一种钨钛溅射靶材的制备方法.pdf
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一种钨钛溅射靶材的制备方法.pdf
本发明公开了一种钨钛溅射靶材的制备方法,涉及靶材制备领域,其包括:1)将质量份数为90的纯度≥4N的钨粉、质量份数1‑5的纯度≥3N5的钛粉、质量份数为5‑10.4的纯度≥3N5的氢化钛粉末加入到行星球磨罐内进行球磨;2)对球磨的粉末进行过筛处理,再进行真空干燥;3)将干燥后的粉末装入热压石墨模具中;4)将石墨模具置于真空热压炉的压头正下方,并对模具进行预压0.5Mpa‑2MPa,设定烧结参数进行烧结,然后将模具取出进行脱模操作;5)放入真空退火炉中进行真空退火,退火完成后对钨钛毛坯进行各种机加工至所需产
溅射靶材用钨钛合金板的制备方法.pdf
本发明公开了一种溅射靶材用钨钛合金板的制备方法,该方法包括以下步骤:1.将钨粉与钛粉置于三维混料器中混合,然后用冷等静压机成型,得到钨钛合金靶材生坯;2.将钨钛合金靶材生坯置于真空热压烧结炉内制备钨钛合金板坯;3.将钨钛合金板坯表面打磨光滑后切割至所需尺寸;4.将经切割后的钨钛合金板坯置于真空退火炉内退火,得到钨钛合金板。本发明制备过程充分利用钨钛合金粉末,后期只需少许机械加工即可,成品率高,制备过程中不会产生任何废料、废酸等污染物。
一种超高纯铝硅钛溅射靶材合金的制备方法.pdf
本发明提供了一种超高纯铝硅钛溅射靶材合金的制备方法,所述制备方法包括以下步骤:(1)原料硅、原料钛和原料铝进行预处理;(2)设备和工具进行表面涂层处理;(3)预处理后的原料进行熔炼;(4)熔炼后的合金进行依次除气和结晶成型;(5)合金材料进行变形工艺,形成所述超高纯硅钛溅射靶材合金;所述制备方法通过优选高纯度原料和合金熔融步骤,同时在设备和工具表面涂层处理,实现了金属元素的纯度控制和均匀分布,得到了杂质H元素的含量水平符合要求、晶粒均匀的超高纯度铝靶材。
一种应用溅射法制备高纯度钛溅射靶材的方法.pdf
一种应用溅射法制备高纯度钛溅射靶材的方法,使用溅射法生产的纯度为99.9%以上的钛合金为原料,采用电子束冷床炉熔炼获得高纯钛毛坯(纯度在99.98%以上),对钛毛坯铣面并精修磨后对钛方坯切头,再切成锻造毛坯所要求的尺寸,对锻造毛坯探伤,将合格的锻造毛坯加热至980~1020℃,采用三镦三拔对锻造毛坯进行锻造,在终拔时将锻件模锻成所需规格棒材,并对锻件退火后车除棒材表面氧化皮,去除两头的锻帽后再锯切成所需规格的小柱块;车光小柱块的两锯切端面,对底部内车铣,预留出边缘,对预留边缘倒角,再对另一端部开丝,进一步
一种CdTe溅射靶材的制备方法.pdf
本发明涉及一种CdTe溅射靶材的制备方法,属于太阳能电池材料领域。该方法包括如下步骤:(1)将真空熔炼制备的CdTe块体,破碎研磨成粉,将得到的CdTe粉末装入模具,进行冷压成型;(2)冷压成型后,放置于热压炉内,进行真空热压烧结;热压温度在500~800℃,压力为20MPa~200MPa,温保压时间30min~120min;(3)真空热压烧结完成后,停炉冷却、脱模取料,进行机械加工。通过本发明方法得到的CdTe溅射靶材的致密度可以达到98%以上,平均晶粒尺寸在45nm以下,靶材结晶度达到80%以上。