

管式PECVD硅片颜色值预测方法及镀膜时间控制方法.pdf
飞飙****ng
在线预览结束,喜欢就下载吧,查找使用更方便
相关资料
管式PECVD硅片颜色值预测方法及镀膜时间控制方法.pdf
本发明揭示一种管式PECVD硅片颜色值预测方法及镀膜时间控制方法,包括以下步骤:采集炉管的运行大数据,构建大数据训练集,所述运行大数据包括炉管参数、镀膜工艺参数和硅片颜色值y,所述镀膜工艺参数包括镀膜时间t;以所述炉管参数和镀膜工艺参数为输入,以硅片颜色值为输出,通过机器学习算法对所述大数据训练集进行训练,得到映射函数y=f(x);以包括k倍的镀膜时间t的炉管参数和镀膜工艺参数为输入,以硅片颜色值y为输出,构建硅片颜色值预测模型,其中0.5<k<0.9,技术效果:基于炉管的运行大数据实现实时地预测在镀膜过
管式PECVD镀膜时间自动生成方法.pdf
本发涉及一种管式PECVD镀膜时间自动生成方法。本发明的方法中,正常镀膜生产过程中,设定一个目标膜厚值Th,a.设定一个参与自动计算的舟的轮数值m;第1舟的镀膜时间设定为T1,第m舟的镀膜时间Tm=Th×(Tm-1+Tm-2…+T1)/(Thm-1+Thm-2…+Th1);b.第m舟镀膜完成后的第n舟镀膜时间Tn=Th×(Tn-1+Tn-2…+Tn-m)/(Thn-1+Thn-2…+Thn-m)。本发明能够通过软件编程,自动计算单个石墨舟前若干轮镀膜的平均膜厚,并及时将计算数值与设定膜厚进行对比,通过计算
一种硅片PECVD镀膜效果的检测方法.pdf
本发明提供一种硅片PECVD镀膜效果的检测方法,将工艺腔室各单管的硅烷和氨气的比例调整为一致;将工艺腔室第一部分单管的硅烷流量设定为第一流量值,将工艺腔室第二部分单管的硅烷流量设定为第二流量值,将工艺腔室各单管的氨气流量设定为第三流量值;将硅片放在石墨舟中,以第一预设速度进入工艺腔室;将盛放硅片的石墨舟在工艺腔室中停留预设时长进行镀膜;将盛放硅片的石墨舟以第二预设速度传出工艺腔室;根据镀膜测量结果确定工艺腔室各单管的镀膜效果。由于盛放硅片的石墨舟可以快速地进入和传出工艺腔室,本发明实施例能够快速地对硅片的
一种双面镀膜方法及管式PECVD设备.pdf
本发明实施例提供一种双面镀膜方法及管式PECVD设备,方法包括:从上下料工位将装有电池片的石墨舟载具送入设有一个镀膜源的反应室中;检测电池片的第一待镀表面为正面或背面,控制调整镀膜条件为第一镀膜条件,并在第一待镀表面上沉积形成第一膜层;从石墨舟载具上取出电池片,进行翻转后,将电池片插入石墨舟载具中;控制调整镀膜条件为第二镀膜条件,并在第二待镀表面上沉积形成第二膜层;其中,第一待镀表面和第二待镀表面分别为电池片的正面和背面,第一镀膜条件和第二镀膜条件不相同;将装有电池片的石墨舟载具从反应室内输出至上下料工位
管式PECVD镀膜均匀性的研究.pptx
添加副标题目录PART01技术背景和发展历程PECVD镀膜技术原理管式PECVD设备结构和工作原理PART02反应气体浓度分布反应气体流量控制反应温度和时间基片旋转和移动速度PART03优化反应气体浓度分布精确控制反应气体流量精确控制反应温度和时间优化基片旋转和移动速度PART04实验设备和方法实验结果和数据分析结果与理论预测的对比分析PART05研究结论对管式PECVD镀膜技术发展的影响未来研究方向和展望感谢您的观看