一种超痕量高纯联苯醚二酐的制备方法.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115073405A(43)申请公布日2022.09.20(21)申请号202210893502.6(22)申请日2022.07.27(71)申请人河北海力香料股份有限公司地址052165河北省石家庄市经济技术开发区金沙路2号(72)发明人李文革张云堂邵帅王晶晓李朋王盼盼(74)专利代理机构河北国维致远知识产权代理有限公司13137专利代理师任青(51)Int.Cl.C07D307/89(2006.01)权利要求书1页说明书4页(54)发明名称一种超痕量高纯联苯醚二酐的制备方法(57)摘要本发明涉及精制提纯技术领域，具体公开一种超痕量高纯联苯醚二酐的制备方法。所述制备方法包括以下步骤：将联苯醚四甲酸、盐酸分别加入到溶剂中，于125℃～140℃条件下溶解1h～3h，然后在搅拌条件下加入硅酸钠，搅拌0.5h～1h，降温至20℃～30℃后过滤，得滤饼；将所述滤饼经烘干、真空升华，得所述联苯醚二酐。采用本申请提供的制备方法，联苯醚四甲酸经一次处理即可得到目标产物，产品收率高达95％左右，产品纯度达到99.95％以上，产品中金属离子的含量低于80ppb，且生产过程中基本无废水产生，工艺简单，有利于进行工业推广和应用。CN115073405ACN115073405A权利要求书1/1页1.一种超痕量高纯联苯醚二酐的制备方法，其特征在于：所述制备方法包括以下步骤：步骤一、将联苯醚四甲酸、盐酸分别加入到溶剂中，于125℃～140℃条件下溶解1h～3h，然后在搅拌条件下加入硅酸钠，搅拌0.5h～1h，降温至20℃～30℃后过滤，得滤饼，所述盐酸与所述硅酸钠的质量比为1～3:0.5～1；步骤二、将所述滤饼经烘干、真空升华，得所述联苯醚二酐。2.如权利要求1所述的超痕量高纯联苯醚二酐的制备方法，其特征在于：所述盐酸与所述联苯醚四甲酸的质量比为0.01～0.03:1。3.如权利要求1所述的超痕量高纯联苯醚二酐的制备方法，其特征在于：所述溶剂为体积浓度为60％～70％的乙醇水溶液。4.如权利要求1所述的超痕量高纯联苯醚二酐的制备方法，其特征在于：所述联苯醚四甲酸与所述溶剂的质量比为1:4.5～5.5。5.如权利要求1所述的超痕量高纯联苯醚二酐的制备方法，其特征在于：所述硅酸钠的模数为2.5或3.3。6.如权利要求1所述的超痕量高纯联苯醚二酐的制备方法，其特征在于：所述硅酸钠的加入方式为滴加，且滴加时间为25min～35min；和/或所述搅拌的速度为800rpm～1000rpm。7.如权利要求1所述的超痕量高纯联苯醚二酐的制备方法，其特征在于：所述盐酸的浓度为25wt％～32wt％。8.如权利要求1所述的超痕量高纯联苯醚二酐的制备方法，其特征在于：所述真空升华的条件为：温度为210℃～240℃，真空度为1mmHg～3mmHg。9.如权利要求1所述的超痕量高纯联苯醚二酐的制备方法，其特征在于：所述烘干的温度为100℃～105℃。10.如权利要求1所述的超痕量高纯联苯醚二酐的制备方法，其特征在于：所述溶解过程中的压力为0.8Mpa～1Mpa；和/或所述降温过程中的转速为100rpm～200rpm。2CN115073405A说明书1/4页一种超痕量高纯联苯醚二酐的制备方法技术领域[0001]本发明涉及精制提纯技术领域，尤其涉及一种超痕量高纯联苯醚二酐的制备方法。背景技术[0002]联苯醚二酐(ODPA)能广泛应用于航空航天、微电子、纳米、液晶、分离过滤膜等领域。因应用领域不同，对联苯醚二酐品的纯度、洁净度的要求也不同。如电子级联苯醚二酐是制备聚酰亚胺的主要原料，航空航天用电子极聚酰亚胺对产品的纯度、洁净度、颗粒晶型、有机残留物、金属离子等污染物均有严格要求，甚至对金属离子的要求达到partperbillion级，并要求产品的纯度大于99.95％，因此对其制备原料的纯度和洁净度也有极高的要求。[0003]而现有工艺制备的ODPA，产纯度可以99.5％～99.9％，金属离子只能达到ppm级别，使其难以满足应用于航空航天的电子极聚酰亚胺对原料的要求。即便通过加入大量混合溶剂进行金属离子脱除，也仅仅是得到金属离子量为1000ppb～5000ppb的ODPA，同时还会产生大量废液造成环保问题。因此，为满足聚酰亚胺作为特种工程材料在应用领域不断发展的要求，亟需寻找一种金属离子超痕量的高纯ODPA的制备方法，对企业打开ODPA高端市场和减少企业环保压力具有重要意义。发明内容[0004]鉴于此，本申请提供一种超痕量高纯ODPA的制备方法，利用盐酸与硅酸钠反应产生硅酸胶体，再通过降温使硅酸胶体与联苯醚四甲酸分子进行充分胶连，形成立体网状结构，能充分将含有的金属离子除去，再通过一步联苯醚四甲酸高温脱水、升华得到金属离子