盐以及含有该盐的光致抗蚀剂组合物.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN101921219A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CNCN101921219101921219A(43)申请公布日2010.12.22(21)申请号201010203131.1C07C25/18(2006.01)(22)申请日2010.06.10C07C17/35(2006.01)C07C309/12(2006.01)(30)优先权数据G03F7/039(2006.01)2009-1409582009.06.12JPG03F7/00(2006.01)(71)申请人住友化学株式会社地址日本国东京都(72)发明人市川幸司杉原昌子坂本宏(74)专利代理机构中科专利商标代理有限责任公司11021代理人柳春琦(51)Int.Cl.C07C381/12(2006.01)C07C309/17(2006.01)C07C303/32(2006.01)C07D307/00(2006.01)C07D333/46(2006.01)权利要求书2页说明书43页(54)发明名称盐以及含有该盐的光致抗蚀剂组合物(57)摘要本发明提供一种盐以及含有该盐的光致抗蚀剂组合物。一种以式(a1)表示的盐，其中Q1和Q2各自独立地表示氟原子或C1-C4全氟烷基；X1表a1a2a1a2示-CO-O-X-或-CH2-O-X-，其中X和X各自独立地表示C1-C15亚烷基，并且所述亚烷基中的1一个或多个-CH2-可以被-O-或-CO-代替；Y表示C3-C36脂环族烃基或C6-C24芳族烃基，并且所述脂环族烃基和所述芳族烃基可以具有一个或多个取代基，并且所述脂环族烃基中的一个或多+个-CH2-可以被-O-或-CO-代替；并且Z表示有机阳离子。CN1092ACN101921219ACCNN110192121901921220A权利要求书1/2页1.一种以式(a1)表示的盐：其中Q1和Q2各自独立地表示氟原子或C1-C4全氟烷基，1a1a2a1a2X表示-CO-O-X-或-CH2-O-X-，其中X和X各自独立地表示C1-C15亚烷基，并且所述亚烷基中的一个或多个-CH2-可以被-O-或-CO-代替，Y1表示C3-C36脂环族烃基或C6-C24芳族烃基，并且所述脂环族烃基和所述芳族烃基可以具有一个或多个取代基，并且所述脂环族烃基中的一个或多个-CH2-可以被-O-或-CO-代替，并且Z+表示有机阳离子。2.根据权利要求1所述的盐，其中Y1表示C3-C36脂环族烃基或C6-C24芳族烃基，并且所述脂环族烃基和所述芳族烃基中的一个或多个氧原子可以被氟原子，C1-C4烷基，C1-C4氟化烷基，羟基，氰基，C2-C8酰基，C2-C8酰氧基或羧基取代。3.根据权利要求1所述的盐，其中Y1是由式(Y1-1)，(Y1-2)，(Y1-3)，(Y1-4)或(Y1-5)表示的基团：其中，R21，R22，R23，R24和R25在每次出现时独立地为氟原子，C1-C4烷基，C1-C4氟化烷基，羟基或羧基，并且s1表示0至3的整数，s2表示0至3的整数，s3表示0至5的整数，s4表示0至2的整数，并且s5表示0至2的整数。4.根据权利要求1所述的盐，其中Z+是由式(IXa)表示的阳离子：其中，Pa，Pb和Pc各自独立地表示C1-C30烷基，C3-C30脂环族烃基或C6-C20芳族烃基，2CCNN110192121901921220A权利要求书2/2页并且所述烷基中的一个或多个氢原子可以被羟基，C1-C12烷氧基或C3-C12环烃基取代，并且所述脂环族烃基中的一个或多个氢原子可以被羟基，C1-C12烷基或C1-C12烷氧基取代，并且所述芳族烃基中的一个或多个氢原子可以被羟基，C1-C12烷基或C1-C12烷氧基取代，或abP和P彼此结合以形成环，其中一个或多个-CH2-可以被-O-，-S-，-SO2-或-CO-代替。5.根据权利要求4所述的盐，其中Pa，Pb和Pc各自独立地表示C6-C20芳族烃基，并且所述芳族烃基中的一个或多个氢原子可以被羟基，C1-C12烷基或C1-C12烷氧基取代。6.一种光致抗蚀剂组合物，其包含根据权利要求1所述的盐以及树脂，所述树脂包含具有酸不稳定基团的结构单元，并且不溶或难溶于碱水溶液，但通过酸的作用变得可溶于碱水溶液。7.根据权利要求6所述的光致抗蚀剂组合物，其中所述光致抗蚀剂组合物还包含碱性化合物。8.一种用于制造光致抗蚀剂图案的方法，所述方法包括以下步骤(1)至(5)：(1)将根据权利要求6或7所述的光致抗蚀剂组合物涂覆在衬底上的步骤，(2)通过进行干燥形成光致抗蚀剂膜的步骤，(3)将所述光致抗蚀剂膜对辐射曝光的步骤，(4)烘焙已曝光的光致抗蚀剂膜的步骤，和(5)用碱性显影剂使已烘焙的光致抗蚀剂膜显影，从而形成光致抗蚀剂图案的步骤