设于避让槽(11)的两侧。2CN113871331A说明书1/4页一种用于立式氧化炉的片盒进出传送装置技术领域[0001]本发明涉及半导体设备技术领域,尤其涉及一种用于立式氧化炉的片盒进出传送装置。背景技术[0002]立式氧化炉作为半导体生产线前工序的重要工艺设备,随着工艺技术的不断完