四齿配体、金(III)配合物及其制备方法和应用.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112409243A(43)申请公布日2021.02.26(21)申请号201910789219.7H01L51/54(2006.01)(22)申请日2019.08.23(71)申请人支志明地址中国香港薄扶林道香港大学庄月明化学楼505室(72)发明人支志明(74)专利代理机构北京集佳知识产权代理有限公司11227代理人王小清(51)Int.Cl.C07D213/30(2006.01)C07D401/04(2006.01)C07D213/26(2006.01)C07F1/12(2006.01)C09K11/06(2006.01)权利要求书8页说明书40页附图8页(54)发明名称四齿配体、金(III)配合物及其制备方法和应用(57)摘要本发明提供一种具有式(I)结构的四齿配位基金(III)配合物，该配合物作为发光器件中的发光层材料或掺杂剂，得到的发光器件具有高的外量子效率，且效率滚降低；此外，本发明提供的四齿配体的制备工艺简单，收率理想，更关键的是该原料的制备反应可控定，结果重现性好，适于工业化应用。CN112409243ACN112409243A权利要求书1/8页1.一种金(III)配合物，其特征在于，所述金(III)配合物具有如式(I)所示的化学结构：其中，X1、X2、X3独立地选自碳或氮，且X1、X2、X3中有且仅有一个为氮；Y1为O、CR15R16或S；R1～R16独立地选自氢、氘、卤素、硝基、氰基、异氰基、三氟甲基，或独立地选自取代或未取代的以下基团：烷基、环烷基、链烯基、环烯基、炔基、芳基、芳烷基、杂烷基、杂环烷基、杂环烯基、杂芳基、杂芳烷基、烷氧基、芳氧基、杂芳氧基、NR17R18、酰基、酰氨基、酰氧基、酯基、酰胺基、磺酰氨基、磺酰氧基、磺酸酯、磺酰胺或三烷基硅基；其中，R17、R18独立地选自取代或未取代的以下基团：烷基、环烷基、链烯基、环烯基、炔基、芳基、芳烷基、杂烷基、杂环烷基、杂环烯基、杂芳基、杂芳烷基、烷氧基、芳氧基或杂芳氧基；或者，R1～R18中任意两个相邻或相近的基团与它们所在的碳原子形成5～15元环。2.根据权利要求1所述的金(III)配合物，其特征在于，所述R1～R16独立地选自氢、氚、卤素、硝基、氰基、异氰基、三氟甲基，或独立地选自取代或未取代的以下基团：C1～15的烷基、C3～18的环烷基、C2～15的链烯基C3～18的环烯基、C2～15的炔基、C6～30的芳基、C7～35的芳烷基、C2～20的杂烷基、C3～20的杂环烷基、C5～30的杂环烯基、C5～30的杂芳基、C6～30的杂芳烷基、C1～20的烷氧1718基、C6～30的芳氧基、C5～30的杂芳氧基、NRR、酰基、酰氨基、酰氧基、酯基、酰胺基、磺酰氨基、磺酰氧基、磺酸酯基、磺酰胺基或三烷基硅基；其中，R17、R18独立地选自取代或未取代的以下基团：C1～15的烷基、C3～18的环烷基、C2～15的链烯基C3～18的环烯基、C2～15的炔基、C6～40的芳基、C7～45的芳烷基、C2～20的杂烷基、C3～20的杂环烷基、C5～30的杂环烯基、C5～30的杂芳基、C6～30的杂芳烷基、C1～20的烷氧基、C6～30的芳氧基或C5～30的杂芳氧基；优选的，所述NR17R18为下列结构所示的基团或下列结构所示基团上的氢被一个或多个、相同或不同取代基取代的衍生基团：其中，Y2为O、S、CR20R21、SiR22R23或NR24，R20～R24独立地选自氢、氘、卤素、取代或未取代的C1～15的烷基、取代或未取代的C6～30的芳基；取代的衍生基团中的取代基为卤素、C1～20的烷基、C1～20的烷氧基、C1～20的烷硫基、5～6元环烷基、5～6元杂环烷基、C6～30的芳基、C6～30的芳氧基、C5～30的杂芳基、C2～15的烯基或C2～15的炔基。3.根据权利要求1所述的金(III)配合物，其特征在于，所述R1～R16的基团的碳原子总2CN112409243A权利要求书2/8页数为1～80，优选为6～60，更优选为12～50。4.根据权利要求1所述的金(III)配合物，其特征在于，所述R1～R16中至少有一个不为氢；且/或，R1～R1414中的至少之一为NR17R18；且/或，R1～R14中存在1～3个为NR17R18的基团；且/或，R2、R3、R6、R9、R12、R13中的至少之一为NR17R18。5.根据权利要求1所述的金(III)配合物，其特征在于，所述R1～R16为含取代基的基团时，基团上的取代基为卤素、硝基、氰基、三氟甲基、C1～20的烷基、C1～20的烷氧基、C1～20的烷硫基、5～6元环烷基、5～6元杂环烷基、C6～30的芳基、C6～30的芳氧基、C5～30的杂芳