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(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115725944A(43)申请公布日2023.03.03(21)申请号202211546039.4(22)申请日2022.12.05(71)申请人基迈克材料科技(苏州)有限公司地址215000江苏省苏州市吴江汾湖经济开发区汾杨路东侧(72)发明人朱伟(74)专利代理机构苏州企知鹰知识产权代理事务所(普通合伙)32420专利代理师薛芳芳(51)Int.Cl.C23C14/34(2006.01)C22C27/04(2006.01)B22F3/14(2006.01)B22F3/24(2006.01)权利要求书1页说明书6页附图2页(54)发明名称一种钨钛溅射靶材的制备方法(57)摘要本发明公开了一种钨钛溅射靶材的制备方法,涉及靶材制备领域,其包括:1)将质量份数为90的纯度≥4N的钨粉、质量份数1‑5的纯度≥3N5的钛粉、质量份数为5‑10.4的纯度≥3N5的氢化钛粉末加入到行星球磨罐内进行球磨;2)对球磨的粉末进行过筛处理,再进行真空干燥;3)将干燥后的粉末装入热压石墨模具中;4)将石墨模具置于真空热压炉的压头正下方,并对模具进行预压0.5Mpa‑2MPa,设定烧结参数进行烧结,然后将模具取出进行脱模操作;5)放入真空退火炉中进行真空退火,退火完成后对钨钛毛坯进行各种机加工至所需产品要求。本发明的制备方法能够制备密度高、晶粒细的钨钛溅射靶材,工艺简单效率高。CN115725944ACN115725944A权利要求书1/1页1.一种钨钛溅射靶材的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:1)将质量份数为90的纯度≥4N的钨粉、质量份数1‑5的纯度≥3N5的钛粉、质量份数为5‑10.4的纯度≥3N5的氢化钛粉末加入到行星球磨罐内进行球磨;2)对球磨的粉末进行过筛处理,再进行真空干燥;3)将干燥后的粉末按照产品尺寸计算出所需重量后装入热压石墨模具中;4)将石墨模具置于真空热压炉的压头正下方,并对模具进行预压0.5Mpa‑2MPa,设定烧结参数进行烧结,然后将模具取出进行脱模操作;5)对烧结的毛坯靶进行简单的处理,然后放入真空退火炉中进行真空退火,退火完成后对钨钛毛坯进行各种机加工至所需产品要求。2.根据权利要求1所述的一种钨钛溅射靶材的制备方法,其特征在于:在步骤1中,球磨的参数为:球料比1:1‑10:1、球磨转速1500r/min‑300r/min、球磨时间4h‑16h、球磨介质为乙醇分析纯、装载量为球磨罐体积1/3~2/3。3.根据权利要求2所述的一种钨钛溅射靶材的制备方法,其特征在于:其中球磨所选磨球为高纯钛球,磨球为的大中小三种尺寸的配球,比例为3~5:2~5:2~4。4.根据权利要求3所述的一种钨钛溅射靶材的制备方法,其特征在于:其中所选球磨罐体为真空钛罐,装料密封后对罐体抽真空。5.根据权利要求1所述的一种钨钛溅射靶材的制备方法,其特征在于:在步骤2中,筛网采用60目、80目、100目、120目;并且对球磨后的粉末进行真空干燥的条件为干燥温度40℃‑80℃、干燥时间2h‑10h。6.根据权利要求1所述的一种钨钛溅射靶材的制备方法,其特征在于:在步骤3中,装模时首先在底部及内部四周垫石墨纸,将粉末分次加入到石墨腔内,每加一层均需使粉末平整,然后再放石墨纸。7.根据权利要求6所述的一种钨钛溅射靶材的制备方法,其特征在于:其中石墨模具及石墨纸均需均匀喷涂六方氮化硼脱模剂。8.根据权利要求1所述的一种钨钛溅射靶材的制备方法,其特征在于:在步骤4中,首先,将炉体抽真空至100Pa以下,先以5℃/min‑10℃/min升温至700℃‑800℃并保温1h‑4h;然后以3℃/min‑8℃/min升温至1200℃‑1350℃,保温0.5h‑4h;然后按照升温速率计算升至高温的时间,以0.5MPa/min‑4MPa/min升压至15MPa‑40MPa,使高温和高压同时达到后进行保温。9.根据权利要求8所述的一种钨钛溅射靶材的制备方法,其特征在于:保温结束后,关闭加热,压力按照1MPa/min‑5MPa/min的速度进行撤压至0MPa。10.根据权利要求1所述的一种钨钛溅射靶材的制备方法,其特征在于:在步骤5中,首先去掉表面的石墨纸,然后放入真空退火炉中进行真空退火,将炉体抽真空至100Pa以下,以5℃/min‑10℃/min升温至300‑500℃并保温0.5‑2h,然后继续以3℃/min‑8℃/min升温至600℃‑1000℃,保温2h‑10h进行退火,保温结束后随炉冷却至室温后取出。2CN115725944A说明书1/6页一种钨钛溅射靶材的制备方法技术领域[0001]本发明涉及半导体金属靶材的制备方法,更具体地说,它涉及一种钨钛溅射靶材的制备方法。背景技术[0002]钨作为一种高熔点