

一种外延晶圆的生产控制方法和装置.pdf
一条****涛k
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相关资料
一种外延晶圆的生产控制方法和装置.pdf
本发明提供一种外延晶圆的生产控制方法和装置。外延晶圆的生产控制方法应用于外延反应炉,外延反应炉包括工艺腔室和位于所述工艺腔室内的加热模组,所述加热模组包括多组位于不同位置的加热单元;所述方法包括以下步骤:获取晶圆的实时边缘变形量;比较预设的晶圆边缘变形量和所述晶圆的实时边缘变形量,当所述晶圆的实时边缘变形量大于所述预设的晶圆边缘变形量,调整所述加热模组的加热总功率和不同加热单元的功率比例,直至所述晶圆的实时边缘变形量小于等于所述预设的晶圆边缘变形量。本发明实施例能够降低晶圆的形状变化,从而实现降低晶圆的外
一种改善外延晶圆平坦度的方法以及外延晶圆.pdf
本发明实施例公开了一种改善外延晶圆平坦度的方法以及外延晶圆,所述方法包括:在抛光晶圆的表面通过外延沉积反应生长一层外延层以制备得到外延晶圆;利用物理气相沉积法在所述外延晶圆的外延层表面沉积一层薄膜层;利用等离子刻蚀法去除所述外延晶圆表面的所述薄膜层和局部外延层;去除所述外延晶圆表面残留的所述薄膜层后,测量所述外延晶圆的平坦度并判断所述平坦度是否满足目标要求;若所述外延晶圆的平坦度满足目标要求,清洗所述外延晶圆并烘干后以获得满足所述目标要求的外延晶圆。
一种硅晶圆的加工方法、控制装置及外延反应设备.pdf
本发明实施例提供一种硅晶圆的加工方法、控制装置及外延反应设备,该方法包括:在硅晶圆完成外延沉积后,调整硅晶圆上的印记与支撑杆的相对位置,印记为装载硅晶圆时支撑杆与硅晶圆接触形成的;通过支撑杆将硅晶圆从基座中抬升至指定位置。本发明实施例中,在硅晶圆完成外延沉积后,先调整硅晶圆上的印记与支撑杆的相对位置,然后控制支撑杆将硅晶圆从基座中抬升至指定位置,使支撑杆在装载硅晶圆与卸载硅晶圆时与硅晶圆接触的位置尽量一致,从而减少硅晶圆背面印记的面积,提高硅晶圆的质量。
一种晶圆传送装置和晶圆传送方法.pdf
本申请公开了一种晶圆传送装置和晶圆传送方法,涉及半导体设备制造领域。其中,晶圆传送装置包括处理腔室、导气管道和加热组件,本申请实施例通过在处理腔室的腔室内壁与外壳之间设置导气管道并在导气管道与腔室内壁间设置加热组件,使传送装置启动后通过加热组件对处理腔室和导气管道同时进行加热以起到气体烘干的效果,减少晶圆上的残留腐蚀气体在传送过程中冷凝生成聚合物。由此降低对晶圆传送装置造成污染和腐蚀,在保护晶圆传送装置的同时提高产品良率、降低运营成本。
用于调控晶圆外延生长均匀性的装置及方法.pdf
本发明涉及一种用于调控晶圆外延生长均匀性的装置及方法,该用于调控晶圆外延生长均匀性的装置包括加热炉、托盘、支撑杆、温度传感器、引线及温度控制模块,托盘与支撑杆均安装于加热炉内,托盘用于放置生长晶圆或测温晶圆,支撑杆连接托盘,支撑杆用于驱动托盘转动;温度传感器安装于托盘上,引线的一端连接温度传感器,另一端连接温度控制模块,引线穿设支撑杆,并用粘接剂密封;工作时,生长晶圆或测温晶圆用于放置于温度传感器上。本装置通过温度传感器实时监测生长晶圆或测温晶圆的表面温度,且将监测的温度在线反馈至温度控制模块进行控温,测