一种掺杂氧化锡的银靶材及其制备方法和应用.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN110344011A(43)申请公布日2019.10.18(21)申请号201910689581.7(22)申请日2019.07.29(71)申请人福建阿石创新材料股份有限公司地址350200福建省福州市长乐市航城街道琴江村太平里169号(72)发明人张科陈钦忠邱树将李小锦(74)专利代理机构北京高沃律师事务所11569代理人董大媛(51)Int.Cl.C23C14/35(2006.01)C22C5/06(2006.01)C03C17/09(2006.01)权利要求书1页说明书5页附图1页(54)发明名称一种掺杂氧化锡的银靶材及其制备方法和应用(57)摘要本发明提供了一种掺杂氧化锡的银靶材及其制备方法和应用，属于靶材制备技术领域。包含0.05～1.0％质量百分含量的氧化锡，余量为银。本发明中，氧化锡是一种n型宽禁带半导体，在电磁波可见光范围内吸收率很小而具有极高的透射率，在可见光区透过率可达80％以上，并且对紫外区的光线具有极高的反射率。掺杂氧化锡的银膜作为低辐射玻璃功能层，在允许可见光进入室内的同时，将紫外光挡在了户外，可有效减弱紫外线对人体健康以及物品老化的影响，并且可在很大程度上改善现存的纯银膜反射可见光的问题，使低辐射玻璃可见光透过率和红外线反射率提高，且降低了生产成本。CN110344011ACN110344011A权利要求书1/1页1.一种掺杂氧化锡的银靶材，其特征在于，包含0.05～1.0％质量百分含量的氧化锡，余量为银。2.根据权利要求1所述的掺杂氧化锡的银靶材，其特征在于，所述氧化锡的质量百分含量为0.1％。3.权利要求1或2所述的掺杂氧化锡的银靶材的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：将Ag熔化后加热保温，得到液态银；将所述液态银和氧化锡混合后浇铸，得到铸锭；将所述铸锭依次进行高温均匀化退火、ECAP挤压和低温退火，得到退火产物；将所述退火产物进行轧制，得到轧制物料；将所述轧制物料进行再结晶退火，得到所述掺杂氧化锡的银靶材。4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述加热保温的温度为1150～1200℃，时间为10～15min。5.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述高温均匀化退火的温度为500～600℃，时间为1～3h。6.根据权利要求3或5所述的制备方法，其特征在于，所述低温退火的温度为300～350℃，时间为1～3h。7.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述ECAP挤压的道次为4～6次，挤压速率为0.1～10mm/s。8.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述轧制时道次变形量为10～20％，总变形量不小于60％。9.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述再结晶退火的温度为300～350℃，时间为1～3h。10.权利要求1～2任一项所述的掺杂氧化锡的银靶材或权利要求3～9任一项所述制备方法制得的掺杂氧化锡的银靶材作为低辐射玻璃功能层的应用。2CN110344011A说明书1/5页一种掺杂氧化锡的银靶材及其制备方法和应用技术领域[0001]本发明涉及靶材制备技术领域，尤其涉及一种掺杂氧化锡的银靶材及其制备方法和应用。背景技术[0002]磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相沉积镀膜方式，是真空镀膜技术中应用最广的不断发展的技术之一，在工业生产和科学领域发挥着极大的作用。溅射法可以用于制备金属、半导体、绝缘体等，而且所需设备简单、容易控制、镀膜面积大。在溅射过程中，靶材表面的原子与氩离子发生能量和动量的交换，随后溅射出来，落在基体的表面形成一层薄膜。材料通过镀膜可以提高材料的表面硬度、耐磨性、耐蚀性、耐热性，从而满足材料不同的使用需求，磁控溅射镀膜其关键之处在于使用的靶材。[0003]随着世界能源危机日益严重，低辐射玻璃因具有可见光透过率高、红外线反射率高、节能环保等特点登上了舞台。低辐射玻璃在保证采光性能的前提下，可以反射大部分中远红外辐射，使得热量的散失大大降低，减少能源损耗，具有优异的隔热效果和采光性。目前低辐射玻璃的制备技术已经相当成熟，因为其具有低辐射节能优点，成为市场上发展最迅速、应用范围最广、前景最好的镀膜产品。当前很大部分低辐射玻璃以银膜作为功能层，其辐射率较低，但是存在反射可见光的问题，并且对紫外线的阻隔较差。发明内容[0004]有鉴于此，本发明的目的在于提供一种掺杂氧化锡的银靶材及其制备方法和应用。本发明提供的掺杂氧化锡的银靶材能够提高可见光透过率和红外线反射率。[0005]为了实现上述发明目的，本发明提供以下技术方案：[0006]本发明提供了一种掺杂氧化锡的银靶材，包含0.05～1.0％质量百分含量的氧化锡，余量为银。[0007]优选地，所述氧化锡的质量百分含量为0.1％。